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任心连 《中国新技术新产品》2012,(18):15-16
本文就激光全息薄型金属板研制过程中全息模版的制作,耐高温耐磨转移全息涂层配制与涂布,连续无版缝的全息模压机原理与模压,全息转移膜与卷状薄型金属板复合转移胶粘剂的选用与复合等工艺技术做了探讨和介绍。 相似文献
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全息激光防护薄膜的研制 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了全息激光防护薄膜基本理论和设计方法。研制成功的全息激光防护薄膜,其光学性能测试表明:0.53μm波长激光的光密度D达4.11,防护角达15°,具有良好的可见光透过率,且抗激光破坏能力强,可用于人眼和光电探测系统的激光防护。 相似文献
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前言信息、能源和材料构成现代文明的三大支柱及高技术的核心。信息处理由五个基本过程构成,即输入、运算、存贮、输出和分配,亦有人简单概括为存贮、传递和运算。数字信息以两种相反的状态作为一个信息单元(bit),因此凡具有开关功能的元件都能存贮信息。现已使用和即将实用的存贮技术包括半导体存贮、磁存贮和光存贮。评价各种存贮技术的标准是记录密度、写入读出时间和价格。各种存贮技术的功能见图1所示。 相似文献
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现在人类又面临着新技术革命浪潮的冲击,它以高质量和高速度收集、处理、存贮和传递各种信息,使社会走向信息化,所以人们称这次新的技术革命为信息革命。国外科学家们预测;在80年代,信息系统将是社会活动所有领域的中枢工具……而且还推 相似文献
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本文设计了一种新型全息光学测头,这种测头通过新型全息光学元件(NHOE),将被测表面的两个测点的信息综合在一个接收器上,利用自补偿原理,消除了被测表面相对光轴倾斜对测量结果的影响。 相似文献
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以环氧树脂为成膜树脂,甲基丙烯酸甲酯为光聚合活性单体,研制了一种双固化型全息用光致聚合物材料。通过成膜树脂配方的选取和光敏染料的选取优化了样片的配方组成,用457nm的蓝光在样片中记录全息光栅,用632.8nm的红光作为探针光,研究了样片的衍射效率、灵敏度、折射率调制度、预曝光量和收缩率等全息性能,测试结果表明单体的含量与组分的选取是影响样片衍射效率的主要因素,同时样片的制膜工艺对其全息性能也有很大的影响,通过配方的调整和制膜工艺的优化,部分样片的综合性能已基本达到实用化的需要。 相似文献
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运用虚拟仪器技术,研制了一套强制对流换热实验台自动化测试系统.测试系统实现了温度和风速的精确测量,以及风机转速和加热功率的自动控制,测试软件可以直观地观察整个换热过程中各个测量点的状态变化情况,进而得到整个实验过程从启动到稳态过程的全部数据,并对测量结果进行了不确定度分析,系统平均换热系数测量不确定度为4.9W/(m2.℃). 相似文献
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存贮——这些数据信息存放到哪里杰米·斯特拉著丁立编译仅仅几年前,也许除了如何复制你的影片档案或如何在一个安全的、稳定的环境里保管那些危险的硝酸片基影片的说明之外,我们想象不到在我们这样的杂志上能发表有关存贮方面的文章。然而现在,由于我们已进入了数字时... 相似文献
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目的 研究网络传输信息加密解密技术。方法 基于对公钥密码体制的分析,研究RSA密码体制的实现算法,设计系统程序模块。结果 开发了端对端的网络传输信息加密解密系统,结论 采用RSA密友体制可以研制出安全性更高的网络传输信息加密解密系统。 相似文献
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杨广武 《成组技术与生产现代化》1992,(2):4-7
本文简单介绍了本厂计算机全面管理信息分类编码系统的研制过程和设计思想,并介绍了编码的结构和与其相关的现行标准、基础库等内容。结合企业的现场管理例举了分类系统的应用效果和使用意义。 相似文献
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多回路制冷空调综合型实验系统的研制 总被引:4,自引:0,他引:4
制冷系统是多输入、多输出的系统,而且各操作参数相互关联.随着环境和室内热负荷的变化,制冷空调系统通常是在变工况条件下运行.为全面研究制冷系统的实际工作特性,研制开发了变频蒸气压缩式多回路制冷空调综合性实验系统,通过调节连接蒸发器和冷凝器的空气回路可以在任何时间模拟实现全年的运行工况,而不受季节的影响.详细介绍了实验系统的设计原理、调节方法、技术参数和数据采集系统.利用该实验系统既可获得参数间的动态关联特性,还可进行单体设备的性能测试以及不同控制策略的比较实验,为制冷系统动态仿真研究、各部件的合理匹配和优化运行控制策略提供实验基础. 相似文献
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多套管式换热器结构简单,清洗、维修方便,易实现加工制作,提出多套管式换热器对套管换热器进行传热强化.在设定条件下编写程序,对多套管换热器进行优化设计,计算显示在相同条件下多套管式换热器与单套管换热器相比传热系数有较大的提高.系统中设置回热器,有效节约能源.该系统在有余热、废热可以利用的场合节能效果更加显著. 相似文献
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光刻胶(光致抗蚀剂)是一种有机光敏材料,有正胶和负胶两种类型。负胶中,曝光时吸收了光的部分变成不溶性的,在显影阶段只有未曝光的部分被显影液除去,因而用负胶记录的浮雕像对基片的附着力强烈依赖曝光量。正胶则相反,胶层对基片已有足够的附着力,吸收的光子使分子发生光分解反应,因此材料软化,在显影阶段将曝光了的分子除去。故正胶是记录表面浮雕全息图的理想材料。国外广泛采用的是Shipley公司AZ-1350序列正胶,对这种光刻胶的性能已有全面研究。 相似文献