光学塑料棱镜反射膜的镀制

由于光学塑料在耐热性、耐吸湿性和表面强度等方面的特性比光学玻璃差,所以在光学塑料棱镜表面上镀制金属反射膜存在着金属膜层和塑料棱镜表而附着性能差的问题,镀膜后的塑料棱镜不易达到使用的技术要求.本文通过对镀膜材料和光学塑料基体的特性分析,提出了一种实用的介质加金属三层反射膜系.基于这种膜系采用了等离子辅助镀膜技术和石英晶片监控膜厚的方法,并且针对塑料棱镜蒸镀的特殊性,严格控制蒸镀条件中的有关参数,形成了一套稳定的蒸镀工艺.实验结果表明,光学塑料棱镜镀制金属反射膜可以解决膜层性能差的问题,满足光学产品的技术要求,实现批量生产.     

真空蒸镀氟化镁增透膜的厚度与均匀性控制

基于光学增透膜与真空蒸发镀膜的基本原理,从MgF2原料状态、原料蒸镀质量、蒸发源与基片间距等方面,研究了热电阻和电子束蒸镀的MgF2薄膜厚度与其均匀性的控制工艺,以制备出高效的MgF2增透膜。结果表明:对于颗粒度较小或熔点较低的原料,热电阻比电子束蒸镀更易控制,并可避免原料污染;原料实际蒸镀质量与膜厚呈较好的线性关系;实际蒸镀质量相同的多晶颗粒与粉末状原料相比,前者蒸镀膜更厚;基片置于旋转工转盘中心比其侧部区域蒸镀膜更厚、均匀性更好。最后利用旋转球面夹具的小平面源蒸发模型很好地解释了上述实验结果。     

3.6m大口径镀膜机膜厚均匀性分析

分别建立了旋转平面与球面夹具配置下的薄膜膜厚均匀性理论计算模型,对3.6 m大口径镀膜机下直径为2.6 m基板的膜厚均匀性进行了研究.为了改善膜厚均匀性,分别采用两个蒸发源和三个蒸发源进行蒸镀.薄膜的膜厚不均匀性通过理论计算模型进行优化计算得到.对于两个蒸发源,分别得到了两旋转夹具配置下的最优几何配置,对应的膜厚不均匀...     

倒圆锥面基底蒸发镀膜均匀性理论分析

通过计算得出了蒸发源位于倒圆锥面正下方外部镀膜时锥面上各点的膜厚方程,并对整个锥面上膜厚均匀性进行了理论分析。结果表明：当圆锥面形状固定时,蒸发源与圆锥底圆圆心距离增大使锥面上膜厚均匀性变好;当蒸发源固定时,增大底圆半径导致锥面上膜厚均匀性变差。在同样的配置下,蒸发源为点源或小平面源时锥面上膜厚均匀性的变化趋势一致,小平面源蒸镀比点源蒸镀时圆锥面上膜厚均匀性差。     

PZT铁电薄、厚膜及其制备技术研究进展

铁电薄、厚膜材料具有良好的铁电、压电、热释电、电光及非线性光学特性,在微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域有许多重要的应用.近年来,随着铁电薄、厚膜制备技术的发展,PZT厚膜材料及厚膜器件成为科学工作者研究的热点.介绍了PZT铁电薄、厚膜材料与器件的研究进展以及PZT铁电薄、厚膜制备技术及几种典型的PZT铁电薄、厚膜材料制备技术的特点,并指出了目前存在的一些问题和未来的发展方向.     

建筑玻璃真空蒸镀薄膜厚度的理论计算

本文对建筑玻璃大面积多蒸发源真空蒸镀的膜厚均匀性进行了理论分析，给出了膜厚及其分布的计算公式和计算实例．对如何提高薄膜的均匀性进行了讨论．     

微处理机化的光学膜厚监控仪

光学膜厚监控仪(OTM),适配于光学镀膜机。它可以进行多层λ/4膜系测量和控制。经简单改动,仪器可带有辅助光路,形成双光路系统。高效的相敏检波器赋予仪器高速稳定。多个沉积源的选择和任意功率值的预设以及灵活的编程功能,可以控制达99层膜系的镀制。     

平板玻璃真空镀膜机蒸发舟源新佳分布的计算

本文针对平板玻璃蒸发镀膜机中的膜厚分布问题，详细讨论了如何通过合理布置蒸发舟源的空间位置，获得理想均匀的膜厚分布。具体介绍了膜厚计算的模型、公式及计算程序流程图，最佳蒸距的选择和最佳源间距的计算方法，并给出了一些最优化计算的结论、曲线和设计实例，可供设计中参考利用．     

硫化锌窗口上CVD法制备金刚石膜的研究进展

金刚石具有优异的红外透过性能,可作为硫化锌红外窗口的保护膜。但由于CVD金刚石的沉积过程会刻蚀硫化锌衬底,导致在窗口表面直接生长金刚石膜比较困难。本文主要综述了近年来通过添加过渡层沉积金刚石薄膜的方法和光学焊接金刚石厚膜的方法来增强硫化锌窗口的性能,并介绍了CVD金刚石膜的光学应用及其目前所存在的问题,最后对未来CVD金刚石膜发展的方向作出了展望。     

WO3电致变色薄膜制备过程中光学膜厚测量监控技术的研究

采用真空电子束蒸发方法制备WO3电致变色薄膜过程中，利用极值法光学膜厚测量技术监控薄膜的光学特性，对不同光学膜厚的WO3薄膜的原始态、着色态和退色态的光谱特性进行了对比分析。测试采用二电极恒电压方法，用分光光度计实时测量透过率的变化。结果证明以ITO玻璃作为比较片，极值法监控薄膜光学膜厚，当反射率达到第一极小值，即透过率达到第一极大值时，WO3薄膜得到最好的综合电致变色特性。     

电子束蒸发与磁控溅射制备Al/PI复合薄膜的性能研究

利用磁控溅射法和电子束蒸发法在聚酰亚胺(PI)薄膜基底上沉积了铝功能膜.测试了两种方法薄膜的膜厚、附着力、反射率、折射率和电导率.结果表明,磁控溅射法制备的铝膜的综合性能较电子束蒸制备的铝膜的性能优越.     

激光唱片与真空技术

制作激光唱片时,清洁和真空镀铝蒸镀至关重要。激光唱片上,反射铝膜的均匀性、反射率以及不允许有针孔瑕疵是十分重要的,真空技术与这三点关系密切。制作过程是在多碳酸盐基底上蒸镀一层反射铝膜。录制的信息以数码的形式录入局部起伏的“小坑”和平坦区中。利用这些起伏的“小坑”和平坦区来调制激光束。特殊设计的接收器接收已被调制的逻辑0与1字码。反射的激光束由其上的铝膜来完成。铝膜的膜厚约为50nm。膜厚的均匀性要求在±3％以内。如果不能满足这个要求,逻辑信号便难以读取,严重影响音响效果。反射率的要求必须大于70％。最大的高低误差也不得超过±3％。还要     

真空蒸发镀膜设备性能的改进

为提高镀膜设备的效率及可靠性,以适就应技术发展需要,对真空镀膜设备的设计制造(重点是箱式前开门型设备)方面,对镀膜审的布局,基片装载量及真空系统的配置和电气控制等方面进行了适当的改进,提高挡次.并尽可能留有增加可选配功能部件的装配位置,如光学膜厚测量控制装置和石英晶体膜厚测量控制仪,低能宽束离子源,氩离子射频轰击装置等改进膜层质量,扩大功能适应各种使用要求.     

膜厚对AZO∶Si薄膜性能的影响

近年来,Si基ZnO∶Al透明导电薄膜界面处Si的渗透对薄膜性能的影响引起了人们的关注。本文采用射频磁控溅射法,在石英和Si衬底上沉积了不同厚度的Al、Si弱掺杂(1wt.%)的ZnO薄膜(AZO∶Si),系统研究了膜厚(等价于Si的渗透深度)对薄膜电学、光学性质的影响。结果显示,膜厚在几十nm时,薄膜的电阻率、载流子浓度和迁移率都强烈地依赖于膜厚,在膜厚为19nm时,载流子浓度和迁移率接近最小,电阻率较大,且呈现p型导电特性。随着膜厚增加,载流子浓度和迁移率都变大,电阻率减小并趋于稳定,膜厚在396nm附近时电阻率最小是7×10-3Ωc#m,此时的载流子浓度和迁移率分别是1.54×1020cm-3和5.66cm2 V-1s-1。膜厚达300nm以上时,Si的影响已可忽略。结合薄膜的X射线衍射(XRD)图谱、X射线光电子能谱(XPS)和紫外-可见光(UV-Vis)透射光谱探讨了膜厚(Si的渗透深度或过渡层厚度)对薄膜性能的影响及其相关机制。     

