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高压水射流清洗技术在我国发展迅速,目前高压水射流多功能清洗机在我国应用已超过千台,有很多部门对高压水射流理论不甚了解,如设备压力损失过大或流量流失过多,导致一台清洗机的功效只发挥了一半或四分之一,给企业造成了很大的能源浪费,给自己也造成重大经济损失。本文从高压水射流理论上予以阐明,以求充分发挥高压水射流清洗设备潜能,减少损失,多创效益。 相似文献
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干冰清洗技术与市场现状 总被引:1,自引:0,他引:1
今天,干冰清洗这项新技术被广泛应用于许多领域,从清除粘结牢固的溶渣到清洗精密的半导体元件和印刷线路板都很有效。干冰清洗无需拆装设备,可高温在线清洗,对设备没有损伤。与传统的化学清洗,高压水射流清洗以及磨损性喷砂清洗不同,干冰清洗利用高速气流中的干冰颗粒去除表面污垢,干冰颗粒瞬时气化,没有残留,没有处理清洗所产生废物的麻烦和高额费用。 相似文献
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高压水射流全自动油管清洗线的试制研究 总被引:4,自引:0,他引:4
针对油田油管用“热煮法”进行清洗的工艺,我们研制了XN(W)型高压水射流全自动油管清洗线。该清洗线的研制成功,彻底改变了工人在空气污染、地面油污的环境中工作,改善了工人工作条件、确保人身安全,提高了生产率,节约了能源,实现了扩大再生产与保护环境同步进行的要求。该清洗线经过现场试验确实发挥出应有的效用。 相似文献
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简要介绍了随着工艺节点的缩小,传统RCA清洗方法在硅片清洗工艺中的局限性和弊端,进而提出了以CO2为介质的新型干冰微粒喷射清洗方法。从CO2的物理特性出发,论述了CO2流经喷枪后形成干冰微粒的机理,并简要分析了干冰微粒喷射技术对颗粒污染物和有机污染物的清洗机理。在此基础上,介绍了自主研发的一台基于干冰微粒喷射技术的半导体清洗设备,对该设备的结构和各部分的作用作了简要介绍,论述了使用该设备对硅片进行清洗的工艺流程。通过对比实验发现,采用压强为8 MPa、纯度为5N的CO2作为气源,喷嘴前压强设置为11 MPa,使用该设备可以达到很好的清洗效果。 相似文献
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Hattori T. Hirano H. Osaka T. Kuniyasu H. 《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》2007,20(3):252-258
Realizing environmentally benign silicon-wafer cleaning has become one of the most important topics in the semiconductor industry. We have developed an ultra-diluted HF/nitrogen-gas jet spray procedure for single-wafer spin cleaning, which can efficiently remove not only particulate but also metallic contaminants in 20 s from both silicon and silicon-dioxide surfaces without causing damage to fragile 45-nm wide polycrystalline-silicon gate structures. The use of a very low HF concentration makes the silicon and oxide losses negligible, below 0.003 and 0.03 nm, respectively. This simple, single-step, single-wafer Spin CLeaning with use of Ultra-Diluted HF/nitrogen jet spray (SCLUD) drastically reduces the chemical and water consumption as well as electrical energy per wafer due to the short spraying time with the ultra-diluted HF at room temperature. HF wastewater, the only effluent of this cleaning, is recycled by forming CaF2, which can be a raw material for HF or Portland cement. This cleaning, therefore, meets the requirements with respect to the environmental control. 相似文献
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采用干冰微粒喷射法对ITO玻璃表面进行了清洁处理,并与浸泡式低频超声波湿法清洗的ITO玻璃进行了对比测量,结果表明:干冰微粒喷射法处理后,ITO薄膜表面的接触角减小,表面污染物颗粒数量下降,ITO薄膜表面上碳的含量较之未处理时降低了48.5%,锡、铟的含量分别增加了533.33%和267.57%,说明干冰微粒法对ITO薄膜表面的有机污染物和杂质颗粒的清洗效果超过了超声波湿法。此后,制备了干冰微粒法清洗ITO阳极的有机电致发光器件(OLED)器件,以及结构相同但ITO电极是用超声波湿法清洗的OLED器件,对这两种器件的参数进行了测量,其结果表明:干冰微粒喷射法清洗器件的启亮电压、亮度和电流效率与超声波湿法清洗的相比较均有所改善。 相似文献
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介绍借助高压水驱动力的自吸空气和水的气液喷射洗净机的基本构造、特征、洗净机理的同时,评价了该洗净机的洗净质量。 相似文献
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针对激光切割Al2O3 陶瓷存在热裂纹、大量熔渣等问题,提出了低压水射流激光复合切割陶瓷技术,并将这种工艺与普通激光切割进行了对比,结果表明低压水射流激光复合切割陶瓷可以大大减少陶瓷切缝的熔渣、避免热裂纹。主要研究了辅助气体压力、激光脉冲能量和激光重复频率对水射流激光复合切割Al2O3 陶瓷质量的影响规律,发现水射流存在时,辅助气体压力主要起到吹除切割头处水珠的作用,激光脉冲能量或激光重复频率增大、烧蚀材料增多,当烧蚀材料不能及时被射流冲除就形成了熔渣的累积,影响陶瓷切割质量。 相似文献