高纯金属有机化合物的发展动向与前景

一、引言金属有机化合物(简称MO)的研制是当今最有发展前途的技术之一,MO最吸引人的特点是它的多样性,其种类几乎是无限的,每一种都具有独特的化学性质。MO的开发是作为化学反应催化剂开始的,迄今,虽已有几十年的历史,但还只是开端。1968年,美国Rockwell公司的Manasevit采用烷基镓和砷烷,首次在绝缘衬底上,用MOCVD工艺成功地制备了GaAs单晶薄膜,这是一个重大突破。随后,20年来,特别是近10年来,MO的研制和开发应用获得了较大     

杂质元素对熔敷金属低温韧性的影响

用人工神经网络建立了熔敷金属性能的预测模型。该模型的学习结果同试验值之间有很好的对应关系。用该模型研究了杂质元素S、P、O、N对熔敷金属低温韧性的影响规律。预测结果表明：随着O、N含量的增加,熔敷金属的低温韧性显著下降;S对低温韧性基本无影响;随着P含量的增加低温韧性有所增加。在不同的S、P含量水平下,低O低N时的熔敷金属具有很高的低温韧性,高N低O时的次之,高N高O时的低温韧性最差。     

微电子技术用高纯金属有机化合物的制备问题

研究了制备高纯金属有机化合物的一些问题,讨论了在合成阶段以及采用蒸馏和结晶方法高度纯化金属有机化合物时杂质组份形成的问题。发现了高度纯化金属有机化合物以除去极小悬浮粒子的问题,以及金属有机化合物设备及贮存、运输容器材料的污染作用。当前,在用MOCVD法生产半导体结构材料时,对高纯挥发性化合物发生了兴趣。如     

高纯有机试剂中金属杂质OSIS-ICP-MS测试方法

建立有机进样系统-电感耦合等离子体质谱法(OSIS-ICP-MS)直接测试高纯有机试剂中金属杂质。高纯有机试剂直接由有机进样系统(OSIS)导入质谱仪进行分析,可有效避免样品处理可能带来的污染和误差。与传统方法比较,该文所建立的方法准确、快速、灵敏、环保,并兼顾成本,具有良好的推广应用前景。     

高纯金属

近年来,高纯、超纯或超高纯金属的发展十分引人注目。本文就什么是高纯、超纯金属的性质、用途、制法、分析等作如下的简单介绍。实际上并没有严格的定义。材料的纯度是随着时代、金属种类、使用目的、金属物性、高纯化技术水平、分析精确度等的不同     

高纯氨中金属颗粒杂质检测方法

通过蒸发捕集法与溶液吸收法两种前处理方法,利用高分辨电感耦合等离子体质谱对高纯氨中痕量金属杂质进行上机检测。实验表明,双聚焦磁质谱对稀氨水中金属杂质方法检出限低达10-12级,对高纯氨中金属杂质方法检测限低于1×10-9 m/m。方法便捷、准确,容易避免前处理污染,可以作为高纯氨中金属杂质检测的有效手段。     

金属有机化学气相沉积的研究进展

概述了金属有机化学气相沉积技术(MOCVD)的一般原理,讨论了适用于金属有机化学气相沉积的前驱体化合物及反应器类型,介绍了金属有机化学气相沉积技术在半导体化合物材料和各种薄膜材料中的发展及应用。     

金属烷氧基化合物的制备及其结构与挥发性的关系

一、引言金属烷氧基化合物M(OR)_x(M是化合价为x的金属,R为烷基或芳基)被人们认识已有许多年,且已应用在许多有机反应中。由于金属烷氧基化合物涉及到金属—氧—碳键体系,因此,许多化学家对此化合物十分感兴趣,如无机化学家对金属烷氧基的化合价、配位数和金属限定烷氧基中烷基的立体化学感兴趣;有机化学家注重一些有机化学反应中金属烷氧基的催化行为;物理化学家有兴趣从结构和分子间相互作用力上的微观角度研究金属烷氧基化合物的体积和电子效应;近十几年来,由于发现金属烷氧基化合物在高新技术领域是淀积金属氧化物薄膜和超微细金属氧化物粉末的极好的源材料,因此,人们越来越重视高纯金属烷氧基化合物的研制和开发。目前,世界上发达国家都在积极开发金属烷氧基化合物的种类和用途。我国开发高纯金属烷氧基化合物的工作也正在进行。本文讨论金属烷氧基化合物的制备及其结构与挥发性的关系。     

ICP－OES法测定镀铬液中多种金属杂质元素

为简便而准确测定镀铬液中金属杂质元素的含量,采用电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-OES）对镀铬液中A1,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Cd,Sb,Pb等杂质元素进行了测定,确定了仪器的最佳工作参数,选择了合适的分析谱线,研究了主量元素cr和共存元素对光谱的干扰情况。结果表明：10种金属元素的检出限为0．15～...     

