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Zhang Hongfen 《中国邮电高校学报(英文版)》1995,(2)
ＡｎＳｉｍｐｌｅＥｎｕｍｅｒａｔｉｏｎｏｆＡｌｌＭｉｎｉｍａｌＣｕｔｓｅｔｓｏｆａｎＡｌｌ－ＴｅｒｍｉｎａｌＧｒａｐｈＺｈａｎｇＨｏｎｇｆｅｎ（ＳｈｉｊｉａｚｈｕａｎｇＰｏｓｔａｌＣｏｌｌｅｇｅ，０５００２１，Ｐ．Ｒ．Ｃｈｉｎａ）ＡｎＳｉｍｐｌｅＥｎ... 相似文献
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借助一新的工艺模拟与异质器件模型用ＣＡＤ软件──ＰＯＳＥＳ（Ｐｏｉｓｓｏｎ－ＳｃｈｒｏｅｄｉｎｇｅｒＥｑｕａｔｉｏｎＳｏｌｖｅｒ），对以ＡｌＧａＡｓ／ＩｎＧａＡｓ异质结为基础的多种功率ＰＨＥＭＴ异质层结构系统（传统、单层与双层平面掺杂）进行了模拟与比较，确定出优化的双平面掺杂ＡｌＧａＡｓ／ＩｎＧａＡｓ功率ＰＨＥＭＴ异质结构参数，并结合器件几何结构参数的设定进行器件直流与微波特性的计算，用于指导材料生长与器件制造。采用常规的ＨＥＭＴ工艺进行ＡｌＧａＡｓ／ＩｎＧａＡｓ功率ＰＨＥＭＴ的实验研制。对栅长０．８μｍ、总栅宽１．６ｍｍ单胞器件的初步测试结果为：ＩＤｓｓ２５０～４５０ｍＡ／ｍｍ；ｇｍ０２５０～３２０ｍＳ／ｍｍ；Ｖｐ－２．０－２．５Ｖ；ＢＶＤＳ５～１２Ｖ。７ＧＨｚ下可获得最大１．６２Ｗ（功率密度１．０Ｗ／ｍｍ）的功率输出；最大功率附加效率（ＰＡＥ）达４７％。 相似文献
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在Ⅲ－Ⅴ族半导体ＧａＡｓ外延层上共注入Ｅｒ和Ｏ离子（ＧａＡｓ：Ｅｒ，Ｏ）．经面对面优化退火后，光致发光（ｐｈｏｔｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ－ＰＬ）谱中观测到对应Ｅｒ３＋第一激发态到基态４Ｉ１３／２－４Ｉ１５／２跃迁，其相对强度较单注入Ｅｒ的ＧａＡｓ（ＧａＡｓ：Ｅｒ）增强１０倍，且谱线变窄．从二次离子质谱（ＳｅｃｏｎｄａｒｙＩｏｎＭａｓＳｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ－ＳＩＭＳ）和卢瑟福背散射实验给出退火前后Ｅｒ在ＧａＡｓ：Ｅｒ样品中的剖面分布．ＳＩＭＳ测量分别给出Ｏ注入前后Ｅｒ和Ｏ在ＧａＡｓ：Ｅｒ，Ｏ中的深度剖面分布，分析表明Ｅｒ和Ｏ共注入后形成光学激活有效的发光中心． 相似文献
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ＭｏｌｅｃｕｌａｒＤｏｐｅｄＰｏｌｙｍｅｒＬｉｇｈｔＥｍｉｔｉｎｇＤｉｏｄｅｓｗｉｔｈＡｉｒ－ｓｔａｂｌｅＡｌｕｍｉｎｕｍａｓＣａｔｈｏｄｅ①②ＣＨＥＮＢａｉｊｕｎ，ＨＯＵＪｉｎｇｙｉｎｇ．ＸＵＥＳｈａｎｈｕａ，ＬＩＵＳｈｉｙｏｎｇ（ＳｔａｔｅＫｅｙ... 相似文献
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