电沉积Fe-Ni-Cr合金工艺的研究

在氯化物-硫酸盐体系中,采用电沉积法在45#钢基体上制备Fe-Ni-Cr合金镀层,研究了电流密度、温度及pH值对舍金镀层成分的影响.借助扫描电镜、能谱仪、X射线衍射分析了合金镀层的表面形貌、成分和相组成,采用电化学法和盐雾实验评价了镀层的耐蚀性.结果表明:Fe-Ni-Cr三元合金镀层均匀、致密、光滑,镀层中Cr的质量分...     

电沉积Ni-Co合金工艺条件的研究

研究了硫酸镍 -硫酸钴 -氯化钠体系中钴含量在 4 0 %以下的 Ni- Co合金镀层的影响因素。讨论了温度、p H、电流密度、Ni/ Co质量比、时间等因素对镀层沉积速度和腐蚀速度的影响。通过试验得出了电沉积过程的最佳工艺条件。     

硫脲对Sn-Ni合金电沉积行为的影响

采用极化曲线、循环伏安、交流阻抗和电位阶跃电化学方法,研究了硫脲(TU)浓度对Sn-Ni合金电沉积行为的影响。结果表明,硫脲的加入可以减弱阴极极化,促进金属离子的沉积,并且随着硫脲浓度的增加,去极化作用增强;加入硫脲不改变Sn-Ni合金的电结晶成核机制,仍然按连续成核方式进行。     

电沉积Fe-Co-Ni合金工艺

研究了镀液温度及pH值对Fe-Co-Ni三元合金沉积及其性能的影响,并用X射线衍射分析了阴极电位对镀层性能的影响。结构表明,当加入一定有机添加剂、镀液温度为50—60℃、pH值3．0～4．5及阴极电位控制在-1．2V,得到的三元合金光亮、耐蚀性能好、显微硬度高,其综合性能接近硬铬镀层。     

电沉积光亮Ni-Co合金工艺的研究

通过大量实验 ,研究硫酸镍 硫酸钴 氯化钠体系中得到钴含量 40 %以下的光亮Ni Co合金镀层的最佳添加剂 ;并研究了影响镀层中钴含量的各因素 ,从而得出了光亮镀层中钴含量 2 5 %左右的工艺。     

电沉积Ni-Fe纳米合金工艺研究

采用直流电沉积方法在镀液中加入复合有机添加剂制备了镍铁纳米合金镀层。利用扫描电镜分析镀层形貌及晶粒尺寸,研究了硫酸亚铁铵浓度、电流密度、pH值对镀层中铁含量的影响,测定了镀层的耐腐蚀性能及结合力。结果表明,该纳米镀层表面致密、平整,且结合强度、耐腐蚀性能优良。     

脉冲电沉积工艺参数对Ni-W-P合金镀层性能的影响

针对传统镀硬铬沉积速率低、污染环境等问题,采用脉冲电沉积方法在碳钢表面制备Ni-W-P代铬镀层.采用显微硬度计、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和电化学工作站研究了脉冲频率、平均电流密度和占空比对镀层性能的影响.结果表明:随着脉冲频率、平均电流密度和占空比的增加,镀层的硬度和耐蚀性均呈现出先增大后减小的变化规律;当脉冲频率为250 Hz,平均电流密度为4.0 A/dm2,占空比为30％时,镀层为非晶态结构,表面光滑、平整,结构致密,硬度可达5140 MPa,耐蚀性较好.     

Ni-W纳米晶合金电沉积工艺条件的研究

纳米晶材料与常规晶体材料相比有许多优良的性能 ,已受到广泛关注。本文采用电沉积方法获得了Ni W纳米晶合金镀层。研究了镀液中钨酸钠含量、温度、pH值及电流密度对沉积速度的影响。测定了镀层的显微硬度 ,并用X -射线衍射仪对其微观结构进行了观察。结果表明 ,影响沉积速度最大的因素为pH值 ,其次是电流密度 ;镀层显微硬度最高可达 6 70 .3HV。通过正交试验得出适宜工艺条件范围为 :Na2 WO4·2H2 O 1 0～ 30g/L ,电流密度 1 0～1 5A/dm2 ,温度 6 0～ 70℃ ,pH值 6～ 7。     

电沉积镍铬合金的研究

本文研究了在含三价铬离子的水溶液中电沉积镍铬合金的工艺条件对镀层镍含量的影响。还研究了醋酸盐对电沉积的催化作用。结果表明,在一定范围内提高电流密度和镀液的ＰＨ值增加镀层中的含铬量;当电流密度为２５Ａ／ｄｍ＾２,ｐＨ值为２．５时,沉积出的镍合金含铬量为１１．１％。０．０３７－０．０７３ｍｏｌ／Ｌ醋酸根离子的加入可以提高镀层中铬含量（２－３）ｗｔ％。     

电沉积Sn—Bi合金工艺的研究

采用硫酸盐镀液在铜基体上电沉积Sn-Bi镀层,利用能谱仪(EDS)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)研究了电沉积参数对镀层成分和微观结构的影响.结果表明:镀层中Sn的质量分数随着镀液中Sn的质量浓度的增大而增大,同时随着电流密度的增大,Sn的质量分数不断减少;Sn-Bi镀层主要由四方晶系的Sn和菱形晶系的Bi组成;另外,研究发现电流密度对镀层形貌影响较大.     

