未来的光电子学

随着蓝绿激光器等新材料、新器件的开拓,采用极微量子结构的新功能的创立,面对21世纪,光电子学领域将会发生大的变化。对于大容量通信,超过几Gbit/s的高速化、波分复用、光孤子传输等技术将取得更大的发展。     

信息高科技领域中的半导体光电子学

本文从信息传输与处理、入网与交换、存储与读出、获取与显示等重要技术领域评述介绍了当代信息高科技的最新进展与未来的需求，着重揭示半导体光电子学在未来信息高科技发展中的关键作用与地位，以及当今研究与发展的主流方向     

半导体光电子学的进展

综述了第八届集成光学和光纤通信国际会议(IOOC’91)与第十七届欧洲通信会议(ECOC＇91)上报道的有关半导体光电子学进展情况。     

光电子学与光通信

目前微电子芯片中功能强大的，广泛使用的硅晶体管从微型化的角度说已接近其技术极限，新的技术途径在不断探索之中。光微芯片乃至光计算机是被广泛研究的极具吸引力的新技术之一，光通信更是推动人类进入通讯新纪元的关键技术。     

光电子学和光器件

1.光通信领域1996年光通信领域的课题是波长多路通信(WDM)和光存储系统。96年2月在美国召开的光纤通信会议(OFC’96)上,日本的两个研究机构和美国分别报告了超1兆比特(Tb/s)WDM系统实验。其中2份是关于20Gbit/s的50或55通道多路波长系统的,另一份是关于10Gbit/s的分别以时间区域和波长区域10路复合的系统为开端,在同年9月在奥斯陆召开的欧洲光通信国际会议(E-COC96’)上,日本另一研究机构报告了使三值符号方式的2.6Tbit/s(20Gb/s×132通道),该论文指出设定的通道间隔为33.3Hz,可获得     

关于光子学与光电子学

本文论述了光了学和光电子学的有关情况，以及光子学与光电子学的讨论中出现的几中不同的观点，展望面向２１世纪的光子学在我国信息产业中的重要意义。     

有机晶体促进光电子学

有机晶体促进光电子学过去２０年，对非线性光学应用的有机材料（包括单晶和聚合物）的兴趣一直在增长。最近，对新材料的了解和设计已取得巨大进展。这些研究产生了几组对有用器件制造有合适光学、物理特性的材料。历来调制器、开关、频率转换器和可调谐滤光片之类的多数...     

光电子学与微机械的新进展

96年国际电子器件会议在美国的旧金山召开,为期四天。会议共收到600多篇报告,选中的有204篇。其中,1/3来自大学和国家研究所,2/3来自工业企业。会议共举行三次全体大会,其中值得一提的是第二次。密执安大学指出了电子学与非电子学之间相互连接的新办法。该大学一直为美国五角大楼从事研究工作,他们利用自制的微处理器和高度微型化的仪器,制成了首批机械—电子学系统,并通过自己的试验,采取缺陷的数字补偿,达到     

光电子学,光电子技术,光电子工业

本文评述了光学，激光和光电子学技术与生产的发展前景。     

美国光电子学落后于日本

美国光电子学落后于日本多年来，日本主要电子公司对光电子学比美国更加注意。当人们试图把注意力集中在美国光电子技术方面的落后情况时，一家主要工业集团正在拟定一份补救这种情况的报告。４月１５日，光电子工业发展协会（ＯＩＤＡ）发布了一份集中于四项光电子技术：...     

Si基光电子学研究进展

作为“第二代硅”Ｓｉ基异质结材料为世人所瞩目，Ｓｉ基光电子器件及光电集成（ＯＥＩＣ）是当前世界范围的热门课题，本文综述Ｓｉ基异质材料的外延生长和特性，Ｓｉ基光电子器件的结构和性能及其应用，着重介绍ＳｉＧｅ／Ｓｉ的研究进展。     

硅基光电子学中的SOI材料

SOI材料是近年来应用于硅基光电子学中的一种重要的光波导材料。本文首先简要介绍了常见的SOI材料的制备方法,包括注氧隔离（SIMOX-SOI）、硅键合背面腐蚀（BE-SOI）和注氢智能剥离（Smart Cut）等,并比较了它们各自的特点和优劣。其次介绍了SOI材料加工制造波导的基本工艺,包括光刻和刻蚀,其中刻蚀又分为干法刻蚀和湿法腐蚀。