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相似文献
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1.
介绍了LIGA加工工艺以及多层掩模技术、复制技术、外形磨削成型技术的现状。给出LIGA技术在微驱动器中的应用。  相似文献   

2.
利用准LIGA技术可制造出固定的或可转动的金属微结构,被看作是影响下世纪微机械加工的一项重要技术。介绍了基于准LIGA技术的微齿轮的制作工艺,制作出了m=0.1mm,z=20的微齿轮,齿轮结构清晰,表面和齿廓曲线平滑,侧壁陡直。  相似文献   

3.
微三维机械加工的最新技术──LIGA技术   总被引:2,自引:0,他引:2  
较详细地介绍了LIGA技术,总结其特点,并展望了其应用前景  相似文献   

4.
LIGA技术基础研究   总被引:6,自引:3,他引:6  
阐述了LIGA技术的组成及特点.对LIGA工艺掩膜、X射线光刻、电铸及塑铸等进行了工艺原理分析.用一次成型法制作了以聚酰亚胺为衬基、以Au为吸收体的X射线光刻掩膜.简单介绍了这种掩膜的制作工艺过程,并用这种掩膜在北京电子对撞机国家实验室进行了同步辐射X射线光刻,得到了深度为500μm,深宽比达8.3的PMMA材料的微型电磁马达联轴器结构.给出掩膜和X射线光刻照片.同时,对Au、Ni等金属材料的厚膜电铸进行了工艺研究.  相似文献   

5.
随着众多消费产品向“轻、薄、短、小”方向的发展,微细加工技术日益成为新产品研发中的最重要组成之一,基于微细加工技术的微型机电系统(MEMS)已经成为众多研究机构和企业竞相投资的热门领域之一,其产品遍布工业、农业、医疗、  相似文献   

6.
一种实用的超微技术:LIGA技术及其应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
超微技术是一种新工艺。本文主要介绍了该技术的具体内容。LIGA技术的特点及当前应用情况说明超微技术的实用价值及应用前景。  相似文献   

7.
本文主要阐述了LIGA技术的工艺过程,包括X射线深层光刻、微电铸和微复制工艺.对LIGA重点工序进行了总结并阐明其工艺要点.介绍了在LIGA技术基础上发展起来的准LIGA工艺技术和LIGA技术的发展的趋势.  相似文献   

8.
超微技术是一种新工艺。本文主要介绍了该技术的具体内容。LIGA技术的特点及当前应用情况说明超微技术的实用价值及应用前景。  相似文献   

9.
介绍了利用新的微结构塑料模压技术实现LIGA微结构与CMOS微电子电路准单片集成方法。  相似文献   

10.
三维微细加工中的LIGA技术是被国际上公认为最有发展前途的一种微机械零部件加工工艺技术,但在我国与之配套的辅助工艺尚不完善,因而限制了其发展速度。我们采用准LIGA工艺技术,以常规的紫外光刻方法,成功地制成了具有较高深宽比的微金属齿轮。  相似文献   

11.
准分子激光深层光刻蚀在 LIGA 工艺中的应用   总被引:2,自引:1,他引:1  
介绍了一种用于准分子激光深层光刻实验装置的设计,并将该装置成功地应用于LIGA工艺的深层光刻中,光刻实验表明准分子激光层光刻具有很大的实用意义。  相似文献   

12.
LIGA技术中的X射线掩膜   总被引:1,自引:0,他引:1  
LIGA工艺技术包括光刻、电铸和塑铸3个重要环节。而深层同步辐射光必掩膜技术是X射线光刻应用的关键之一。我们采用聚酰亚胺为衬基,以电铸金结构为吸收体,制作出了X射线掩膜,并进行了深层同步辐射X射线光刻实验研究。  相似文献   