工艺参数对电镀镍钴合金及其性能的影响

在氨基磺酸盐镀液体系中,采用电沉积法制备Ni-Co合金镀层,采用SEM、XRD与维氏硬度仪分析镀层相结构、微观形貌及显微硬度,并研究了沉积电流密度、氨基磺酸钴浓度及电镀液温度对镀层微观结构与显微硬度的影响.结果表明:阴极电流密度对镀层的择优取向无显著影响,但对各衍射峰强度影响较大.氨基磺酸钴浓度对择优取向有明显影响,当...     

电沉积Fe-Ni合金箔的工艺和性能研究

用电沉积的方法,在N iSO4及FeSO4电解质体系中成功制得了铁的质量分数为23.2%~63%,厚度为23~43μm的Fe-N i纳米晶合金箔。镀层光亮平滑,内应力小,有优良的韧性和耐腐蚀性。镀层中铁含量及电流效率随着电流密度、pH、温度的变化而变化。电流密度、溶液温度和pH影响合金箔的沉积速度和硬度;合金箔中的Fe含量影响合金箔的耐腐蚀性。应用X-射线衍射来测量晶格常数和晶粒粒径的大小,用扫描电镜观测镀层的表面形貌。硬度为16.8~19.5HR 30T,抗拉强度和延伸率分别为779.66 M Pa和1%,电阻率为29.56~62.99(μΩ.cm)。     

电沉积高耐蚀性Zn-Ni合金新工艺

Zn-Ni合金镀层具有较好的耐蚀性,应用于金属表面防护具有很大的发展前景。为此开发了一种电沉积高耐蚀性Zn-Ni合金的新工艺,该工艺具有成本低、操作方便、镀液稳定及镀层易钝化等优点。在45#钢表面电沉积Zn-Ni合金镀层,并对镀层的截面形貌、成分以及耐蚀性进行测试。结果表明:所得镀层光亮、平整,结晶细致、均匀;镀层中Ni的质量分数为14.52%;镀层经钝化处理后,其耐蚀性进一步提高,其中黑色钝化的效果最佳。     

硫酸盐三价铬电沉积铬-磷合金工艺的研究

优选和开发了一种在质量浓度低的硫酸盐三价铬镀液中电沉积铬-磷合金的工艺。采用正交实验法得到了最佳镀液组成和工艺条件,并对镀液和镀层的性能进行了测试。测试结果显示:镀液的稳定性好,沉积速率快,光亮电流密度范围宽;镀层外观光亮,结合力、耐蚀性优良。     

氯铝酸熔融盐中电沉积铝及铝合金研究的进展

综述了近年来在无机及有机氯铝酸熔融盐中电沉积铝和铝合金研究的进展,着重介绍了电沉积金属及其合金的熔融盐,电沉积铝_及其合金的无机和有机氯铝酸熔融盐,并进行展望.与其他熔融盐相比,氯铝酸熔融盐具有溶解能力强,易于配制,废液易于处理和价廉等优点,在电镀生产中有着广阔的应用前景.     

电渣重熔工艺对4J43合金性能的影响

采用2G-200L型金相显微镜观察分析了4J43合金电渣锭表面质量及横、纵截面宏观结晶组织,分析对比了电渣重熔前后化学成分、气体含量和夹杂物分布的差异。结果表明,4J43合金经电渣重熔后,化学成分较均匀,气体含量下降且稳定,表面质量良好,宏观结晶组织致密、均匀,夹杂物去除明显,产品品质明显提升,满足典型4J43合金的性能要求。     

关注明胶生产中不锈钢设备的使用

在明胶生产中,大量地使用了不锈钢材料,如管道、阀门、蒸发器、挤胶机、各种容器等,几乎所有可以使用不锈钢的环节都尽可能地使用了它。这是因为,不锈钢具有良好的耐腐蚀性、卫生性,且表面加工可以达到很高的精度（亚光,甚至镜面）,具有光洁、美观、易清洗、易灭菌和消毒的优点,的确是一种良好的、理想的材料。怛是,不锈钢在使用上也有一定的局限性。由于人们对某些相关问题认识不足,也就容易造成一些生产事故,给企业带来了一定的经济损失。本文将就若干问题进行粗浅的探讨,希望对读者有所帮助。     

聚乙二醇和2-巯基苯并噻唑在碱性条件下对铜电沉积行为的影响

讨论了聚乙二醇和2-巯基苯并噻唑时碱性柠檬酸盐镀铜电沉积行为的影响.采用循环伏安法,计时电流法,扫描电子显微镜和X射线衍射分析了镀液的极化作用和微观沉积行为.结果表明:聚乙二醇在阴极具有较强的吸附能力,对中等电流密度区镀层起细化晶粒作用,使铜电沉积的初期行为由瞬时成核和连续成核共同存在的方式组成;2-巯基苯并噻唑能提高...     

骨料浸酸过程自动化控制

<正> 明胶生产过程中骨料浸酸是一个重要的单元操作,该操作单元一般采用酸液逆流浸渍的方式进行,与新鲜骨料接触的是含Ca(H_2PO_4)_2比例较大的稀酸,而与几乎将达到浸酸终点骨料接触的是浓度为4.0％～4.5％,温度为8～10℃的新酸,由于明胶生产过程中前工序均属间歇操作,一般均采用人工操作方式,浸酸过程也无例外地被列人人工操作范围之内,但是该工序很有必要采用自动化控制,主要有以下两方面原因: