光学薄膜任意厚度控制方法的研究

对于特定要求光谱特性的光学薄膜,需要用电子计算机进行设计。薄膜可供调整的参数是薄膜材料的折射率和几何厚度。在实际工作中,由于可供选用的镀膜材料有限,通常把各层膜的厚度作为校正参数。因而自动合成设计的膜系所得到的光学厚度值一般不是λ/4或λ/2厚度的整数倍,通常为非等厚的多层膜组成。这种薄膜与经典的λ/4膜系相比,具有层数少,厚度薄,膜层吸收少,易牢固,能给出宽广的光谱特性。但由于膜层是非λ/4膜系,给薄膜制备时厚度的     

光学薄膜厚度监控技术

本文简要地评述各种监控技术的优缺点,重点介绍了非λ/4膜厚监控技术的进展。     

光学薄膜任意厚度控制装置及其应用

用双色三光路(2S3G)测光法来监控膜层的厚度,适当地选择两个膜层厚度终点导数最大的波长作为控制波长。当透射率达到预先计算的控制波长透射率值时,停止膜层的蒸发,实现了多层任意厚度膜系的制备。2S3G控制装置控制精度高,装置简单,便于操作和推广使用。     

光学薄膜厚度网络监控系统应用研究

以光电极值法为基本理论,以现代网络传输技术为基础,实现了光学薄膜厚度网络监控系统.文中主要描述了光电极值法的基本原理和网络监控系统的技术基础,并给出了详细实现方案及部署模型,最后通过实验验证了网络监控系统.     

光学薄膜任意厚度控制装置透过率数值的标定

本文利用改变两片偏振片透射轴之间夹角精确计算出强度变化的原理,设计加工了一个三片偏振片线性测试装置(3px),其测试精度为0.1％。用来标定任意厚度控制装置的透过率值。     

光学薄膜研究的评述

现在,薄膜状光学材料性能一般都比块状材料要差,光学薄膜的主要问题就在这里。本文将概述使薄膜不同于通常块状材料的一些基本特性。我们仅限于讨论真空蒸发的薄膜和包括对这种基本工艺过程的改进的一些评论。     

光学薄膜的监控

在淀积薄膜过程中,为了镀制出合乎要求的膜层,要对光学薄膜参数加以测量和控制。监控技术通常都是把薄膜的厚度当做最重要的参数。本文简要评述目前流行的各种监控原理并对比了它们的优缺点。结果表明:这些方法很少能够对付折射率的误差,它不象对付厚度误差那样简单,要想严格地控制膜层材料参数,必须充分利用目前监控方法中的最新成就。     

光学薄膜淀积监控方法研究

薄膜的光学特性决定于其各膜层的厚度和折射率,监控各膜层的淀积厚度是淀积过程中最重要的工艺.本文分析比较了直透监控法、分离控制法、高级次监控法以及变波长监控和晶体振荡监控等光学薄膜淀积监控的几种方法.直透监控法的各层膜膜厚监控误差大,但监控光带宽的减小和膜层厚度误差的补偿作用,使得薄膜峰值波长定位精度很高;它对监控系统的精度要求非常之高,一般要求不低于40 dB.相对而言,分离控制法可以保证较大的变化幅度,在5‰的监控精度下(23 dB)就可以保证膜层的合理蒸镀,得到膜厚监控误差较小的成膜;但监控片的更换割裂了整个膜系的各层膜之间有机补偿作用,成膜的中心波长会向长波方向漂移.高级次监控方法可以提高极值法对膜层的监控精度,但膜料在不同波长处色散影响膜系的结构.变波长监控法在镀制非规整膜系时可取得较高的监控精度.晶体振荡法是监控多腔窄带滤光片匹配层的有效方法.结合光纤通信用窄带滤光片要求,提出了窄带滤光片应采用直透法过正监控和晶体振荡法相结合的监控方法.(PH8)     

光学薄膜膜厚监控方法及其进展

针对目前膜厚监控技术的广泛使用和其方法的日益多样性 ,力图对光学薄膜膜厚监控方法作一个全面、细致的描述。包括膜厚监控方法的分类、进展和展望 ,重点介绍了几种膜厚的光学监控方法     

