超高/极高真空校准装置的研制

超高/极高真空校准装置由极高真空(XHV)系统、超高真空(UHV)系统、流量分流系统和供气系统四部分组成。使用磁悬浮涡轮分子泵和非蒸散型吸气剂泵组合抽气,在XHV校准室获得了10-10Pa的极高真空;提出了分流法校准真空规的方法,使校准下限延伸到10-10Pa;利用非蒸散型吸气剂泵对惰性气体无抽速的特性,使用惰性气体校准时,减小了校准下限的不确定度;提出了采用线性真空计测量激光小孔分子流流导的方法,减小了小孔流导的测量不确定度。校准装置复合了分流法、压力衰减法和直接测量法对真空规进行校准,压力校准范围为10-1Pa~10-10Pa,合成标准不确定度为0.41%~3.5%。     

极高真空溅射离子泵的研制

研制出了获得极高真空的溅射离子泵，该溅射离子泵４小时烘共烤后温度降至１００℃，装磁钢，妄动离子泵进行敢，３４小时后压力达５．８×１０＾－１０Ｐａ。从抽速实验结果来看，该泵在１０＾１０Ｐａ时仍有１００Ｌ／ｓ的抽速。说明此泵在较 压力下仍有较强的潘宁放电。     

空间行波管排气过程中残余气体的质谱分析

电真空器件内残余气体直接影响其阴极的发射能力与寿命。本文利用高灵敏度四极质谱仪监测了空间行波管在整个排气过程中的残余气体,对各阶段气体成分及含量进行了分析。结果表明:烘烤前,水为主要气体,占80%。前期擦拭用无水乙醇易污染真空系统;升温过程中氢迅速增多,当烘烤温度达到220℃时,H₂成为系统中主要气体;整个烘排过程H₂的分压小于10^-3Pa,其余气体分压均小于10^-4Pa;烘烤结束后,H₂分压为2.4×10^-8Pa,占74%。H₂O分压为6×10^-9Pa,占20%;离子泵与吸气剂泵组可有效抽除残余气体,且对H₂的抽速高于对其他气体抽速;另外,质谱仪自身会放出H₂、H₂O、CH₄、CO₂等气体,在真空系统压力达到10^-9Pa范围时,质谱仪自身放气已不可忽略。     

轨道分子屏极高真空系统的抽气方程

地面真空系统中,气体处于封闭的真空容器内,达到平衡状态时,真空系统的抽气方程式是:P=Q/S;轨道分子屏系统是开放的,或者说具有部分真空容器,相应的抽气方程应该是怎样的形式呢?本文提出了一个物理模型,推导出了半球型及球冠型轨道分子屏极高真空系统的抽气方程.通过解含时间的微分方程,可得到相同的抽气方程.该方程适用于其它形状的轨道分子屏极高真空系统.     

渡边文夫的极高真空测量研究评介

渡边文夫对极高真空（ＸＨＶ）测量的系统而有成效的研究，受到国际同行的注目，其中最有衫价值和创新意义的是离子谱规，此规大大降低了Ｘ射线效应、电子激励解吸效应和热出气效应，可测量１０＾－１２Ｐａ的ＸＨＶ。本文试图较全面地评介渡边文夫的ＸＨＶ测量研究工作，以资借鉴。     

渡边文夫的极高真空测量研究评介

渡边文夫对极高真空（XHV）测量的系统而有成效的研究，受到国际同行的注目，其中最有实用价值和创新意义的是离子谱规，此规大大降低了X射线效应、电子激励解吸效应和热出气效应，可测量10-12Pa的XHV。本文试图较全面地评介渡边文夫的XHV测量研究工作，以资借鉴。     

极高真空电离规的校准实验研究

介绍了2支反磁控型冷阴极极高真空电离规和1支热阴极极高真空电离规的校准实验研究结果。实验设备是一台极高真空校准装置,实验范围为10^-9～10^-1Pa,实验气体为N2。实验结果表明,尽管2次校准结果的重复性较好,但就单次校准结果来看,每个规的灵敏度（修正因子）的最大值和最小值之间的偏差较大。因此,极高真空电离规要得到准确的测量结果,对其进行精确校准是非常必要的。     

