以微球型硅胶为载体的氧化物催化剂AES分析中的荷电效应

实验研究了Ag_xSb_yO_z/SiO_2催化剂上AES分析中的荷电效应与电子束入射能量之间的关系,表明:改变入射电子束能量,可使催化剂表面发生正,负荷电状态的转化。适当选取入射电子束能量,使其略低于临界入射能量E~0p,催化剂处于略正荷电状态,有助于该类催化剂的AES和SAM分析。而真实AES峰能量可在入射电子束能量为E~0p时获     

EB固化油墨的研制及发展前景

首先列举了当前应用比较广泛的几种油墨,如溶剂型油墨、水性油墨和能量固化型油墨.然后主要针对能量固化油墨中的电子束固化油墨进行了分析.从电子束固化油墨的组成出发,对其固化机理进行了详细的分析,接着对线性加速器和扫描式加速器进行了介绍,最后对电子束油墨的广阔前景做出了分析.     

电子束改性技术中均匀束斑与路径控制方法研究

针对通用电子束设备在材料改性过程中作用面积小、能量沉积不均匀、特殊位置可达性差等问题,设计了一种能量均匀沉积的大面积束斑波形,研制了专用电子束运动轨迹偏转控制系统。通过平板试件表面和回转体试件内外表面的改性工艺试验,验证了特征波形的能量均匀沉积和运动路径的控制效果。结果表明,采用均匀束斑和运动路径控制方法后,能够成倍提高电子束改性效率,提升束斑可达性,实现改性层厚度的均匀一致性。     

样品辐照电子源的研发

为了研究地球早期环境和生命演化过程,设计制作了样品辐照电子源。电子通过热灯丝发射,能量通过阴极电压来调节,电子束斑尺寸通过静电透镜来调节。灯丝缠绕方式提高了发射电子的均匀性。根据理论分析和电磁软件仿真,确定了电子源阴极与控制极距离的参数。仿真结果显示,在能量为3.5 keV时聚焦电压越大束斑越小,在工作距离为150 mm时束斑直径可实现30-50 mm之间可调。实验结果显示,该装置发射的电子束能量在1-5 keV之间连续可调;在工作距离为150 mm时,3.5 keV电子束的束斑直径可调,与仿真结果变化趋势一致,可产生20.8μA电子束流。     

空心阴极电子束对多弧离子镀TiAlN薄膜组织形貌及摩擦学性能的影响

采用空心阴极电子束辅助多弧离子镀的方式在WC基体上制备了TiAlN薄膜,讨论了电子束能量的大小对膜层组织形貌及摩擦学性能的影响。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、表面轮廓测试仪及材料表面微纳米力学测试系统对薄膜的相组成、微观结构、三维形貌及摩擦学性能进行了检测和分析。结果表明:在未施加空心阴极电子束作用时薄膜具有明显的(112)择优取向,随着空心阴极电流的提高,薄膜逐渐朝着多晶面生长,择优取向减弱。电子束对膜层的形貌及摩擦学性能有显著影响,随着电子束能量的提高,膜层逐渐变得致密、平整,表面粗糙度和摩擦系数均降低,抗磨损性能提高。     

电子束增材制造设备及应用进展

电子束增材制造是增材制造技术的主要方向之一,它在真空中进行,具有能量利用率高、零件残余应力低等优势,在航空航天、医疗领域获得较为广泛的应用.介绍了两种电子束增材制造方法——电子束选区熔化和电子束熔丝沉积,总结了设备、电子枪、工艺、材料组织调控等方面的研究与应用进展,并对电子束增材制造技术的发展进行了展望.     

关于钛及钛合金电子束冷床熔炼炉真空系统的设计

本文简略介绍了钛及钛合金材料的特点及其熔炼的方式。介绍了电子束冷床熔炼炉的原理。分析了电子枪所发射的电子束能量的分配及熔炼炉工作真空范围。电子束冷床熔炼炉真空系统的配置和选型原则。并以某公司电子束冷床熔炼炉为例,计算了正常熔炼速度下总的气体量、工作真空下的主泵的抽速、前级泵的抽速,对熔炉的真空系统进行了配置和选型。     

磷脂酰乙醇胺双分子层膜低能电子散射的Monte Carlo模拟

基于“亲水层-疏水层-亲水层”模型,采用Monte Carlo方法模拟了低能电子束(能量E0≤900 eV)作用下,磷脂酰乙醇胺(PE)双分子层膜的电子散射,研究了PE膜散射电子(SEs)、背散射电子(BSEs)的深度与表面分布,BSEs、透射电子(TEs)的能量分布,以及SEs的能量沉积.研究表明,入射电子束能量E0越小,PE膜的TEs就越少,BSEs就越多,被PE膜吸收的电子就越多,BSEs图像的分辨率就越高;入射电子束能量E0越小,PE膜能量接近E0的BSEs就越多,能量接近E0的TEs就越少;PE膜亲水层的背散射能力明显高于疏水层;随着E0的增大,SEs在PE膜中的能量沉积密度增大,但沉积范围先增大,后减小.     