13.
王翔  赵钢  郭锐  李国锋  黄文浩 《中国机械工程》2006,17(10):1051-1055
微机电系统的发展,对微细加工技术提出了更高的要求。目前常用的微细制造技术本质是基于掩模光刻的二维半微加工技术,难以进行真三维结构的制造。对单光子和双光子微细光成形技术的成形原理、加工分辨能力进行分析和实验研究,将其与微细电铸等工艺集成,提出一种能实现真三维制造的、具有不同应用材料的微细加工新方法,并从原理上验证了两者集成的可行性,为后续研究奠定了基础。微细光成形与微细电铸集成工艺技术为进一步拓展微细制造技术提供了新途径。  相似文献   

14.
LIGA technique has been developed since 1993 at BSRF, including the fabrication of LIGA mask, deep X-ray lithography, electroplating, the pouring molding and the applications in some fields. The LIGA mask with gold absorbing structures of 20μm thickness and 5μm width and Kapton membrane of around 5μm thickness has been successfully fabricated and applied to the deep X-ray lithography with the PMMA structure of 1mm thickness or above. The beamline from a wiggler is used for the deep X-ray lithography of LIGA station and is open to other institutes researching the deep X-ray lithography. The normal process of LIGA technique with the exception of molding has been established with the PMMA structures of 500μm thickness at BSRF. The largest aspect ratio of PMMA structures can reach about 50 with the height of 500μm and the lateral size of 10μm. The nickel and copper structures with the thickness of 0.5mm and 1mm have been made by using the electroplating technique. The SU8 as a resist material of deep etch lithography with UV light is also developed in the fabrication of LIGA mask and some devices at BSRF. Electromagnetic stepping micro motor, heat exchange, accelerator, structures used in the EDM (electro discharge machining) are being developed for the future applications.  相似文献   

15.
介绍了利用北京正负对撞机(BEPC)同步辐射X射线光刻装置,进行LIGA工艺技术深结构光刻实验研究,详细论述了X射线光刻使用的掩模制备过程及掩模镀金工艺,在国内最早曝光出直径为400μm、厚为27~45μm的三维立体齿轮胶图形。  相似文献   

16.
1 Introduction  TheSRLincludessoftX -raylithographyanddeepX -raylithography .ThesoftX -raylithog raphyisaimedatfabricatingthesub -micronmi crostructureforthefabricationofquantumdevicesandthereplicationofdeeplithographymask .Thedeeplithographyisusedtofabrica…  相似文献   

17.
微机电系统科学与技术的现状研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
黄志奇  杜平安  卢凉 《机械设计》2003,20(11):4-6,19
概述性地介绍了微机电系统(MicroElectroMechanicalSystem——MEMS)的定义及其特点。从理论基础、技术基础和应用研究三方面阐述了MEMS的主要研究内容。简要介绍了MEMS的基本加工技术,实际应用情况以及国内外MEMS的研究发展现状。  相似文献   

18.
基于LIGA技术的3K-2型微行星齿轮减速器的设计和制造   总被引:1,自引:0,他引:1  
使用同步辐射光和X射线掩模板的LIGA技术能够制造大深宽比的三维微结构。详细讨论了基于该技术的微行星齿轮减速器的设计和制造,包括微行星齿轮减速器的设计、微齿轮X射线掩模板的CAD技术、X射线深层光刻、微齿轮的微电铸和微复制,以及微行昨齿轮减速器的微装配。目前已经得到了金属镍的厚度为400μm的太阳轮、行星轮,厚度为200μm的固定内齿轮、旋转内齿轮,其齿数分别为15、11、36、39。用这些微齿轮装配成了一台模数为0.03mm、减速比为44.2、最大外径为2mm的微行星齿轮减速器,并将其成功地应用在直径为2mm的北型微马达上。  相似文献   

19.
介绍我们为北京正负电子对撞机(Beijing Electron Position Collide,BEPC)同步辐射实验室建造的软X射线光刻光束线的总体设计思想,并说明其中的束线物理设计、反射镜扫描、调整机构、激光模拟光源、真空系统和电子学、微机控制等系统中的关键技术。此外,对束线中的关键器件之一的超薄铍窗(18μm厚)的耐压强度给出了与理论计算趋势相一致的实验结果。  相似文献   

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