氧化物阴极基金属的表面分布

为进一步探讨阴极失效的原因,揭示氧化物阴极的发射本质,我们用PHI—550俄歇电子能谱仪对没有经过热处理的氧化物阴极基金属Ni-W-Mg合金以及经过热处理的Ni-W-Mg合金进行了分析。测得的各元素的俄歇电子能谱(AES)和俄歇剖面(AES-PRO)曲线图的结果表明,在上述合金样品的表面存在镁的富集层,而富集的浓度高于体内的平均浓度。同时还发现存在氧的富集层和一贫钨区。此外,为选择合适的基金属处理工艺条件提供了有用的信息。     

高温光电倍增管铜铍合金电极的表面分析

本文用PHI-550电子能谱仪对高温光电倍增管的铜铍合金电极作了俄歇表面分析和扫描俄歇照相。实验发现铜铍表层在经过碱金属高温处理后,组分、结构发生了变化。个别样品出现异常情况:铍在不同深度上富集。承受电子轰击的末级发射体(D_(11))经常出现减薄趋势。     

表面势垒对俄歇电子极角分布的影响

本文根据电子在固体与真空界面的折射反射效应及立体角元的变化,讨论了表面势垒对俄歇电子极角分布的影响,修正了俄歇电子的极角分布公式,首次从理论上证明了均匀体样品俄歇电子的极角分布基本符合cosθ规律而和样品是单晶或多晶及和俄歇电子的能量大小无很大关系这一实验现象。     

俄歇电子能谱定量分析的进展

本文扼要地评述了俄歇电子能谱定量分析的最新进展及其存在问题。首先评述了第一原理模型的俄歇电子能谱的物理基础,并分别对其中各种参数进行估算。同时,对以下专题进行了讨论。 1.利用俄歇电子能谱进行表面定量分析的方法;样品均匀性;强度的确定;带电效应;束流对样品的损伤。 2.对限制深度分布定量计算的各种现象进行了讨论。例如,溅射速率;表面原生粗糙度和束流引起的粗糙度;撞击和原子混合效应;择优溅射;离子束激发的俄歇电子能谱等。对于这些现象对深度分辨率的影响及其对溅射深度的依赖关系进行了讨论。     

La 对非晶 Ni_(63)Zr_(37)合金表面状态的影响

采用俄歇电子能谱和 X 射线光电子能谱,并结合氩离子原位溅射剥层研究了非晶 Ni_(63)Zr_(37)及Ni_(63)Zr_(32)La_5合金条带自由侧和贴辊侧的表层成分分布及元素的化学状态。结果表明,非晶 Ni_(63)Zr_(37)合金条带贴辊侧氧化层较自由侧厚且 Zr 的表面偏聚较为显著;加入 La 后,显著地改变了 Ni_(63)Zr_(37)合金条带两侧的表面状态;在合金条带表面及近表面,Ni 以金属态弥散分布在 Zr 和 La 的氧化物上,其电子状态受氧化物的影响;条带表层 Zr 的氧化物由 ZrO_x(1相似文献   

俄歇电子能谱仪高能量分辨率的获得

一、引言 俄歇电子能谱仪(以下简称俄歇谱仪)是本世纪六十年代末出现的表面分析仪器。主要用于表面几个原子层内组成元素的定性、定量、价态和能级密度分析。它利用一束低能电子辐照固体,使其表面发射背散射 电子,随后分析其中的俄歇电子和等离子损失电子的能量和数量,获得上述信息。 由于有些元素俄歇电子能量相差很小, 浓度、价态和能级密度变化引起上述两种电子能量和数量的变化一般也较小,因此要求俄歇谱仪有较高的能量分辨率(以下简称分 辨率)。 俄歇谱仪的分辨率以试样表面发射的某一能量电子在N(E)～B(电子数量～能量)曲线上形成的…     