电子致放气测试装置的研究

材料表面吸附的气体分子在电子轰击作用下,会加速释放到真空系统中。为了测试在电子轰击下的材料放气特性,研制了一套电子致放气的测试装置。电子束发生器作为重要的组成部件,具有许多可调参数,这些参数会在一定程度上影响输出的电子束质量,进而影响电子致放气测试结果。文章首先通过实验测量了电子束斑和束流的影响因素,结果表明,聚焦电压和栅极电压对束斑的尺寸有直接的影响,而能量电压对电子束斑直径没有影响。此外,阴极电压、电子能量和栅极电压都可影响到发射电流,从而影响出射的电子束电流。为了验证装置的电子致放气测试能力,采用放气率很低的316 L不锈钢作为测试样品,比较测试其经过三次电子束轰击前后的放气特性。结果表明,经过除气的316 L不锈钢的电子致放气率可较明显地测定,且电子束轰击下放气的主要成分由N₂/CO变为H₂。     

电子束物理气相沉积技术研究进展

电子束物理气相沉积是真空蒸发技术的一种,具有蒸发速率高和无污染的特点,目前广泛应用于材料表面涂层的制备.将离子束辅助和等离子辅助与电子束物理气相沉积技术相结合,可以提高蒸发粒子入射能量和扩散能力,改善由于电子束物理气相沉积工艺本身存在阴影效应和扩散能力低而引起的沉积材料的不致密等不足.介绍了电子束物理气相沉积技术的概况,并展望了该技术的未来应用及发展前景.     

应用于纳米制造的新型电子束抗蚀剂Calixarene的工艺研究

为了满足电子束光刻（EBL）对高分辨率、性能优秀抗蚀剂的需求,研究了将Calixarene衍生物作为电子束抗蚀剂在胶液配制、电子束曝光及显影等工艺过程中的相关技术.其中电子束曝光实验在JEOL JBX-5000LS系统上进行.实验结果表明,在入射电子能量50 keV、束流50 pA的条件下,Calixarene可以方便地形成50 nm的单线、50nm等线宽与间距的图形结构.通过与常用电子束抗蚀剂的对比,总结了Calixarene在电子束光刻性能上的优缺点,并分析了其成因.作为一种新型的高分辨率电子束光刻抗蚀剂,Calixarene有望应用在纳米结构制造、纳米尺寸器件及电路的研制等领域.     

UELR-10-10s直线电子加速器剂量学评定

为建立电子束辐射加工级水吸收剂量标准,研究了电子束高剂量参考辐射场.该参考辐射场包括一台UELR-10-10s型直线电子加速器和束下传输系统;并对装置的主要剂量学技术参数进行了测量.采用深度剂量分布法确定了电子束输出能量,使用薄膜剂量计和重铬酸盐化学剂量计测量了扫描宽度和扫描均匀性,并使用量热计和重铬酸盐化学剂量计测量...     

电子束重熔处理对硅化物涂层表面形貌和性能的影响

在Nb521铌合金表面采用料浆烧结法制备硅化物涂层,利用高频扫描电子束对硅化物涂层进行重熔处理,通过扫描电子显微镜对处理样品表面形貌进行组织结构分析。研究表明,经过电子束重熔处理,硅化物涂层表面陶瓷晶粒粒度降低,表面粗糙度降低,陶瓷颗粒之间烧结作用增强,重熔区域与未处理区域具有明显的边界,电子束能量分布较均匀。电子束重熔增强了陶瓷涂层的烧结作用,涂层致密度增加,硅化物层的抗氧化性能和抗热震性能提高。     

1MeV电子加速器辐照剂量的测量

目前吸收剂量的测量方法有多种,对低能电子束吸收剂量进行测量时,由于受到电子束穿透深度、热效应、动态加工等因素的影响,可用方法很少,通常用显色薄膜剂量片进行测量.本文采用FWT-60-00薄膜显色剂量片测量1MeV低能电子束进行辐照加工时的吸收剂量,研究了吸收剂量与束流强度、辐照时间、束下装置运行速度的关系,测量了材料中吸收剂量的深度分布,并对加速器能量进行了校正.结果表明:在相同的辐照时间和电子能量下,吸收剂量随束流的增加线性增长;速度较高时,吸收剂量与小车速度也呈现出良好的线性关系.     