光学薄膜的石英晶体振荡监控

本文论述了光学薄膜淀积过程的石英晶体振荡监控的结构,原理及控制系统,分析了该监控方法的测量精度,有效范围及其影响精度的主要因素,并对该监控方法在光学     

光学薄膜厚度均匀性的理论计算

光学薄膜厚度均匀性对薄膜特性产生重要影响。本文介绍旋转平面和球面夹具在余弦和非余弦分布条件下的膜厚计算方法,并给出了计算结果。同时指出了基板和蒸发源倾斜对均匀性的可能影响。     

光学薄膜的厚度控制装置——波长扫描法

研制窄带干涉滤光片需要有精密的控制膜层厚度的方法。本文介绍了波长扫描法的原理,以及对实验过程中出现的问题和现象进行了初步分析,并用此方法制备了窄带干涉滤光片,获得了精确的中心波长位置。     

光学薄膜计算机辅助设计及监控研究通过鉴定

1989年7月18日在华北光电所召开了光学薄膜计算机辅助设计及监控鉴定会。与会专家认为,此研究工作所完成的监控系统功能先进,控制结果优异,能     

光学薄膜制作过程自动监控系统的研究

1研究背景和意义 随着现代科学技术的飞速发展,光学薄膜器件得到了越来越广泛的应用,从人造卫星到现在的光纤通信,其中都有起着重要作用的光学薄膜器件.同时,随着用户要求的提高,对光学薄膜制作精度的要求也越来越高.而光学薄膜的制作是一个涉及到许多学科的复杂过程,受到不同材料、不同工艺以及一些突发因素的影响.以往的镀膜工作在很大的程度上是凭经验来进行的.因此,如何通过对其中的一些主要因素的自动控制来提高薄膜制作的效率,减轻镀膜工作者的劳动强度,提高光学器件的光谱性能,一直是光学薄膜制作过程中的焦点问题.利用计算机技术来自动监控光学薄膜器件的制作过程,可以大大提高光学薄膜器件制作的重复性和制作精度.因此,开展红外光学薄膜过程的自动监控系统的研究是项非常有意义的工作.     

光学薄膜的驻波设计方法

有许多解析设计的方法,如矢量法、有效界面法、等效膜层法以及势透射率概念设计等均已成功地用来设计不同类型的光学薄膜。这里介绍的驻波场设计方法,对减小薄膜的损耗有特殊的作用。近年来,光学薄膜研究的一个最重要的课题就是所谓薄膜的缺陷和稳定性。驻波设计在一定程度上为这一课题的研究提供了方便。所谓驻波设计,实际上就是计算出薄膜中的驻波电场分布,然后根据驻波场分布来     

光学薄膜合成的Sossi方法

一、引言近年来Sossi提出了一种光学薄膜设计的综合分析方法。这个方法考虑垂直入射的无吸收薄膜系统,对于预先指定的任意目标反射率曲线,可以设计出达到要求的薄膜结构。方法使用方便,有很大的普适性,因此受到国内外光学薄膜专家们的重视。鉴于国内这方面的资料不多,而且又涉及不少数学推导,为了便于大家了解这方面的工     

微型机在光学薄膜膜厚监控中的应用

我们在北京仪器厂生产的DMD-450光学多层镀膜机上,配上以APPLE-Ⅱ微型机为核心的膜厚监控系统。本系统采用极值法原理通过检测和控制材料的蒸发速率,有机地使用“比较法”和“微分法”判断镀膜返转点。提高了极值点判断精度。还可控制扫描单色仪,进行波长扫描,显示并绘制相应膜层的光谱曲线,初步实现了光学多层镀膜的自动化,有效地提高了镀膜质量和成品率。     

光学薄膜膜厚监控中极值法的应用

极值法是目前国内外真空镀膜膜厚监控中应用最广泛的方法。本文阐述了此法的膜厚监控原理、系统、方法。重点讨论了为提高监控精度而采取的一些改进措施。     

光学薄膜系统的现代计算方法

引言本文叙述加拿大国家研究委员会(NRCC)对于具有复杂光谱特性的特种光学多层滤光片发展数值设计程序和制造技术方面过去和现在的成就。这里不讨论对于具有或多或少有规则的光谱特性的滤光片和膜层的一般设计方法,但在参考资料[1-4]中可以找到这方面的最近的评论。