含杂质碳氮薄膜的X射线衍射研究

自从Niu等首次获得接近β-C3N4的电子衍射谱以来，许多研究小组都报道说已制备出β-C3N4微晶。但在本实验中发现，当含有铁等杂质时，碳膜和碳氢膜的X射线衍射谱中都出现几条与β-C3N4的理论计算相近的谱线。这提示在β-C3N4的研究中，需要排除杂质的影响，制备出纯净的样品，以便得出明确可靠的结论。     

氮化碳薄膜的X射线衍射分析

研究了生工在硅片，合金钢片上的氮化碳薄膜的Ｘ射线衍射谱（ＸＲＤ），实验结果表明在硅片上先生长Ｓｉ３Ｎ４过渡层和对样品进行热处理，有利于β－Ｃ３Ｎ４晶体的生成，不同晶面的硅衬底，生长Ｃ３Ｎ４薄膜的晶面不同，合金钢片上Ｃ３Ｎ４薄膜，出现七个β－Ｃ３Ｎ４衍射峰和六个α－Ｃ３Ｎ４衍射峰，这些结果与β－Ｃ３Ｎ４和α－Ｃ３Ｎ４的晶面数据计算值相符合。     

碳氮薄膜的结构分析

对不同沉积条件下沉积在硅基片上的纯碳薄膜、碳氮薄膜以及受不锈钢污染的碳氮薄膜的Ｘ射线衍射谱进行了比较分析，并结合晶态碳氮薄的Ｒａｍａｎ谱分析，认为在这几种工艺条件下是否已合成出β－Ｃ３Ｎ４尚特进一步研究。     

YBCO超导薄膜进氧脱氧过程的原位X射线衍射研究

用原位X射线衍射法研究了磁控溅射c取向YBa2 Cu3 O6+x/SrTiO3 (YBCO/STO)优质超导外延膜在 3 2 5℃氧气中的进氧过程和氮气中的脱氧过程。研究表明 ,薄膜的进氧和脱氧过程快慢相当 ,进脱氧过程都由氧扩散控制。     

离子束辅助沉积制备TaN薄膜的X射线衍射分析

利用离子束辅助沉积技术制备ＴａＮ薄膜，并对其进行Ｘ射线衍射分析，掠入射的Ｘ射线衍射分析得出：离子束辅助沉积制备的ＴａＮ薄膜胆面心立方结构，晶格常数α为０．４４０５ｎｍ。根据Ｘ射线衍射分析，用屈服强度表征有ＴａＮ薄膜的显微硬度为１６－２０ＧＰａ，与文献上报道的显微硬度值接近。     

薄膜X射线应力分析

由于Ｘ射线薄膜衍射几何的特点，致使薄膜Ｘ射线应力分析的精度很骓达到常规应力分析水平。本文采用真空充阑、内标校正的途径来提高薄膜Ｘ射线应力分析的精度。     

YBCO／STO超导外延膜的X—射线双晶衍射研究

应用Ｘ－射线双晶衍射对磁控溅射法制备的ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－ｘ／ＳｒＴｉＯ３超导外延膜和衬底之间的位向关系以及晶体完整性的研究，表明衬底和外延在相应的衍射面之间存在与两者点阵常数差元关的位向差。这种位向差与测量方法（φ角）有关，在孪晶界方向出现极值。外延摇摆曲线的半峰宽值显示外延完整性罗差，其值与测量方向有关，而不同方向的点阵常数变化却不大。这可能分别与孪晶存在孪晶有择优取向以及外延镶嵌块间夹角变化     

铜薄膜微结构的X射线衍射线形分析

首先采用真空蒸镀法制备了不同厚度的铜薄膜,并对薄膜进行了退火处理;然后用X射线衍射仪测定铜薄膜的衍射谱,最后采用线形分析法对衍射谱进行计算,得到了不同厚度铜薄膜退火前后的晶粒尺寸和微应变。结果表明:真空蒸镀铜薄膜晶粒尺寸随薄膜厚度的增加而增大,微应变随薄膜厚度的增加而减小;退火处理后薄膜晶粒明显长大,薄膜微应变在退火处理后明显减小。     

离子束辅助沉积制备TaN薄膜的X射线衍射分析

利用离子束辅助沉积技术制备TaN薄膜，并对其进行X射线衍射分析。掠入射的X射线衍射分析得出：离子束辅助沉积制备的TaN薄膜是面心立方结构，晶格常数a为0．4405nm。根据X射线衍射分析，用屈服强度表征的TaN薄膜的显微硬度为16～20GPa，与文献上报道的显微硬度值接近。离子束辅助沉积制备的TaN薄膜宏观内应力较小，且都为压应力。晶粒尺寸大约在10nm左右，随着注入离子能量的增加，薄膜晶粒尺寸有长大的趋势。     