特大型超高真空排气台的研制

为满足中科院高能物理研究所环型正负电子对撞机项目650 MHz/800 kW连续波速调管的超高真空排气需要,北方华创真空研制了由无油干泵和磁悬浮分子泵作为预抽系统,溅射离子泵作为主抽系统的特大型超高真空排气台。设备以温度和真空度作为主要工艺参数,对尺寸达到Φ1600 mm×5000 mm的连续波速调管进行高温真空烘烤排气,极限真空度优于8.0×10^-8 Pa;烘烤温度25~600℃连续可调,温区均匀性±5℃,具备充氮快速降温功能,整个工艺过程实现自动化控制。     

日本的极高真空技术研究

介绍了去日本考察的情况。其内容涉及极高真空获得,极高真空测量。在极高真空获得方面,集中于降低出气量;在极高真空测量方面,集中于降低电子激励解吸效应。     

强流重离子加速器BRing-HFRS超高/极高真空过渡研究

针对强流重离子加速器(HIAF)中增强器(BRing)和放射性次级束流分离器(HFRS)之间的BRing引出线真空系统进行极高真空到超高真空的过渡研究。研究表明,为不使处于极高真空状态下的BRing环真空系统受到来自HFRS和高能束运线的影响,通过烘烤段加非烘烤段的方式以及快关阀的作用,可有效地解决真空系统从极高真空到超高真空的过渡问题,并且能够有效地起到对BRing主真空的保护作用。通过对BRing引出线真空系统进行真空压力分布的模拟计算,从侧面更加验证了真空过渡方案的可行性。     

日本真空技术的应用现况

介绍了适用于超高真空和极高真空应用的出气速率近年来在日本的研究情况。同时介绍了日本昭和真空公司在真空镀膜方面的新应用。     

可变翼极高真空轨道分子屏研究

本文提出可变翼极高真空轨道分子屏的概念,建立了理论模型,推导出了压力表达式,计算了该分子屏的极限压力及压力曲线,翼长、翼角和压力的关系曲线.结果表明:可变翼极高真空轨道分子屏选择一定长度的翼及适当的翼角,可获得比普通分子屏低一个多量级的极限压力,达到10-13 Pa,低压工作区域也扩大了4～5倍.可变翼极高真空轨道分子屏理论的建立,会推动分子屏技术应用的发展.     

NV—9701型真空灭弧室十六工位排气台研制

讨论了真空泵的匹配问题，改进了加热钟罩的设计，对多点温度控制使用了较为特殊的方法，结果表明，该设备完全满足工艺要求，能替代进口。     

分流法超高/极高真空校准装置性能研究

分流法超高／极高真空校准装置由极高真空（XHV）系统、超高真空（UHV）系统、流量分流系统三部分组成。使用磁悬浮涡轮分子泵和非蒸散型吸气剂泵组合抽气在XHV校准室获得了10^-10 Pa的极高真空；采用的分流法真空规校准方法，使压力校准下限延伸到了10^-10 Pa；利用非蒸散型吸气剂泵对惰性气体无抽速的特性，使用惰性气体校准时，减小了校准下限的不确定度；校准装置的校准范围为（10^4～10^-10）Pa，合成标准不确定度为1．5％～3．5％。     

12位清洁开关管真空排气系统

这个系统是真空开关管的真空排气系统。由机架、主真空室、１２支预抽管路、超高真空插板阀和ＺＤＢ－２５０型低温泵组成。经过半年的运转系统工作正常。     

电真空器件程控排气的研究

简要介绍了应用单片机实现电真空器件的程控真空排气，优化了工艺，保证了真空排气工艺的一致性和稳定性，提高了产品的质量，其程控系统设计合理，抗干扰能力强，操作简便。     

超高/极高真空校准研究进展

本文概述了在超高/极高真空校准方面的研究进展.介绍了采用分子束法、压力衰减法、流导调制法以及分流法校准超高/极高真空规的原理、校准系统的结构及性能,并分析了它们的优缺点.从中可以看出,近年来随着真空材料处理技术、容器内表面处理技术和真空获得技术的进展,在10~(-10)Pa～10~(-8)Pa压力范围的超高/极高真空校准技术也取得了可喜的进展,校准系统的研制、维护成本日趋低廉,校准方法更为简单,校准结果更为准确.     

太阳能真空集热管排气台的设计

本文介绍了太阳能真空集热管气台的设计要求与结构特点。