Cd补偿垂直布里奇曼法生长Cd0.9Zn0.1Te晶体

采用传统垂直布里奇曼法和Cd补偿垂直布里奇曼法,分别生长出两根尺寸为 30mm×130mm的Ccd0.9Zn0.1Te晶锭.测试了晶体的结晶质量、成分分布、位错腐蚀坑密度(EPD)、红外透过率及电阻率.结果表明,Cd补偿垂直布里奇曼法生长的晶体结晶质量好、成分分布均匀、EPD低、红外透过性能好且电阻率高.这说明Cd补偿垂直布里奇曼法是一种生长高阻值CZT晶体的优良方法.     

Cd0.9 Zn0.1 Te晶体的A1掺杂研究

采用改进的垂直布里奇曼法(MVB)分别生长了A1掺杂和In掺杂的Cd0.9Zn0.1Te晶体,并对比分析了掺杂元素对晶体性能的影响.在相同的工艺条件下,A1掺杂晶体获得了6 × 109～2 × 1010Ω·cm的高电阻率,呈弱p或弱n型导电;In掺杂晶体电阻率在105Ω·cm数量级,呈n型导电;A1掺杂晶体在波数4000～500cm-1范围内红外透过率平直且较高,而In掺杂晶体红外透过率随波数下降而降低,在波数1250cm-1处降至零.采用A1掺杂晶片制备的探测器对241Am 59.54keV射线的能量分辨率为14%,表明所生长A1掺杂晶体基本满足了探测器材料使用要求.     

Cd0.9Zn0.1Te晶体中的In掺杂研究

采用电感耦合等离子质谱仪（ICP-MS）和光致发光的手段研究了In在Cd0.9Zn0.1Te晶体中的分布及存在状态,浓度测试结果表明，In的分凝特性受生长条件影响很大，沿晶体轴向有效分凝因数在0．19到0．5之间变化。对高电阻和低电阻In掺杂Cd0.9Zn0.1Te晶体光致发光强度与温度依赖关系的研究表明，高电阻晶体D^0X峰存在两个热激活能2．8meV和21meV，低电阻晶体A^0X热激活能为3．4meV。分析认为In掺杂导致的自补偿效应是导致掺杂效率低下的原因。     

溶剂熔区移动法生长Cd_(0.9)Zn_(0.1)Te晶体的工艺优化研究

为了解决Cd_(0.9)Zn_(0.1)Te(CZT)晶体生长温度高、单晶率低、成分不均匀等问题,采用溶剂熔区移动法(THM)在优化工艺参数下生长了掺In的CZT晶体,在优化晶体的生长温度、固液界面处的温度梯度、原位退火过程等生长条件后,生长出直径为45 mm的低Te夹杂浓度、高电阻率、高透过率、均匀的高质量CZT晶体。X射线衍射结果显示,晶体的结晶性较好、Zn成分轴向偏析小。红外透过光谱测试结果显示,晶体内部的杂质、缺陷水平相对较少,晶体整体的红外透过率在60%左右。紫外-可见光吸收光谱测试结果也进一步表明,晶体的均匀性良好。采用红外显微镜对晶体内部的Te夹杂形貌及其尺寸进行观察,结果表明Te夹杂的尺寸主要分布在0~10μm之间。采用直流稳态光电导技术测得电子的迁移率寿命积约为8×10~(-4) cm~2/V。     

Cu/Ag导电薄膜与高阻CdZnTe的接触性能研究

采用射频磁控溅射法在高阻Cd0.9Zn0.1Te上制备了Cu/Ag导电薄膜,通过测量I-V曲线来评价接触性能。讨论了溅射功率和衬底温度对接触性能的影响,结果表明在两种不同功率下制备的薄膜不经过热处理已具有良好的欧姆接触性能,随着衬底温度的升高欧姆接触性能有所下降。通过对衬底的表面处理降低了表面漏电流。对试样进行退火处理使接触性能有所改善,退火温度在300℃时的接触性能要好于420℃。利用红外透过率来验证了退火温度范围及所选择加热衬底温度对高阻Cd0.9Zn0.1Te衬底没有影响。     

Cd0.9Mn0.1Te晶体生长及其缺陷分析

采用Bridgman法和ACRT-B法生长了两根Cd0.9Mn0.1Te晶锭(简称CMT-B和CMT-A).采用光学金相显微镜和扫描电镜研究了这两种方法生长的晶体中出现的各种缺陷,并分析了其形成机理.采用JEOL-733电子探针测定了两根晶锭中Mn的分布.对比CMT-B和CMT-A两根晶锭,发现ACRT所产生的对流可提高Cd0.9Mn0.1Te晶体的结晶质量.     

Synthesis of LiNi0.9Co0.1O2 cathode material for lithium secondary battery by a novel route

The cathode material, LiNi_0.9Co_0.1O₂ was prepared using a rheological phase reaction method with LiOH·H₂O, home-made Ni(OH)₂, and Co₂O₃ as starting materials. At first, the mixture of reactants and a proper amount of water reacted to form a rheological precursor. Then the dried precursor was heated at 730 °C in one step to yield the product. The effects of calcination time (between 0.5 and 10 h) on the structural, morphological and electrochemical properties were investigated. All obtained powders show a single phase with α-NaFeO₂ structure (R-3m space group). The sample prepared in 2.5 h delivers the largest initial discharge capacity of 218 mA h g^− 1 (3.0-4.35 V, 25 mA g^− 1) and still remains 192 mA h g^− 1 after 15 cycles. The method is simple, economical and effective and is promising for practical application.     

Microstructure and Ferroelectric Properties of (Bi_(0.9)Ho_(0.1))_(3.999)Ti_(2.997)V_(0.003)O_(12) Thin Films Prepared by Sol-gel Method for Nonvolatile Memory

The (Bi0.9Ho0.1)3.999Ti2.997V0.003O12 (BHTV) films have been prepared on Pt/Ti/SiO2/Si substrates by solgel method. The microstructure and ferroelectric properties of the BHTV films were investigated. The BHTV films show a single phase of Bi-layered Aurivillius structure and dense microstructure. The Ho3+/V5+ cosubstitution can effectively improve the ferroelectric properties. The BHTV film exhibits good ferroelectric properties with 2Pr of 47.6℃/cm2, 2Ec of 265 kV/cm (at applied field of 420 kV/cm), dielec...