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采用脉冲电沉积技术在结晶器铜板表面制备了Ni-Al_2O_3复合镀层,并研究了脉冲电沉积工艺参数对其硬度的影响。结果表明:Ni-Al_2O_3复合镀层的硬度随占空比的增大(20%~100%)先增大后减小,随平均电流密度的增加(2~15A/dm~2)同样是先增大后减小;在占空比70%、平均电流密度9A/dm~2的条件下,获得纳米微粒的质量分数为3.76%的Ni-Al_2O_3复合镀层,其硬度达到最大值5.5GPa。复合镀层中纳米微粒的质量分数升高,有利于提高复合镀层的硬度。 相似文献
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《电镀与涂饰》2017,(1)
采用喷射电沉积法在45钢棒表面制备Co-P合金镀层。镀液组成和工艺参数为:CoSO_4·7H_2O 200 g/L,H_3PO_4 50g/L,H_3BO_3 30 g/L,NaCl 25 g/L,pH=1.0,温度50℃,喷头移动速率1.2 mm/s,电流密度10~70A/dm~2。研究了电流密度对Co-P合金镀层的表面形貌、相结构、显微硬度和耐磨性的影响。结果表明:在10~70A/dm~2电流密度范围内,随电流密度从10A/dm~2增大到70 A/dm~2,Co-P合金镀层的厚度变化不大,晶粒细化,显微硬度升高,耐磨性改善,但电流密度高于40A/dm~2时所得镀层的表面平整度下降。 相似文献
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采用改进的瓦特型镀液,在模具钢(Cr12MoV钢)基体上电沉积Ni-Co合金镀层,并研究了电流密度对合金镀层的成分、表面形貌、硬度和耐磨性的影响。结果表明:随着电流密度的增大,Co的质量分数降低,合金镀层的表面形貌发生明显变化,其硬度先增大后减小,平均摩擦因数先降低后升高。当电流密度达到3A/dm~2时,合金镀层晶粒细化、组织致密,具有较高的硬度(4.57GPa)和良好的耐磨性(平均摩擦因数为0.3)。 相似文献
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研究了pH值、温度、电流密度以及主盐的质量浓度对低温镀铁层显微硬度的影响。结果表明:电流密度为14A/dm2时镀层的显微硬度最高,电流密度为16A/dm2时镀层有针孔出现;随着pH值的增大,温度的升高或者镀液中主盐的质量浓度的增加,镀层的显微硬度降低。 相似文献
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Ni—ZrO2复合镀层的形成及其高温氧化性能 总被引:2,自引:0,他引:2
试验结果表明在Ni-ZrO_2复合镀层的形成过程中,当电流密度<2A/dm~2时,ZrO_2共沉积量将随着电流密度的增大而增加;而当电流密度>2A/dm~2时,ZrO_2共沉积量将随着电流密度的增大而减小,?这个趋势较不明显.前者的律速步骤是第二吸附步骤——强吸附;而后者是由第一吸附步骤——弱吸附控制.含有ZrO_2的复合镀层的氧化速度明显低于纯Ni镀层,并且随着复合镀层中ZrO_2含量的增加,它的氧化速度也相应随之降低.含有5.6%ZrO_2复合镀层和纯Ni镀层相比较,它的高温抗氧化能力可以提高约1~3倍. 相似文献
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通过在瓦特镀镍液中添加金属配位剂和金属阳极活化剂,对钛电极先采用阳极脉冲电流活化,再对活化后的钛电极进行脉冲电沉积,在TC11钛合金表面获得了结合力优良的镍镀层.研究了电解液组分、工艺参数对镀层结合力的影响.结果表明,在硫酸镍电解液中添加40 g/L阳极活化剂,采用1.4 A/dm2阳极脉冲电流对TC11钛合金进行电化学处理,可使TC11钛合金产生活性溶解,将脉冲电流切换为阴极电沉积后,便可在TC11钛合金表面沉积一层结合力优良的镍镀层.文章讨论了脉冲阴、阳极平均电流密度、占空比、频率、电解液组分等工艺参数对镍镀层质量的影响. 相似文献
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在45钢表面以超声波辅助脉冲电沉积制备Ni-TiN复合镀层。研究了平均阴极电流密度、脉冲占空比、超声功率和TiN粒子(平均直径20~30 nm)添加量对复合镀层的TiN粒子含量和显微硬度的影响。得到较优的工艺参数为:NiSO4ꞏ6H2O 300 g/L,NiCl2ꞏ6H2O 30 g/L,H3BO330 g/L,十二烷基硫酸钠0.3 g/L,TiN 25 g/L,pH 4.1~4.3,温度40°C,平均阴极电流密度4 A/dm2,脉冲占空比40%,脉冲频率1000 Hz,超声功率300 W,机械搅拌速率200 r/min,时间60 min。该条件下所得Ni-TiN复合镀层的TiN质量分数为8.35%,显微硬度为819 HV,表面平整、致密,晶粒尺寸均匀。 相似文献
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镀层与基体的润湿程度可用于检测镀锡层可焊性。通过正交实验,以镀锡层可焊性为评价指标,选择了紫铜毛细管表面脉冲电镀锡最佳工艺参数为:平均电流密度1.5 A/dm2,脉冲周期100 m s,占空比10%,搅拌速率20次/m in。研究了平均电流密度在1.0~2.5 A/dm2范围内,对镀锡层可焊性的影响。在相同的平均电流密度1.5 A/dm2下,比较了脉冲电镀与直流电镀2种方法所得镀层的可焊性,脉冲镀锡层的润湿程度明显优于直流镀层,这可能是由于脉冲电镀中阴极浓差极化降低,镀层中的杂质减少,因此镀层的可焊性得到了改善。 相似文献