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1.
应用计算机数值模拟方法计算p+ (μc-Si∶H) /n (c-Si) 及p+ (μc-Si∶H) /i (a-Si∶H) /n (c-Si) 异质结太阳能电池中的电场强度分布, 说明μc-Si/c-Si异质结电池制造中μc-Si∶H 膜厚选择,进而对嵌入a-Si∶H 薄层的μc-Si/c-Si异质结太阳能电池设计进行分析, 包括a-Si∶H 薄层p 型掺杂效应及本底单晶硅的电阻率选择, 最后讨论μc-Si/c-Si异质结太阳能电池稳定性 相似文献
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通过应用Scharfetter-Gummel解法数值求解Poisson方程,对热平衡μc-Si:H p-i-n薄膜太阳能电池进行计算机数值模拟。结果表明,光吸收体i层或P型择杂都会在i层中造成低场区而不利于光生载流子传输,指出μc-SiH:p-i-n太阳能电池制造中采用补偿μc-Si:H薄膜充当吸收体i层能提高长波(〉800nm)载流子收集效率,从而增大电池的短路电流。 相似文献
3.
本文用透射电镜(XTEM)和二次离子质谱(SIMS)分析了由超高真空化学气相淀积法(UHVCVD)生长的n-Si/i-p+-iSiGe/n-Si结构,发现在硅上外延生长i-p+-iSiGe时,在靠近Si的i/p+SiGe界面处存在一个很薄的层,但在i-p+-iSiGe上外延生长Si时,无此现象产生.此薄层是由在硅上外延生长i-p+-iSiGe时硼原子聚集在靠近Si的i/p+SiGe界面处形成的高掺杂薄层.高掺杂的薄层影响由此结构制备的异质结双极晶体管(HBT)的BC结的正向导通电压. 相似文献
4.
本文介绍了用于测量a-Si:H隙态密度的空间电荷限制电流(SCLC)法,并报道了采用此方法对PECVD方法制备的a—Si:H材料隙态密度的测量结果。对n+a—Si:H/a—Si1H/n+a—Si:H结构的样品,测量得到费米能级上0.16eV间的欧态密度分布为1015~1018(cm-3eV-1)。 相似文献
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μc-SiC/poly-Si异质结太阳能电池制造中的一些技术分析 总被引:1,自引:0,他引:1
应用计算机数值模拟方法计算n+(μc-SiC:H)/p(poly-Si)及n+(μc-SiC∶H)/i(a-SiC∶H)/p(poly-Si)异质结太阳能电池中的电场强度分布,说明μc-SiC/poly-Si异质结电池制造中μc-SiC:H膜厚选择,进而对嵌入a-SiC∶H薄层的μc-SiC/poly-Si异质结太阳能电池设计进行分析,包括a-SiC∶H薄层N型掺杂效应,最后讨论μc-SiC/poly-Si太阳能电池稳定性。 相似文献
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nc—Si:H/c—Si量子点二极管中的共振隧穿特性分析 总被引:3,自引:2,他引:1
采用常规PECVD工艺,在N型单晶硅(c-Si)衬底上沉积薄层纳米Si(nc-Si)膜,并进而制备了ns-Si:H/c-Si量子点二极管。在10 ̄100K温度范围内实验研究了该结构的σ-V和I-V特性。结果指出,当反身偏压为-7 ̄-9V时,无论在σ-V还是在I-V特性曲线上都观测到了近乎等间距的量子化台阶,此起因于在nc-Si:H膜中具有无序排布且粒长大小不一的Si微晶粒子,由于微晶粒子中能级的量 相似文献
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P^+—GexSi1—x/p—Si异质结红外探测器性能的提高 总被引:3,自引:0,他引:3
通过采用层叠结构、增加SiO2介质腔和铝反射镜、背面蒸镀SiO抗反射层等措施,使P^+-GexSi1-x/p-Si异质结内光发射红外探测器在77K下的性能提高到在不加偏置电压的条件下响应范围2 ̄8μm,D(5.5,1000,1)^*=1.1×10^10cmHz^1/2/W,量子效率可达4%。其Dp^*已达到实用的PtSi红外探测器的量级。另外,在器件的结构设计中,我们采用了一种改进的电极结构,以提 相似文献
8.
用分子束外延方法生长了p^+-GexSi1-x/p-Si异质结,并用平面工艺制成了内光电红外探测器,器件截止响应波长达9μm,在52K时,Rv500K=3.3×10^3V/W。 相似文献
9.
研究了Si^+和Si^+/As^+注入到Horizontal Bridgman(HB)和Liquid Encapsulated Czochralski(LEC)方法制备的半绝缘GaAs衬底电激活效率与均匀性。结果发现:在相同条件下(注入与退火),不同生长方法的半绝缘GaAs衬底电激活不同,通常电激活HB〉LEC,HB SI--GaAs(Cr)(100)A面〉(100)B面,Si^+/As^+双离子 相似文献
10.