PECVD生长纳米硅薄膜的X射线衍射分析

等离子增强化学沉积生长的纳米硅薄膜是由纳米级尺寸的晶粒和晶界组成的厚度极薄的薄膜,采用X射线薄膜衍射法即X射线以低掠射角(1°～5°)入射,延长X射线在薄膜中的行程,同时将聚焦光路改为平行光光路,以提高来自薄膜的衍射强度,得到纳米硅薄膜的衍射峰。借此方法,研究了本征膜和掺磷薄膜的硅晶体结构及掺磷浓度对硅晶粒大小和晶格微观畸变的影响。     

PI薄膜在经过程中热解固态产物结构的X射线衍射分析

用Ｘ射线衍射技术测定了ＰＩ薄膜在炭化过程中热裂解固态产物结构的演变。据衍射峰随热解炭化温度的变化规律，发现该试样的分子链排列由层状的超分子结构转变为杂乱地无序状态。当加热温度达到７００℃时，观察到代表类似碳六方网面衍射峰的出现，其衍射强度随热解炭化温度的升高而加强。     

薄膜材料X射线衍射物相分析与内应力测定

基于不对称布拉格反射理论，介绍了薄膜材料二维X射线衍射分析方法，并对铝合金表面的TiN薄膜进行了分层掠射分析，证实了该分析方法的可行性。结合掠射、侧倾、内标及交相关函数定峰等技术，改进了常规X射线应力测量方法，测量了上述薄膜中的内应力，表明可显著提高内应力测量精度。     

柔性ITO衬底上铜酞菁薄膜有序生长的X射线衍射研究

采用石英晶体微天平实时监测薄膜生长速率,通过控制衬底温度与薄膜生长速率,在柔性ITO导电衬底上真空蒸发沉积了铜酞菁薄膜.X射线衍射分析表明,适当提高衬底温度与薄膜生长速率,可促进薄膜的有序生长.当衬底温度为90℃,生长速率为10nm/min时,薄膜的有序度最高,薄膜晶型呈(相和(200)晶面.     

含硼酸的氧化锆粉料中相变的X射线衍射分析

本文通过X射线衍射定性及定量地分析了在100～1100℃的加热过程中,含有一定量H_3BO_3的共沉淀FSZ粉料中相结构的变化。在100～800℃的过程中,共沉淀法制备的非晶态原料粉逐渐地转变为完全的晶态,该相变过程由于受脱水的影响,在500℃上下表现出不同的特征。加热温度高于800℃后,在该粉料中所掺的H_3BO_3使得FSZ失稳产生大量的单斜ZrO_2。     

研究高聚物结构的广角X射线衍射系列方法

全面论证了广角Ｘ射线（ＷＡＸＤ）系列方法：分峰ＭＰＳ、径向分布函数（ＲＤＦ）（Ｒ）、圆柱分布函数ＣＤＦ（Ｒ，α）、取向分布函数ＯＤＦ（α）、对称透射径向ＷＡＸＳ方位角扫描、对称反射径向ＷＡＸＳ扫描等分析法的基础理论、实验方法、计算程序及其可获得的结构参数，阐明了笔者建立ＷＡＸＤ测试分析高聚物聚集态结构专家系统的有关工作，这一研究架构的具体实现，将使得ＷＡＸＤ系列方法研究高聚物物理中的核心领域，即高     

X射线粉末衍射数据的校正

扼要介绍了X射线粉末衍射数据（峰位峰强和峰形）的校正方法和使用的标样。     

纳米薄膜厚度的X射线测量

研究了通过小角度X射线衍射(XRD)技术测量纳米薄膜沉积厚度与沉积速率的方法,并测定了在SiC表面沉积Fe纳米薄膜的厚度和沉积速率。结果表明,采用小角度XRD技术测量纳米薄膜厚度和沉积速率,能克服基片性质、表面平整度和金属膜氧化的影响,准确、方便地测量纳米薄膜的厚度和沉积速率。     

高聚物结晶度的X射线衍射测定

介绍用Ｘ射线衍射测定高聚物结晶度的方法，以聚丙烯（ＰＰ）样品的测定为例，讨论了分峰法存在的问题及衍射强度的修正，并给出了作者用分峰法测定的聚醚醚酮（ＰＥＥＫ）的结晶度与退火的关系。