某些纯元素、化合物和合金的低能离子感生俄歇谱及其能量阈值

低能离子感生俄歇电子谱及其能量阈值的测定,无论对于表面分析还是对于研究离子感生俄歇的机制都是有意义的。介绍了实验装置和实验条件。分别测出了 Ti、Mn、Fe 等15种纯元素及 MgO、Al_2O_3等4种化合物和三种合金的离子感生俄歇电子谱。文内给出了部分结果。对其能量阈值进行了比较和分析。     

显象管用基金属的俄歇电子能谱分析

作者应用俄歇电子能谱仪,对显象管所用的基金属进行了表面分析。发现基金属中的激活元素Mg、Si、A1、Ca等在表面存在着一个“富集层”。在“富集层”中激活元素的浓度,远远大于其体内的平均浓度。用对比法初步找到了形成“富集”的原因。对基金属的分析还发现钨在基金属表面恰恰又形成一层“贫钨层”。在洁净的基金属表面很容易吸附C,在高达70～90％的表面碳往往会把微量激活元素淹没。     

同步辐射的基本知识 第四讲同步辐射中的光谱术及其应用（三）

4俄歇电子能谱 上节已提到用俄歇（Auger）电子信号测定表面EXAFS谱,那是就特定能量的俄歇电子强度随入射X射线或电子能量变化的关系谱,是研究表面局域结构的重要方法。     

钽表面的甲烷等离子渗碳改性技术研究

为了增强钽表面的高温抗氧化、抗腐蚀性能,使用基于空心阴极效应的离子渗碳法,以氩气和甲烷作为渗碳气体对钽片表面进行渗碳实验,利用X射线衍射、扫描电镜、俄歇电子能谱分别对改性层进行成分、形貌及元素化学状态等分析。实验结果表明,在渗碳温度1300℃,渗碳时间20 min的条件下可以得到由Ta C与Ta2C两相组成、厚度约为6μm的渗碳层,其中表层Ta C厚度约为3.5μm,过渡层中碳含量呈梯度分布。渗碳后样品改性层表面变得致密并消除了基体的孔洞缺陷。碳与钽的俄歇峰位变化说明渗碳过程中碳元素进入了样品表面并与钽结合,渗碳过程中表层组分逐渐由金属钽向Ta C转变。     

铬在晶界的选择性氧化

利用扫描俄歇微探针研究了氧化过程中Ni—Cr合金的表面氧化行为。经过600℃、20min的氧化后,作为选择性氧化的结果,Cr和Ni分别在晶界和晶面上以它们的氧化物形式产生富集。较小的氧化铬生成热使铬在晶界区的氧化竞争中得以占先;而晶界为铬的向表面扩散提供了通道;氧化铬的生成,使可扩散铬原子浓度梯度增加,它有利于这种扩散过程的加快。本研究为Ni—Cr合金表面形成抗氧化防腐蚀的氧化铬层提供了理论依据。     

俄歇电子谱术

介绍了俄歇电子谱术的某些基本问题，内容包括：俄歇电子发射、表面灵敏性，俄歇电子谱的测量，定性和定量分析，深度剖析等，最后介绍了三种俄歇谱仪的功能扩展，功函数测量，材料结构性能量和电子态密度测量。     

防锈与表面分析(二)(译文)

(2)俄歇电子能谱法用电子束照射固体表面时,除了产生特征X射线外,还会放出俄歇电子,如图6所示。其机理大致如下:试样受到电子轰击,先放出K层电子,则该层便出现空穴。L电子填补K层空穴,使体系稳定化并放出相当于两个能级之差的剩余能量(△E=E_K-E_L)。此时,若L层的其他电子吸收了这剩余能量,该电子即会被放出体系之外。     

俄歇电子能谱学的历史,现状与展望

俄歇电子能谱学的历史、现状与展望雷雯编译（兰州物理研究所）１．引言俄歇电子能谱学是科学、物理、化学、技术和许多其它领域进行表面分析的最有效、最实用的技术。该技术为表面物理和化学定量化分析奠定了基础。本文介绍了俄歇电子能谱学的创始人、美国科学家劳伦斯·...     