采用低温生长缓冲层,高温生长GeSi外延层的方法在n型Si衬底上外延生长(i)Ge0.85Si0.15-(p)Si层,以此材料作为吸收区制备成GeSi/Si异质结pin台面光电二极管。其波长范围为0.7-1.55μm,峰值波长位于1.06μm,暗电流密度低达0.033μA/mm^2(-2V),在1.06μm和1.3μm处的响应度分别为1.8A/W(-2V)和0.066A/W(-V)。 相似文献
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文章介绍了硅基光电子器件-p-GeSi/n^+-Si异质结电光调制器的初步试验研究之后,给出了所研制调制器的调制深度为90%时的调制电流约180mA。为了进一步减小调制电流和提高调制频率,提出了一些改进措施。 相似文献
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GSMBE外延生长GeSi/Sip-n异质结二极管 总被引:1,自引:1,他引:1
用气态源分子束外延(GSMBE)法生长了掺杂GexSi1-x/Si合金并试制了p-n异质结二极管,X射线双晶衍射和二极管I-V特性表明,GexSi1-x/Si合金的完整性与异质结界面的失配位错是影响异质结二极管反向漏电的主要原因.通过控制GexSi1-x/Si合金的组分及厚度,我们获得了较高质量的GexSi1-x/Sip-n异质结二极管材料,其反向电压为-5V时,反向漏电流密度为6.1μA/cm2. 相似文献
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从文献中摘出了6H碳化硅(6H-SiC)的重要材料参数并应用到2-D器件模拟程序PISCES和BREAKDOWN及1-D程序OSSI中。6H-SiCp-n结的模拟揭示了由于反向电流密度较低的缘故相应器件在高达1000K温度下应用的可能性。6H-SiC1200Vp-n^-1二极管与相应硅(Si)二极管的比较说明6H-SiC二管开关性能较高,同时由于6H-SiCp-n结内建电压较高,其正向功率损耗比S 相似文献
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p/i和i/n界面对a-SiGe单结电池的性能影响较大,提高电池性能的关键是减小界面复合。选择适当的工艺条件,获得了效率为2.01%的a-SiGe单结电池。 相似文献
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通过应用Scharfeter-Gummel解法数值求解Poisson方程,对热平衡μc-Si∶Hp-i-n薄膜太阳能电池进行计算机数值模拟。结果表明,光吸收体i层中N型或P型掺杂都会在i层中造成低场区而不利于光生载流子传输,指出μc-Si∶Hp-i-n太阳能电池制造中采用补偿μc-Si∶H薄膜充当吸收体i层能提高长波(>800nm)载流子收集效率,从而增大电池的短路电流 相似文献
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Si/Ag/Si和Si/Au/Si薄膜分形晶化的TEM和EDS研究 总被引:1,自引:1,他引:0
本文利用透射电镜(TEM)和X射线能谱(EDS)对a-Si:H/Ag/a-Si:H和a-Si:H/Au/a-Si:H薄膜的分形晶化行为进行了研究。结果表明薄膜的分形晶化强烈依赖于退火条件,分形的形成可用随机逐次触发形核和生长(RSNG)来加以解释。尽管膜内存在明显的互扩散,Si分形区厚度与均匀基体区厚度相近。但在a-Si:H/Ag/a:Si:H膜中存在部分较大的Ag晶粒凸出膜面。 相似文献
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《微纳电子技术》1995,(5)
从文献中摘出了6H碳化硅(6H~SiC)的重要材料参数并应用到2-D器件模拟程序PISCES和BREAKDOWN及1-D程序OSSI中。6H-SiCp-n结的模拟揭示了由于反向电流密度较低的缘故相应器件在高达1000K温度下应用的可能性。6H-SiC1200Vp-n ̄(-)-n ̄(+)二极管与相应硅(Si)二极管的比较说明6H-SiC二极管开关性能较高,同时由于6H-SiC p-n结内建电压较高,其正向功率损耗比Si略高。这种缺点可用6H-SiC肖特基二极管克服。Si、3C-SiC和6H-SiC垂直功率MOSFET的开态电阻通过解析计算进行了比较。在室温下,这种SiCMOSFET的开态电阻低于0.1Ωcm ̄2,可在高达5000V阻塞能力下工作,而SiMOSFET则限于500V以下。这一点通过用PISCES计算6H-SiC1200VMOS-FET的特性得以验证。在低于200V的电压区,由于硅的迁移率较高且阈值电压较低,故性能更优良。在上述的6H-SiCMOSFET的栅氧化层和用于钝化平面结的场板氧化层中存在着大约4×10 ̄6V/cm的电场。为了研究SiC器件的高频性能,提出了6H-SiC发射极的异质双极晶体管? 相似文献