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李旺奎 《真空科学与技术学报》1988,(1)
由兰洲物理研究所刘玉魁同志撰著的《真空系统设计原理》一书,将在1988年二季度由国防工业出版社出版。此书是作者多年从事真空工程工作经验的总结,也是国内外有关真空系统设计最新成就的荟萃。此书共七章,约29万字,插图近200幅,参考文献近百篇。内容包括:真空设计基础知识;真空装 相似文献
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谷田所著“真空系统工程”分Ⅰ、Ⅱ两册出版。Ⅰ册是基础和应用,主要阐述真空技术的理论问题。正如著者所说,他尝试使现代真空技术系统化。之所以取名“真空系统工程”,其理由是适应近代工业领域的要求,使真空技术作为科学技术之一的基础科学系统化。本书是完全按照这个要求编写的。 Ⅰ册第一章是入门,叙述了真空技术的某些基本概念。第二章气体分子运动论是为以后各章准备的,著者从全书系统性考虑只作了扼要的探讨,因为这方面的专著已经很多了。第三章讨论了气体的流动,主要是讨论分子流和粘滞流。第四章介绍了流导的计算,值得一提的是比较… 相似文献
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《真空科学与技术学报》1990,(5)
·北京大学无线电系电子与离子物理专业主要科研方向是表面物理与薄膜物理。目前正在进行的研究课题有超微粒子半导体薄膜、非晶硅薄膜、电子学材料表面结构和特性等。主要产品有程控真空计、通道倍增器等。通讯地址:北京大学无线电系系主任:王楚邮编:100871 相似文献
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真空名词术语简介系作者专门为《当代科技新学科大辞典》撰写的若干条目。本刊特约预先刊出,分两期登完.真空是指低于环境大气压的气态空间,获得低于环境大气压的气态环境以及在该环境中进行 相似文献
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真空镀膜技术真空镀膜就是在真空环境下,采用各种物理、化学的方法使待镀材料呈原子、分子、离子或粒子团等状态沉积到某一固体(称为基板或衬底)表面上凝聚成膜的一种过程。真空镀膜是一种最重要的薄膜制造技术。它能镀制薄膜的材料最为广泛,又能在各种各样固体的表面上生长成表面粘附良好的薄膜。制得的薄膜纯度高,薄膜的组分、生长速率和厚度在镀制过程中可进行控制,以及应用最为广泛。真空蒸发和溅射现象早在1857年和1902年分别由法拉第(Faraday)和戈德斯坦(Gol- 相似文献
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