离化团束淀积光学薄膜实验装置的研制和性能实验

研制了离化团束淀积装置。目前的实验结果,使用离化团束淀积技术在玻璃冷基底上镀制的ZnS膜MgF₂膜的机械牢固性较电子束在同样条件下制备的ZnS膜和MgF₂膜较强。用反应性离化团束技术制备的ZnO膜具有优良的取向结构。通过控制参数可以控制ZnO膜的结晶结构。     

光学薄膜制备中的激光测温技术

概述激铫测温技术在光学薄膜制备中的应用及其在自动化方面的新进展。     

光学薄膜制备中的激光测温技术

概述激光测温技术在光学薄膜制备中的应用及其在自动化方面的新进展     

高质量光学薄膜制备用新型无栅

介绍一种无栅霍尔离子束辅助镀膜系统.并对该系统的特点、性能和应用结果作了叙述.     

EDM和MC新技术一束

电蚀铣削(EDM Milling)是瑞士夏米尔新近推出的新技术，新产品估计到今年底可正式面市。此项新技术打破了必须先制造出与工件形状相对应的电极(俗称铜公)作为电蚀媒介的传统，而只需用一支简单的圆形铜柱，通过精密的电极损耗补偿，再加上CAD／CAM图像，便能加工出任何形状复杂的模     

中药制备新技术

阐述了提取新技术中超临界流体萃取、分子蒸馏、膜分离、大孔树脂及冷冻干燥技术,对中药制剂新技术中包合技术、微型包囊技术及中药缓控释技术的特点及应用也做了说明。     

蒸发诱导自组装法制备多孔二氧化硅光学薄膜

报道采用溶胶—凝胶技术、蒸发诱导自组装法,通过酸/酸二步法控制实验条件,实验中采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为模板剂,正硅酸乙酯为硅源,以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料制备前驱体溶胶。加入不同量的1,3,5-三甲基苯(TMB)辅助剂来调整膜的孔径。简单提拉迅速蒸发溶剂制备多孔二氧化硅光学薄膜,利用红外光谱对样品进行结构分析,采用UV-VIS-NIR分光光度计测量了薄膜的透过光谱,原子力显微镜(AFM)观察发现多孔薄膜的表面形貌具有明显的多孔结构、表面光滑、均匀;结果表明所制备的薄膜有好的光学性能、机械性能。     

功能复合光学薄膜的制备及光学性能研究

研究了溶胶－凝胶法和ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ工艺制备染料／ＯＲＭＯＳＩＬ、染料／聚合物薄膜的制备工艺、结构、光学性质及光存储性能及其相互关系。研究表明：Ｐｒ４ＶＯＰｃ（四丙基取代钒氧酞菁）－ＰＭＭＡ－四氧乙烷溶液和菁染料－ＰＶＡ（聚乙烯醇）－二丙酮醇溶液都为牛顿型液体。ＩＰ１２－Ｄ１０１－ＰＶＡ薄膜获得了５８ｄＢ的载噪比ＣＮＲ，记录过程中，载波信号强度Ｃ、ＣＮＲ和记录前后薄膜反射率变化ΔＲ的对数存     

碳离子束注入辅助蒸发低温沉积DLC薄膜研究

采用碳离子束注入辅助蒸发技术低温沉积了DLC薄膜,对薄膜沉积的工艺参数进行了优化,并对该薄膜的摩擦学行为进行了探讨。研究发现:碳离子束注入辅助蒸发技术沉积的DLC薄膜在离子量为3.0×1017ions/cm2,沉积率为0.1nm/s时具有最小的摩擦因数(<0.1);电流为2.0mA比3.0mA条件下所沉积的DLC薄膜表面光滑;磨损试验后,DLC薄膜的表面只有轻微磨损的痕迹。     

基于ART的光学过程层析成像扇束图像重建

光学过程层析成像是近几年发展起来的一种新型的光学测量技术，它源于医学CT的基本理论和方法，可认为是医学CT技术在工业过程监测领域的自然延伸和发展。然而，由于过程层析成像的被测对象为快速变化的工业过程，因此，其投影数据的数量比医学CT少得多，而实时性则要求更高。利用一种扇束扫描制式的光学传感器有利于提高光学过程层析成像的空间分辨率及测量精度，但在这种扫描制式下，引用医学CT的常见图像重建算法(如数据重排方法、反投影法和滤波反投影法等)却不适用或难以胜任工业检测的要求。为此提出了一种代数重建技术来提高光学过程层析成像的测量精度和速度。该算法不仅适用于少数投影数据的情况，也能使求解过程遍历几乎所有的图像像元，因此成像效果好和实时性较高，具有工程应用价值。     

A Device for Sublimation Molecular-Beam Deposition of Silicon Films

A device for sublimation molecular-beam deposition of P-doped silicon films on standard silicon wafers with diameters of up to 76 mm is described. Uniform deposition was performed through asymmetric arrangement of the sublimation source relative to the wafer, which was rotated about its axis.     

Electrochemical Deposition of Solid Lubricant Films

This paper describes a new technique for producing adherent solid lubricant films with full control of thickness and location. MoS₂ and FeCl₂/CrCl₃ coatings are formed on Mo and Fe/Cr wires respectively by electrochemical deposition from a bath of molten LiCl/KCl, and their frictional behaviour is studied at 400 C. It is suggested that this method has applications in fundamental studies of solid-film and extreme-pressure lubrication, and also in warm wire-drawing and other metal-forming processes.     

光盘中使用的光学薄膜

介绍了用于ＣＤ系列光盘,磁光光盘,相变光盘和ＤＶＤ系列光盘的信息记录膜,光学介质膜和反射膜材料的原理,性能要求,制膜技术以及膜层之间的匹配问题。     

等离子辅助成膜技术

等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术,报道了我们研制的等离子辅助源的性能指标,用这个源制造的ＴｉＯ２ 膜工艺与成膜质量,以及用等离子辅助生产减反膜的工艺。     

等离子辅助成膜技术

等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术,本文报道了等离子辅助源的性能指标,用这个源制造的ＴｉＯ２膜工艺与成膜质量,以及用等离子辅助生产减反膜的工艺．     

高斯光束的光学变换

本文从高斯光束和几何光学概念出发,分析了光学系统传输高斯光束的参数选择原刚,提出了某些设计要求。并以准直系统为例分析了激光准直系统对高斯光束的变换特性,还推导了光束扩展比的一般关系式。     

反应离子束蚀刻中温度效应的研究

介绍了一种新型的干法刻蚀方法──冷源反应离子束刻蚀法用来到蚀各种激光学器件，并着重研究了刻蚀过程中的温度效应，提出了解决温度效应的有效方法。