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辉钼精矿熔盐氧化工艺研究 总被引:2,自引:0,他引:2
对辉钼精矿在Na2CO3-Na2MoO4-Na2SO4和Na2MoO4-Na2SO4体系的熔盐氧化过程进行了研究.结果表明,在控制适当的工艺条件(配料比、温度、鼓风速度和时间等)下,钼的转化率和脱硫率均可达99%以上.对Na2CO3-Na2MoO4-Na2SO4体系,钼精矿中的钼和硫分别以Na2MoO4和Na2SO4形态进入溶液.对Na2MoO4-Na2SO4体系,钼以Na2MoO4形态进入溶液,硫进入气相,烟气中的SO2浓度达5%以上. 相似文献
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文中研究采用熔盐电解以由Na2WO4和CuO为活性物质电解获得钨铜合金复合前驱粉体.通过循环伏安法对电解质体系及电极过程进行定性分析认为Na2WO4减缓体系活性物质扩散速度,CuO与Na2WO4的电解非同步进行.通过改变活性物质的加入方式进行对比实验,结果表明:在温度750℃;以一定比例KCl-NaCl混合熔盐为电解质,在起始槽电压1 V,先加入CuO电解2 h;后加入Na2WO4,调整槽电压至2 V电解3 h,对产物进行X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)及能谱分析(EDS)表明,可以获得纯度达到98%的W-Cu合金粉体. 相似文献
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钨的湿法冶金可采用溶剂萃取法和离子交换法。以前研制的用于钨湿法冶金的离子交换树指容量低 (约4 mmol/ g) ,有些树脂还需用 Na OH-Na Cl溶液进行解吸 ,因而制备高纯钨盐较为困难。A.G.Kholnogoro等人研究了合成的带长琏交联剂的甲基丙烯酸酯共聚物的大孔阴离子交换剂从 Na2 WO4-Na2 SO4-H2 O体系中回收钨的性能。这种阴离子交换剂具有较高的吸附容量 (8~ 1 1 mmol/ g) ,对钨聚阴离子有良好的渗透性。在静态 (分批 )和动态 (柱式 )条件下 ,用阴离子交换剂从钨盐溶液中进行钨的离子交换试验。吸附钨之前 ,树脂先负载氯离子。分批试… 相似文献
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对熔盐电解法在NaCl-KCl-Na2WO4和NaCl-KCl-CaWO4体系制取钨粉的过程中采用瞬时断电计量,对电极产物进行X-射线衍射分析,对比分析Na2WO4和CaWO4两种钨酸盐在熔盐中的解离运动形式,从而能够深层揭示体系的电解机理。研究结果表明:由于活性物质本身的结构、外部条件及电解质体系、电子传递过程和扩散过程的影响,Na2WO4和CaWO4在电解过程中的活性基团解离及离子运动形式有较大差别,Na2WO4以Na+和WO42-为活性离子基,而CaWO4可视为中性分子团,其中的活性基团可近似为CaO·WO3,电极的浓差极化仍是Na2WO4和CaWO4电解过程的控制步骤。 相似文献
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对辉钼精矿在Na2CO3-Na2MoSO4-NaSO4和NaMoO4-NaSO4体系的熔盐氧化过程进行了研究。结果表明,在控制适当的工艺条件(配料比、温度、鼓风速度和时间等)下,钼的转化率和脱硫率均可达99%以上。对NaCO3-Na2CO3-Na2SO4体系,钼精矿中的钼和硫分别以NaMoO4和NaSO4形态进入溶液。对NaMoO4-Na2SO4体系,钼以NaMoO4形态进入溶液,硫进入气相,烟气中的SO2浓度达5%以上。 相似文献
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Na2WO4溶液中阴离子的存在对钨交换容量的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了用Na2WO4溶液进行钨的离子交换时,溶液中SO2-4、Cl-、OH-的存在对钨交换容量的影响,试验表明,随着上述三种阴离子浓度的增加,钨的交换容量明显降低。同时,三种阴离子存在时的正交试验表明,其对钨的交换容量影响程度的顺序为Cl->SO2-4>OH-,交前液中[WO3]=20g/L,[SO2-4]<0.03125mol/L,[Cl-]<0.00846mol/L,[OH-]<0.4706mol/L是可行的。在上述阴离子存在下,通过串柱离子交换可提高钨的交换容量。 相似文献
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Fe(OH)3吸附法从高钨钼酸钠溶液中分离钨钼的研究 总被引:4,自引:2,他引:4
研究了用Fe(OH)3吸附法从高含钨的钼酸钠溶液中分离钨的可能性及技术条件。试验表明,在pH=7.0和Fe(OH)3用量为WO4^2-量2~4倍的条件下,每次吸附能分离70%~80%的钨。对WO3/MO=0.445的物料而言,经一次吸附可使WO3/Mo降为0.17~0.18。试验中开发了一种以HCl+NH4Cl作中和剂将Na2MoO4溶液中和的新方法,采用这种方法可显著提高回收率及分离效果。 相似文献
