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为了提高碲镉汞红外探测器的性能,对ZnS钝化的碲镉汞光导型探测器进行了氢化处理研究,发现处理效果与氢等离子体密度和ZnS钝化层的厚度密切相关。对于ZnS层厚度固定的器件,通过改变氢等离子体密度发现低等离子体密度条件氢化处理更有利于提高器件的性能,表现在处理后器件响应信号提高且噪声下降,从光谱响应上表现为器件短波方向的响应抬高;对于同样的氢化处理条件,通过改变ZnS钝化层的厚度,发现具有较大厚度ZnS层的器件的氢化效果更好。SIMS测试发现氢化过程中氢离子可以穿过ZnS层到达ZnS与碲镉汞的界面处,分析认为氢离子对界面态起到了钝化作用,降低了界面态密度,提高了器件的性能。 相似文献
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碲镉汞光伏型探测器的氢化处理研究 总被引:1,自引:1,他引:0
利用氢等离子体方法研究了氢化处理对碲镉汞光伏型红外探测器性能的影响,发现对ZnS介质层钝化的器件进行氢化处理后,器件的信噪比和零偏电阻有显著的改善.通过采取在氢化过程中进行光刻胶保护的方法,发现氢化作用主要发生在注入区域之外的P区一侧;通过SIMS测试分析发现氢化过程中H离子可以穿过ZnS层到达ZnS与碲镉汞的界面处.分析认为氢离子对ZnS和碲镉汞的界面产生钝化,降低了界面态密度,减弱了P型区的表面漏电,提高了PN结的击穿电压和结电阻,从而改善了器件的性能. 相似文献
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长波碲镉汞材料阳极氧化膜/ZnS界面的电学特性参数 总被引:1,自引:0,他引:1
通过碲镉汞阳极氧化膜和磁控溅射ZnS膜,结合HgCdTe器件工艺,成功制备了以阳极氧化膜和磁控溅射ZnS双层钝化膜为绝缘层的“长波弱P”型HgCdTe MIS器件.通过对器件的C-V特性实验分析,获得了长波HgCdTe材料的阳极氧化膜/ZnS界面电学特性参数.并通过获得的界面参数,计算了阳极氧化和ZnS的双层钝化膜的表面复合速度.并对MIS器件的变温C-V特性进行了实验和分析. 相似文献
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利用同一片碲镉汞材料制备了由单层ZnS和双层CdTe/ZnS作钝化膜的变面积光伏探测器,对两种钝化膜结构的变面积器件进行了对比研究.通过分析两种器件的电流-电压(I-V)特性曲线以及零偏电阻-面积乘积(RoA)与周长-面积比(p/A)的关系曲线,发现ZnS钝化的器件具有较大的表面漏电流;通过分析两种器件的电流噪声与暗电流的关系,发现ZnS钝化的器件的噪声特性较接近散粒噪声,CdTe/ZnS双层钝化的器件则表现出较好的基本1/f噪声特性,使得器件噪声要小于单层ZnS钝化的器件. 相似文献
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碲镉汞红外探测器的表面钝化处理对器件暗电流有较大影响,决定了器件的探测性能。为了研究表面钝化层不同生长方式对暗电流的抑制效果,使用分子束外延(Molecular Beam Epitaxy, MBE)系统在Si基衬底上生长碲镉汞材料,分别通过磁控溅射和原位钝化方法生长CdTe/ZnS钝化膜层。采用半导体工艺在碲镉汞材料上制备了变面积光伏探测器。通过测试不同钝化膜层器件的暗电流,分析零偏电阻和面积乘积(R0A)与周长面积之比(p/A)的关系。结果表明,磁控溅射生长钝化层的Si基碲镉汞器件存在较大的隧穿电流,而原位钝化生长钝化层的Si基碲镉汞器件能更有效地抑制表面漏电流。拟合器件R0A因子随PN结面积的变化,得出原位生长钝化层的器件具有更好的钝化效果。变面积器件的制备和测试能够有效且直观地反映器件性能。 相似文献
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在长波光导碲镉汞器件研制过程中,表面钝化是不可缺少的一个重要环节。在早期,表面钝化只进行阳极氧化处理。通过阳极氧化加ZnS复合钝化实验,得到了比较可靠的表面钝化层,并制造出了高性能、耐高温环境试验的实用化擦探测器芯片,文章对表面钝化层进行了分析。 相似文献
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碲镉汞表面钝化层研究 总被引:2,自引:0,他引:2
本文简要了碲镉汞光导探测器表面钝化层的研究及结果,介绍了阳极氧化膜的制备,氧化膜的化学组成及氧化膜的物理化学性质,阐述了阳极氧化膜的退火处理。经过退火处理,提高了氧化膜的绝缘性能。 相似文献
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Chang S.J. Su Y.K. Juang F.S. Lin C.T. Chang Der Chiang Ya-Tung Cherng 《Quantum Electronics, IEEE Journal of》2000,36(5):583-589
Proposes an easy and reproducible vapor-phase photo surface treatment method to improve the device performance of the Hg0.8 Cd0.2Te photoconductive detector. We explore the effect of surface passivation on the electrical and optical properties of the HgCdTe photoconductor. Experimental results, including surface mobility, surface carrier concentration, metal-insulator-semiconductor leakage current, 1/f noise voltage spectrum, the 1/f knee frequency, responsivity Rλ, and specific detectivity D* for stacked photo surface treatment and ZnS or CdTe