高功率微波源用电子收集极材料:强流高能电子束轰击下的物理效应及对材料性能的要求

高功率微波源用收集极用于接收束波耦合作用后的强流电子束,是影响高功率微波源稳定性和寿命的关键部件。收集极在强流电子束的轰击下会产生二次电子、背散射电子、韧致辐射等物理效应,将引起微波品质的降低。电子束的能量沉积在收集极上会产生显著的温升效应,从而导致收集极效能下降甚至结构失效,同时材料在强流电子束的轰击下会发生蒸发而污染腔室,降低系统绝缘性。在讨论分析强流电子束轰击材料所产生的物理效应机制及其影响因素的基础上,分析了高功率微波源用收集极材料的性能要求。     

TiN涂层轴承钢电子束辐照过程电子行为及温度特性研究

目的研究辐照过程中电子行为及温度场的分布规律。方法采用束斑直径为60 mm,平均能流密度为12 J/cm~2,脉冲时间为3μs的电子束,对表面有2μm厚TiN涂层的9Cr18轴承钢进行强流脉冲电子束辐照模拟,通过建立Monte-Carlo仿真模型,揭示入射电子的平均分布特性及其辐照过程中不同时刻温度场形态。结果通过仿真电子辐照行为,发现在入射电子能量大于25 ke V时电子能够穿透TiN层,进入轴承钢基体中。由于两层物质密度差异,导致在二者交界处轴承钢一侧存在电子能量沉积曲线尖峰,入射电子能量大于35 ke V时峰值已经超过涂层内部能量沉积系数最大值,形成特殊的能量沉积形式。结合对辐照温度场的模拟仿真,结果显示,由于交界线处钢一侧能量沉积量大,加热效率高。内部加热速度比表面更快,减小了二者间的温度梯度。同时由于两层物质存在熔点差异,在控制能量的情况下,可以达到两层交界处轴承钢发生少量熔化,TiN涂层不发生熔化的现象。结论通过控制电子束能量,控制温度场分布形态,实现基体侧熔化,而涂层不发生熔化的特殊改性现象,这为提高涂层膜基结合力提供了新思路。     

新型高效真空电子束焊机北大核心CSCD

因真空电子束焊机具有焊接能量利用率高、焊接质量好等优点,但目前真空电子束焊机存在辅助工作消耗时间长、消耗能源多的缺点,直接影响着产品的成本和价格。本文针对一空心轴盘形齿轮的焊接,通过对两个关键问题的解决,提出了一种新型真空电子束焊机。首先,实现了全时真空工作仓系统;然后,实现了真空工作仓内的上、下料工作;最后,通过实验,对比了新型焊机和普通焊机的生产效率。实验结果表明,该新型焊机应用于批量生产中,优势明显。对真空电子束技术的发展提供了有价值的参考。     

新型高效真空电子束焊机

因真空电子束焊机具有焊接能量利用率高、焊接质量好等优点, 但目前真空电子束焊机存在辅助工作消耗时间长、消耗能源多的缺点, 直接影响着产品的成本和价格。本文针对一空心轴盘形齿轮的焊接, 通过对两个关键问题的解决, 提出了一种新型真空电子束焊机。首先, 实现了全时真空工作仓系统;然后, 实现了真空工作仓内的上、下料工作;最后, 通过实验, 对比了新型焊机和普通焊机的生产效率。实验结果表明, 该新型焊机应用于批量生产中, 优势明显。对真空电子束技术的发展提供了有价值的参考。     

新型电子能量谱仪电子光学系统研究

介绍了一种新型电子动量谱仪电子光学系统的研究与设计、系统由靶室、圆锥形减速透镜线件，双扇形场电子能量分析器组件组成，可同时获得电子束的能量分布和角度分布信息，可明显地提高电子动量谱测量系统的效率。     

用于半导体加工的电子帘技术

本文描述了一种对离子注入半导体进行均匀大面积退火用的矩形截面电子束——电子帘。用此电子帘对注入能量为100keV,注入剂量为10~(15)cm~(-2)的注P~+硅样品,以及能量为40keV的注B~+硅样品进行连续电子束退火。经椭圆偏振参数测量、范得堡霍耳测量以及微分薄层电阻测量,表明退火过程中无杂质再分布,注入杂质的激活率比热退火样品的高,但霍耳迁移率略低些。