国产晶振膜厚控制仪在镀膜机上实现多层膜半自动化

主要介绍了用国产FCM-II型膜厚控制仪进行多层光学膜的半自动化镀膜使用方法,并用此方法对非1/4λ的多层光学膜进行了速率控制镀膜,得出了比较满意的实验结果.并用此工艺方法做出了批量产品,满足了用户的需要.     

波导材料二氧化硅厚膜的快速生长

采用火焰水解法（FHD）在Si片（ф4.5cm）上快速淀积疏松多孔的SiO2厚膜材料，淀积速率达8цm/min。然后将该材料分别在真空/空气气氛中高温致密化处理，获得了各种形态的二氧化硅厚膜。其中包括平整度好、光滑透明的玻璃态SiO2厚膜，该膜厚度达到40цm以上，完全适合制作平面光波导器件。最后，利用XRD、SEM、光学显微镜等仪器对SiO2膜的表面和膜厚进行了测试分析，并讨论了影响致密化SiO2厚膜结构的各种因素。     

制备工艺参数对TiNx/Ag/TiNx低辐射膜性能的影响

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积了TiNx/Ag/TiNx低辐射膜,研究了制备工艺参数对低辐射膜光学性能的影响以及低辐射膜的耐腐蚀性能.结果表明,TiNx薄膜可对膜系起到很好的保护作用,当膜系的TiNx保护层厚度为32nm、内层TiNx膜厚为16nm(氮气流量为55sccm)、Ag层厚度为16nm时,制备的低辐射膜系具有优良的透过率、低辐射性能和耐腐蚀性能.     

无支撑、光学级MPCVD金刚石膜的研制

利用引进的6 kW微波等离子体化学气相沉积设备,进行了无支撑金刚石膜工艺的初步研究。在800~1050℃的基片温度范围内,金刚石膜都呈(111)择优取向;基片相对位置对沉积较大面积、光学级金刚石膜至关重要。制出0.25 mm厚Φ50 mm的无支撑金刚石膜。拉曼光谱和X射线衍射分析表明,合成的金刚石膜晶体结构完整,sp2含量极低;透过率测试结果说明了优良的光学性能:截止波长225 nm,光学透过率(λ≥2.5μm)≥70%。     

CVD金刚石膜的产业化应用与目前存在的问题

在863计划的大力支持下,我国CVD金刚石膜研究在工具、热沉和光学应用等方面都取得了十分显著的进展,不仅显著缩小了与先进工业化国家的差距,而且已使我国开始进入产业化应用进程。目前国内已有一些小型高技术型公司和企业出现,但大都仅局限于金刚石厚膜工具(金刚石厚膜钎焊工具和金刚石拉丝模模芯)。在金刚石薄膜涂层工具、金刚石膜热沉和金刚石光学应用研究等方面已取得实质性进展,尽管离产业化应用仍有一定距离,但已具备产业化开发和市场应用的条件。本文针对我国CVD金刚石膜的产业化前景和目前存在的问题进行了讨论,并提出了建议。     

基于LabWindows/CVI在线膜厚控制仪软件设计

为实现复杂光学膜层的连续稳定镀制,提高生产效率,减少废品损失,利用Labwindows CVI 8.0软件和NI DAQmx 8.0函数支持库开发膜厚自动监控软件,结合数据采集和控制扩展卡,在工控制机内完成数据的采集、分析、计算、存储和显示,构成在线膜厚控制仪主体,控制镀膜机主机及其附属设备,在线实时监控镀膜工艺过程,使实际膜系曲线和理论设计曲线拟合,构成镀膜工艺的在线监控和自动化控制。