高纯三乙基镓的制备

阐述了在无氧和无水的操作条件下对高纯金属有机化合物三乙基镓的制取和提纯。     

金属间化合物FeAl与α—Al2O3的界面润湿行为及合金元素Y和Nb的作用

栖文用座滴法系统研究了稀土元素Ｙ和Ｎｂ对金属间化合物Ｆｅ－４０Ａｌ与α－Ａｌ２Ｏ３体系的润湿行为以及界面交互作用的影响。结果表明，Ｆ３－４０Ａｌ与α－Ａｌ２Ｏ３体系旨润湿的。合金元素Ｙ的适量加入可使该体系的润湿角下降约１０°。此外，Ｙ和Ｎｂ的加入地该体系的界面交互作用有明显影响。     

高分辨ICP-MS测定电子级高纯异丙醇中杂质元素

利用高分辨电感耦合等离子体质谱测定电子级高纯异丙醇中的痕量金属杂质,用膜去溶进样系统直接进样,用标准加入法进行上机检测,无需前处理、快速,避免了在样品前处理时的污染问题。高分辨电感耦合等离子体质谱可以消除多分子离子干扰,降低检出限,提高定量准确性。方法的检出限为0.45~20.79 ng/L,加标法回收率为88.2%~102.6%。方法简单,结果可靠,适用于高纯异丙醇中痕量元素的快速测定。     

浅议挥发性有机化合物VOCs净化方法的应用

全面综述VOCs的危害、对其控制的意义和现状,提出了用流化床焚烧技术来处理VOCs.     

P&T-GC/MS法分析地表水中的挥发性有机化合物

建立了P&T-GC/MS联用分析地表水中的挥发性有机化合物的方法,并对实际水样进行了分析。各目标物的线性回归R值均大于0.999,MDL为0.02-0.11μg/L,RSD为1.3%-6.0%,回收率为90.5%-106%。     

高纯电子级四氟化硅中恒沸物及金属杂质的去除

针对高纯电子级四氟化硅中卤代硅烷恒沸物及金属杂质难以去除的两大难题,采用溶剂萃取精馏法,通过评价5种萃取剂的萃取能力,筛选出一种非极性萃取剂。通过萃取剂的弱氢键作用,使卤代硅烷恒沸物分离至1×10~(-6)以下。同时,利用静电除尘器和新型离子脱除吸附剂,可以使金属杂质含量脱除至50×10~(-9)以下,同时又能保证四氟化硅不发生分解。基于上述方法,高纯电子级四氟化硅的产业化满足了安全环保、高效生产、质量稳定的要求。     

用于挥发性有机化合物探测的微悬臂梁传感器

在研制成功的用于化学气体探测的热驱动微悬臂梁谐振器的基础上,提出了基于这种微悬臂梁谐振器,并以聚合物涂层作为挥发性有机化合物吸附敏感层的谐振式气体传感器.利用3种聚合物材料：聚氧化乙烯（PEO）、聚乙烯醇（PVA）和聚乙二醇乙醚醋酸酯（PEVA）,在微悬臂梁谐振器上制备气体敏感层,探测6种挥发性有机化合物：甲苯、苯、乙醇、丙酮、己烷和辛烷.通过有限元分析估计了聚合物涂层的工作温度.用喷射法制备了PVA和PE-VA涂层,用点滴法制备了PEO涂层.测试了传感器的开环幅频特性,实验检测了气体传感器的谐振频率变化与分析物蒸气浓度的关系以及传感器对相对湿度的响应,分析了传感器的灵敏度和线性度.实验结果表明,这种涂覆聚合物敏感层的热驱动微悬臂梁谐振器为探测挥发性有机化合物提供了良好的平台.根据实验结果,可开发几种基于不同聚合物敏感层的高灵敏度微型气体传感器.     

高纯金属镝的制备

为制备高纯度稀土金属Dy以适应高科技发展的需求,在钙热一次还原法生产的Dv-4,Dv-8的基础上,用中频感应炉进行二次精炼和真空蒸馏,并对工艺进行优化选择得出,二次精炼温度为1450℃,保温40 min最适宜;真空蒸馏1 500℃～1 530℃,保温8 h最佳.用此工艺所制备的金属Dy的纯度超过国标高纯度Dv-1和Dv-2的要求,接近国外高纯Dy的先进技术指标.     

工业硅中杂质元素含量的测定

采用电感耦合等离子体发射光谱法同时测定工业硅中可能存在的铝、铁、钙、镁、钾、钠、磷、钡、等多个微量元素,并以差减法计算基体硅的含量,实现了对试样基体及杂质元素含量的同时测定。