passivation layers are presented. These data are all directly related to the quality of the interface between the passivation layer and the HgCdTe substrate. We found that, by inserting a photo native oxide layer, we can shift the 1/f knee frequency, reduce the noise power spectrum, and achieve a lower surface recombination velocity S. A higher D* can also be achieved. It was also found that HgCdTe photoconductors passivated with stacked layers show improved interface properties compared to the photoconductors passivated only with a single ZnS or CdTe layer 相似文献
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Hg1-xCdxTe长波光伏探测器的低频噪声研究 总被引:2,自引:2,他引:0
在同一Hg1-xCdxTe晶片上(x=0.217)制备了单层ZnS钝化和双层(CdTe+ZnS)钝化的两种器件,对器件的低频噪声和暗电流进行了测试.发现单层钝化的器件在反偏较高时具有较高的低频噪声,在对器件的暗电流拟合计算中发现,单层钝化的器件具有较大的表面隧道电流,而这正是单层钝化器件具有较高低频噪声的原因.并通过高分辨X射线衍射中的倒易点阵技术RSM(reciprocal space mapping)研究了两种钝化对HgCdTe外延层晶格完整性的影响,发现单层ZnS钝化的HgCdTe外延层产生了大量缺陷,而这些缺陷正是单层钝化器件具有较高的低频噪声和表面隧道电流的原因. 相似文献
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CdTe钝化的HgCdTe非平衡载流子表面复合速度的实验研究 总被引:2,自引:2,他引:0
利用Ar^+束央求宙积技术在GgCdTe表面实现了低温CdTe介质薄膜的低温生长。在用-HgCdTe晶片表面分别用CdTe介质膜、HgCdTe自身阳极氧化膜进行表面钝化。利用光电导衰退测量技术测量了两种不同表面钝化的薄HgCdTe晶片的非平衡载流子(少数载流子)寿命,并通过光电导衰减信号波形的拟合,得到两种不同表面钝化的HgCdTe表面复合速度。实验结果表明,获得的CdTe/HgCdTe界面质量已 相似文献
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V. Kumar R. Pal P. K. Chaudhury B. L. Sharma V. Gopal 《Journal of Electronic Materials》2005,34(9):1225-1229
Passivant-Hg1−xCdxTe interface has been studied for the CdTe and anodic oxide (AO) passivants. The former passivation process yields five times
lower surface recombination velocity than the latter process. Temperature dependence of surface recombination velocity of
the CdTe/n-HgCdTe and AO/n-HgCdTe interface is analyzed. Activation energy of the surface traps for CdTe and AO-passivated
wafers are estimated to be in the range of 7–10 meV. These levels are understood to be arising from Hg vacancies at the HgCdTe
surface. Fixed charge density for CdTe/n-HgCdTe interface measured by CV technique is 5×1010 cm−2, which is comparable to the epitaxially grown CdTe films. An order of magnitude improvement in responsivity and a factor
of 4 increase in specific detectivity (D*) is achieved by CdTe passivation over AO passivation. This study has been conducted
on photoconductive detectors to qualify the CdTe passivation process, with an ultimate aim to use it for the passivation of
p-on-n and n-on-p HgCdTe photodiodes. 相似文献
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不同钝化结构的HgCdTe光伏探测器暗电流机制 总被引:7,自引:0,他引:7
在同一HgCdTe晶片上制备了单层ZnS钝化和双层(CdTe+ZnS)钝化的两种光伏探测器,对器件的性能进行了测试,发现双层钝化的器件具有较好的性能.通过理论计算,分析了器件的暗电流机制,发现单层钝化具有较高的表面隧道电流.通过高分辨X射线衍射中的倒易点阵技术研究了单双层钝化对HgCdTe外延层晶格完整性的影响,发现单层ZnS钝化的HgCdTe外延层产生了大量缺陷,而这些缺陷正是单层钝化器件具有较高表面隧道电流的原因. 相似文献