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Na2WO4-ZnO-WO3熔盐体系表面张力的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用拉筒法测定了800~950℃范围内Na2WO4 ZnO WO3熔盐体系的表面张力。结果表明:该体系的表面张力与温度成线性关系,随着温度的升高而降低;在同一温度下,熔盐中的阴离子结构随着WO3摩尔含量的增加趋于复杂,表面张力降低,随ZnO摩尔含量的增加趋于简单,表面张力升高;组元ZnO对表面张力的影响比组元WO3大。 相似文献
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NaCl—Na2WO4—WO3系熔盐电解法制备超细钨粉的研究 总被引:6,自引:0,他引:6
在NaCl-Na2WO4-WO3熔盐体系中,对熔盐电解法电解氧化钨制取高纯超细钨粉进行了实验研究。在该电解质体系中,在电解温度为780℃、阴极电流密度为320mA/cm^2的条件下,可以制得平均粒度为0.961μm的超细钨粉。在低电流密度时,阴极的电解反应为W^6 在阴极放电,三氧化钨直接还原得到钨粉;而在高电流密度时,阴极电解反应分为两步,首先是Na^ 在阴极放电,生成金属钠,然后是金属钠还原三氧化钨得到钨粉。另外,还对电解槽温度、阴极电流密度和电解质中WO3的浓度对电流效率的影响进行了测定与研究。 相似文献
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NaCl-Na_2WO_4-WO_3系熔盐电解法制备超细钨粉的研究 总被引:3,自引:1,他引:2
在NaCl Na2 WO4 WO3熔盐体系中 ,对熔盐电解法电解氧化钨制取高纯超细钨粉进行了实验研究。在该电解质体系中 ,在电解温度为 780℃、阴极电流密度为 32 0mA/cm2 的条件下 ,可以制得平均粒度为 0 96 1μm的超细钨粉。在低电流密度时 ,阴极的电解反应为W6 在阴极放电 ,三氧化钨直接还原得到钨粉 ;而在高电流密度时 ,阴极电解反应分为两步 ,首先是Na 在阴极放电 ,生成金属钠 ,然后是金属钠还原三氧化钨得到钨粉。另外 ,还对电解槽温度、阴极电流密度和电解质中WO3的浓度对电流效率的影响进行了测定与研究 相似文献
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熔盐电沉积硅的基础研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在FLINAK-Na2SiF6熔盐体系中,以Pt为参比电极、硅钢片为工作电极、石墨为辅助电极,在750℃下,用循环伏安法和计时电位法对Si4+的电化学反应机理和扩散系数进行了研究。结果表明:该熔盐体系进行电沉积硅是可行的,该体系中硅离子的还原为扩散控制的可逆电极过程,且产物不可溶;整个还原过程为Si4++4e→Si0;该熔盐体系中阴极电位不应负于-2V,否则会有Na沉积出来,从而影响沉积层质量;Si4+的扩散系数为:D=5 42×10-11m2/s(C=2 58×103mol/m3)。 相似文献
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金属钨涂层制备工艺的研究进展 总被引:2,自引:0,他引:2
金属钨属于难熔金属,具有高的强度和硬度,同时具有良好的化学稳定性,不易受到腐蚀,但其昂贵的价格及难加工特性限制了其应用,因此,用金属钨作为涂层材料来改善基体材料的性能,引起了众多研究者的关注。该文综述纯金属钨涂层的几种重要制备方法,包括:熔盐电镀法,等离子喷涂法,爆炸喷涂法,气相沉积法等。等离子喷涂是钨涂层制备中最为成熟的1种方法,基体材料不受限制,涂层厚度容易控制。熔盐电镀法能够通过电化学反应从化合物中一步获得厚度均匀的金属钨涂层,并且可避免引入氧和碳等杂质。化学气相沉积法获得的钨涂层致密度高;物理气相沉积法可以在任意基材上获得钨涂层。同时介绍这些方法各自的技术特点和目前的研究现状,并对金属钨涂层的制备方法进行展望。 相似文献
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在NaCl-KCl-Na2WO4-CuO体系中采用熔盐电解法直接制取钨铜合金粉,并对产物进行了XRD、SEM及EDS分析。结果表明,在780~800℃电解、阴极电流密度106~133mA/cm2、电解时间3~4h、电压2.2~3.2V的条件下,可以得到纯度99%以上、平均粒度0.91μm的钨铜合金粉末,各项指标基本达到了工业上烧结钨铜合金的要求。 相似文献
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考察了PbSO4-ZnO-C体系中各组分在Na2CO3熔盐中的反应行为,揭示了PbSO4固硫还原炼铅的反应机理。结果表明:在873~1 123 K的温度范围内,PbSO4首先和Na2CO3反应生成PbO和Na2SO4,PbO和Na2SO4再分别被还原成金属Pb和Na2S;温度大于1 123 K时,Na2S和ZnO反应生成ZnS和Na2O,Na2O再和CO2反应生成Na2CO3。Na2CO3在PbSO4-C-ZnO固硫还原熔炼体系中不仅是充当反应介质,改善反应体系的传热、传质和动量传递效果,同时也是主要反应物之一;ZnO在反应过程中不仅是固硫剂,同时也是Na2CO3熔盐的再生剂。 相似文献
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结合SEM、TG-DSC和X-ray衍射分析方法研究了TiO2-WO3-NiO-C体系还原过程的物相演变.结果表明:混合粉料中部分NiO首先还原成金属Ni,WO3和剩余NiO在低温下结合形成结构较稳定的NiWO4固溶体.继续升高反应温度,NiWO4经碳热还原反应形成Ni和WC.TiO2的晶体结构在加热过程中由锐钛型转变... 相似文献