共查询到10条相似文献,搜索用时 46 毫秒
1.
确定PHEMT器件等效电路的一种新方法 总被引:1,自引:0,他引:1
提出了一种新的确定PHEMT器件小信号等效电路方法.这种方法包括对本征元件与非本征元件的解析求解以及逆向求解优化非本征元件,从而提高非本征元件值的精度,使得整个等效电路的精度大大提高.这种方法迅速而准确,用Matlab编制的程序可重复使用.确定的等效电路可以很好地与测量值吻合至2 0 GHz. 相似文献
2.
随着Ga As PHEMT(赝配高电子迁移率晶体管)器件的广泛应用,器件的可靠性及失效分析方法越来越受到人们的重视。该文采用半导体参数分析仪、聚焦离子束(FIB)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、能谱仪(EDX)等分析方法对一种PHEMT器件进行失效分析,为实际生产和加工过程中的失效分析提供了参考。 相似文献
3.
提出了一种新的确定PHEMT器件小信号等效电路方法.这种方法包括对本征元件与非本征元件的解析求解以及逆向求解优化非本征元件,从而提高非本征元件值的精度,使得整个等效电路的精度大大提高.这种方法迅速而准确,用Matlab编制的程序可重复使用.确定的等效电路可以很好地与测量值吻合至20GHz. 相似文献
4.
5.
报道了Ka 波段功率PHEMT的设计和研制结果。利用双平面掺杂的AlGaAs/InGaAsPHEMT材料,采用0.2 μm 的T型栅及槽型通孔接地技术,研制的功率PHEMT的初步测试结果为:Idss:365 m A/m m ;gm 0:320 m S/m m ;Vp:- 1.0~- 2.0 V。总栅宽为750 μm 的功率器件在频率为33 GHz时,输出功率大于280 m W,功率密度达到380 m W/m m ,增益大于6 dB。 相似文献
6.
Xiuping Li Jianjun Gao Choi Look Law Sheel Aditya Georg Boeck 《Journal of Infrared, Millimeter and Terahertz Waves》2003,24(10):1759-1766
An improved on-wafer measurement method by using coaxial calibration instead of on-wafer calibration for PHEMT modeling is proposed in this paper. The advantage is that S-parameters of PHEMT device can be measured on wafer without impedance standard substrate (ISS) after the S-parameters of the microprobes have been determined. Excellent agreement is obtained between on-wafer calibration measurement and coaxial calibration measurements, respectively. 相似文献
7.
8.
介绍了一种30GHz单片压控振荡器的设计、制作和性能.该芯片采用PHEMT工艺制作,电路基于负阻匹配共源网络结构设计.根据PHEMT器件的小信号S参数和直流I-V参数,提取出该器件的Modified-MaterkaFET模型参数,变容二极管由共源-漏晶体管来完成,并通过栅压来控制其容值.测试该电路振荡频率为30.12GHz,输出功率达到12.5dBm,调谐带宽大于150MHz.振荡器的测试结果与理论设计结果基本吻合. 相似文献
9.
介绍了一种30GHz 单片压控振荡器的设计、制作和性能. 该芯片采用PHEMT工艺制作,电路基于负阻匹配共源网络结构设计. 根据PHEMT器件的小信号S参数和直流I-V参数,提取出该器件的Modified-Materka FET模型参数,变容二极管由共源-漏晶体管来完成,并通过栅压来控制其容值. 测试该电路振荡频率为30.12GHz,输出功率达到12.5dBm,调谐带宽大于150MHz. 振荡器的测试结果与理论设计结果基本吻合 相似文献
10.
Ka波段PHEMT功率放大器 总被引:1,自引:0,他引:1
报道了 Ka波段的 PHEMT功率放大器的设计和研制。 PHEMT器件采用 0 .2 μm栅长的 Φ 76 mm Ga As工艺制作 ,并利用 CAD技术指导材料生长和器件制作。单级的 MIC放大器采用0 .3mm栅宽的 PHEMT,在 34GHz处 ,输出功率 10 0 m W,功率增益 4 d B。 相似文献