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光学拼接误差对TDI-CCD相机的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
光学拼接是扩大CCD相机视场的有效方法,其关键技术为拼接精度的设计计算和正确评价.为了对光学拼接的工艺性进行有效评价,指导CCD光学拼接的设计,以光学调制传递函数(MTF)为其评价函数,分别对光学拼接的搭接误差、直线性误差、共面性误差对时间延迟积分电荷耦合器件(TDI-CCD)相机光学传递函数的影响进行了理论分析,给出了各种光学拼接误差对光学系统传递函数的调制方程,为光学拼接技术的精度评价提供了理论依据,能够有效指导光学设备焦平面组件的工程设计. 相似文献
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TDICCD相机动态成像过程的像质分析 总被引:1,自引:0,他引:1
为了描述航天相机运动过程中随机扰动对成像质量的影响,通过分析相机动态成像过程,得到了存在扰动时相机的调制传递函数,并分别讨论了服从高斯分布和具有正弦规律变化的随机扰动对像质的影响.讨论结果表明,得到的结论与其它文献的分析结果是一致的.因此,对于任意随机扰动,在已知其概率密度的情况下,使用这种方法可以分析它对相机成像质量的影响. 相似文献
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查打一体化是当前航空相机的一个主要发展方向,其中一项关键技术为扫描像移的动态、高精度补偿.基于面阵探测器的时间延迟积分(TDI)扫描像移补偿方式相比于光机式的像移补偿方式具有天然的优势,然而当前的面阵探测器TDI像移补偿精度是像素级的,进一步提高查打一体化相机分辨率遇到了瓶颈.针对于此本文首先介绍了查打一体化航空相机工作原理,然后针对帧转移CCD的特性建立了电荷行间转移的数学模型与电荷转移像移的调制传递函数模型,在此基础上提出了一种查打一体化航空相机扫描像移的片上补偿方法,采用该方法可将西相位面阵TDI CCD的像移补偿精度提高至1/2φ像元.最后搭建了实验平台并给出了二、三、四相位面阵TDI CCD电荷转移像移对遥感图像质量的影响,同时也证明了提出的方法能够显著提高图像质量. 相似文献
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综述了激光辐照下光学元件表面波纹产生的实验技术、机理和规律,并提出了波纹现象可能的应用领域。 相似文献
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基于平行光通过倾斜的平板玻璃会使光线发生平移的现象,从几何光学的角度分析了三折式光学窗口对航空相机成像分辨率的影响,在窗口玻璃厚度为25 mm,窗口玻璃之间的夹角为45,照相距离为5 000m的条件下,对焦距1 000 mm 的相机成像偏移量进行了分析计算,计算结果成像偏移量为3.34 m,大于设计要求的1/3 像元.最后,通过试验检验了成像偏移对相机成像分辨率的影响,分析及试验结果表明,相机焦距、窗口玻璃厚度和窗口玻璃之间的夹角越大,相机照相距离越小,使相机成像分辨率越低,尤其是采用三折式窗口玻璃的长焦距相机,不适宜在较近照相距离下照相。 相似文献
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采用离子束溅射的方式,在K9玻璃基片表面引入金纳米杂质缺陷,通过原子力显微镜(AFM)测得金纳米尺寸直径在50~100 nm之间。采用不同能量密度的激光对样品进行点阵式的单脉冲辐照(1-on-1)并且对损伤阈值及典型损伤形貌进行了实验及理论分析。损伤阈值采用零几率处的损伤密度。结果表明:引入金纳米杂质缺陷后其抗激光损伤阈值由裸基片的26.6 J/cm2下降为15.5 J/cm2。通过微分干涉显微镜,随着激光能量的增加,损伤呈爆炸坑形貌,主要呈现纵向加剧损伤。金纳米杂质缺陷在K9玻璃基片上形成了强吸收中心(引入金纳米杂质K9玻璃基片的弱吸收(47.33 ppm,1 ppm=10-6)是裸K9玻璃基片(3.57 ppm)的13倍)造成局部高温,这是造成损伤的诱因。通过计算,金纳米杂质对K9玻璃基片的作用包括两部分:当激光辐照在K9玻璃基片上,首先是热应力引起玻璃的破裂;随后杂质汽化产生的蒸汽压加剧材料的破坏,引起局部炸裂。 相似文献
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Hongyan Li Liyun Qi Jiawei Shi Enshun Jin Zhengting Li Dingsan Gao Jinzhong Yu Liang Guo 《Microelectronics Reliability》2000,40(2)
The measurements of one hundred 1.3 μm planar buried crescent (PBC) structure InGaAsP/InP lasers demonstrate that parameters given by the electrical derivative of varied temperature and the variation of the parameters with temperature can be used to appraise the quality and reliability of semiconductor lasers effectual. By measurement of electrical derivative curves one can evaluate the quality of epitaxial wafer and chip, find the problems in the material and the technology, offer the useful information on increasing the quality and improving the technology of devices. 相似文献
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通过介绍锑化铟红外探测器的基本构成及其材料热力学相关特征,阐述了激光辐照锑化铟红外探测器造成的损伤机理,采用有限元分析法,分析相关的辐照环境和条件并建立了一种三维仿真模型。仿真模拟了波长为10.6 μm的CO2激光辐照锑化铟红外探测器时各部分的温度变化及应力变化情况,通过数值分析比较了在光斑面积一定的情况下经过不同功率的激光辐照后锑化铟探测器表面径向及内部轴向发生的温度场变化及应力场变化;探测器表面应力值经过106 W/cm2的激光辐照后很快达到最高点,造成损伤,锑化铟与铟柱接触部分的应力值随光斑半径大小不同而有所变化。将锑化铟探测器材料的应力损伤阈值及变化趋势同已有实验数据进行对比,验证了模型的精确性。 相似文献
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The nonlinear optical properties of P3HT in orthodichlorobenzene were investigated by Z-scan technique using second harmonic generation(532 nm) of mode-locked Nd:YAG laser in the picosecond domain. The experimental results show the magnitude of their nonlinear refraction indices was up to the order of 10-11 esu. The reverse saturable absorption of P3HT solution was observed and their nonlinear absorption coefficients reach up to 3.4 cm/GW. The strong optical nonlinearity of P3HT may find its new application in the photoclectric field. 相似文献