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薄膜的光学特性决定于其各膜层的厚度和折射率,监控各膜层的淀积厚度是淀积过程中最重要的工艺.本文分析比较了直透监控法、分离控制法、高级次监控法以及变波长监控和晶体振荡监控等光学薄膜淀积监控的几种方法.直透监控法的各层膜膜厚监控误差大,但监控光带宽的减小和膜层厚度误差的补偿作用,使得薄膜峰值波长定位精度很高;它对监控系统的精度要求非常之高,一般要求不低于40 dB.相对而言,分离控制法可以保证较大的变化幅度,在5‰的监控精度下(23 dB)就可以保证膜层的合理蒸镀,得到膜厚监控误差较小的成膜;但监控片的更换割裂了整个膜系的各层膜之间有机补偿作用,成膜的中心波长会向长波方向漂移.高级次监控方法可以提高极值法对膜层的监控精度,但膜料在不同波长处色散影响膜系的结构.变波长监控法在镀制非规整膜系时可取得较高的监控精度.晶体振荡法是监控多腔窄带滤光片匹配层的有效方法.结合光纤通信用窄带滤光片要求,提出了窄带滤光片应采用直透法过正监控和晶体振荡法相结合的监控方法.(PH8) 相似文献
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光学薄膜膜厚监控方法及其进展 总被引:8,自引:1,他引:7
针对目前膜厚监控技术的广泛使用和其方法的日益多样性 ,力图对光学薄膜膜厚监控方法作一个全面、细致的描述。包括膜厚监控方法的分类、进展和展望 ,重点介绍了几种膜厚的光学监控方法 相似文献
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光学薄膜厚度均匀性的理论计算 总被引:4,自引:0,他引:4
光学薄膜厚度均匀性对薄膜特性产生重要影响。本文介绍旋转平面和球面夹具在余弦和非余弦分布条件下的膜厚计算方法,并给出了计算结果。同时指出了基板和蒸发源倾斜对均匀性的可能影响。 相似文献
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光学薄膜制作过程自动监控系统的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
1研究背景和意义 随着现代科学技术的飞速发展,光学薄膜器件得到了越来越广泛的应用,从人造卫星到现在的光纤通信,其中都有起着重要作用的光学薄膜器件.同时,随着用户要求的提高,对光学薄膜制作精度的要求也越来越高.而光学薄膜的制作是一个涉及到许多学科的复杂过程,受到不同材料、不同工艺以及一些突发因素的影响.以往的镀膜工作在很大的程度上是凭经验来进行的.因此,如何通过对其中的一些主要因素的自动控制来提高薄膜制作的效率,减轻镀膜工作者的劳动强度,提高光学器件的光谱性能,一直是光学薄膜制作过程中的焦点问题.利用计算机技术来自动监控光学薄膜器件的制作过程,可以大大提高光学薄膜器件制作的重复性和制作精度.因此,开展红外光学薄膜过程的自动监控系统的研究是项非常有意义的工作. 相似文献
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有许多解析设计的方法,如矢量法、有效界面法、等效膜层法以及势透射率概念设计等均已成功地用来设计不同类型的光学薄膜。这里介绍的驻波场设计方法,对减小薄膜的损耗有特殊的作用。近年来,光学薄膜研究的一个最重要的课题就是所谓薄膜的缺陷和稳定性。驻波设计在一定程度上为这一课题的研究提供了方便。所谓驻波设计,实际上就是计算出薄膜中的驻波电场分布,然后根据驻波场分布来 相似文献
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一、引言近年来Sossi提出了一种光学薄膜设计的综合分析方法。这个方法考虑垂直入射的无吸收薄膜系统,对于预先指定的任意目标反射率曲线,可以设计出达到要求的薄膜结构。方法使用方便,有很大的普适性,因此受到国内外光学薄膜专家们的重视。鉴于国内这方面的资料不多,而且又涉及不少数学推导,为了便于大家了解这方面的工 相似文献
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极值法是目前国内外真空镀膜膜厚监控中应用最广泛的方法。本文阐述了此法的膜厚监控原理、系统、方法。重点讨论了为提高监控精度而采取的一些改进措施。 相似文献
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引言本文叙述加拿大国家研究委员会(NRCC)对于具有复杂光谱特性的特种光学多层滤光片发展数值设计程序和制造技术方面过去和现在的成就。这里不讨论对于具有或多或少有规则的光谱特性的滤光片和膜层的一般设计方法,但在参考资料[1-4]中可以找到这方面的最近的评论。 相似文献