俄歇极角角分布的大角度行为

测量了纯金样品Au(69eV),纯铜样品Cu(60eV和Cu(920eV)俄歇信号的极角角分布,考察了它们的大角度行为。用多种函数对角分布进行拟合。拟合参数与电子能量无关。分布大体上符合cosθ规律。大角度时对cosθ的偏差用表面不平整可得到最好的解释。样品浓度不连续分布的模型与数据符合不好。计及俄歇电子在表面上折射的角分布公式由于在大角度下发散而与实验完全不符。     

非晶Ni-Zr合金的催化活性及表面研究

本文在乙炔加氢反应中,对非晶Ni_(63)Zr_(37)合金催化剂及部份非晶Ni_(63)Zr_(32)La_5合金催化剂的活性进行了考察。着重分析了预处理对非晶合金催化活性的影响,并以x-射线衍射(XRD),比表面积测定(B.E.T.),俄歇电子能谱(AES)及X-射线光电子能谱(ESCA)等方法,对原始非晶合金及经过预处理的非晶合金的整体及表面状况进行了研究。结果表明,在经过表面酸洗、真空加热(轻微氧化)及氢气还原预处理的非晶合金表面,形成主活性组份Ni与ZrO_2、La_2O_3氧化物高度弥散分布的结构,同时比表面积大幅度扩大,从而使该种合金呈现良好的催化活性。     

离子轰击铜-镍合金影响层的研究

利用最小二乘法计算机拟合法,研究了铜-镍合金在离子轰击下,其表面铜、镍元素的浓度变化。表面分析用扫描俄歇微探针PHI-590型进行。研究证明:在影响层内元素的分布是不均匀的,影响层厚度大于15(?)A,并且这种不均匀的分布随轰击离子能量变化而变化。在停止轰击的40分钟内,未见表面元素变化。从铜-镍合金的俄歇谱分析可知,合金能带的刚性能带理论并不适合本研究系统。     

俄歇电子全息的计算机模拟研究和数值重现

原子的芯能级电子吸收能量后被激发 ,经过退激发过程发射出的俄歇电子波在传播过程中被周围的原子散射 ,带有周围原子结构信息的散射波 (物波 )与未被散射的电子波 (参考波 )相干涉形成的衍射图即俄歇电子全息图 ,通过全息图的重现 ,可获得原子级分辨率的三维结构信息。本文在合理的物理模型下 ,以Cu单晶以及高温超导YBCO中的Y原子近邻的一些原子簇为计算实例 ,首次就受激原子周围单层近邻原子散射和多层原子散射产生的俄歇电子全息进行了计算机模拟和数值重现 ,获得了三维晶格结构参量 ,并讨论了不同原子序数的原子在全息图形成及重现中的作用。本工作有助于材料微结构的研究     

SAM法研究银透过金镀层的表面富集

基底元素透过镀层于表面富集可使镀层失去作用和意义,导致元、器件失效。对银上镀金样品的SAM法研究结果表明,常温下这种富集主要是基底元素通过缺陷和晶界扩散穿透镀层再行表面扩散而遍及表面的;镀件的表面吸附与表面富集的发生密切相关。文中给出了随时间的推移,银于表面富集情况的清晰的俄歇相。已发展出新的工艺,可以明显地延缓基底元素透过镀层到表面的富集。     

可伐合金表面杂质分析

用共振光电子出现电势谱(RPAPS)对真空封接用可伐合金的表面进行了分析,并与俄歇电子谱(AES)和X射线光电子谱(XPS)进行比较。发现RPAPS可容易地分辨出杂质锰和铬,而AES和XPS则不能。由此可见RPAPS可能是一种重要的分析合金表面杂质的工具。