碳化钛—铝基体选择性吸收膜的研究

本文研究了用于真空集热管的碳化钛太阳能选择性吸收膜层。采用磁控溅射单靶金属钛反应沉积在铝基体上,这种膜层的光学性能的吸收率α达到0.917,热辐射率ε达到0.07。     

提高太阳能集热管磁控溅射镀膜沉积速率的研究

工业上用磁控溅射技术为太阳能集热管制备Al-N/Al选择性吸收涂层,这种吸收涂层最外层为AlN介质减反层.在开环N2流量控制模式下,存在溅射制备AlN介质减反层沉积速率低的缺点.本文依据气相化学反应动力学理论,薄膜的沉积率正比于反应气体的浓度,提出了一种提高制备AlN陶瓷减反层沉积速率的方法.该方法将直流溅射靶电压反馈至模糊控制器,控制N2流量大小,让磁控溅射镀膜机稳定工作在拐点电压附近,实现反应溅射恒电压控制.并且采用单片机技术制作了样机,在SCS-700A型太阳能集热管镀膜机中使用,实验结果表明,镀膜沉积速率提高了4倍以上,整个系统工作稳定.     

太阳能集热管镀膜设备与工艺

本文较全面的阐述了利用磁控溅射镀膜设备镀制真空玻璃太阳能集热管选择性吸收涂层（薄膜）新技术，并对适于批量生产高效率高性能的太阳能集热管的先进设备和工艺进行了论述。其设备结构简单、操作方便、性能稳定可靠，薄膜材料来源方便、价格低廉，所镀膜层均匀牢固，使用寿命长，具有较高的集热效果，其吸收率值高达０．９５～０．９７，辐射率为０．０５～０．０８；镀管成品率较高，可达９５％以上，成本低，与化学工艺相比，可降低成本４８％。可见具有明显的经济效益。同时这一新工艺无环境污染，工作人员劳动强度低，对身体无害。     

真空玻璃集热管溅射α-C∶H/Al-N/Al吸收涂层的研究

用磁控溅射镀膜技术镀制太阳能集热管的涂层研究结果表明,用单一的铝靶极及氮气、乙炔气体等材料,经直流反应和非反应溅射,在玻璃管上镀制α-C∶H/Al-N/Al选择性吸收涂层,其太阳吸收比αS=0.93～0.94,半球向发射比εh=0.07～0.08,与Al-N/Al选择性吸收涂层相比,反应溅射阶段镀膜时间缩短了59%.     

真空玻璃集热管溅射α—C：H／Al—N／Al吸收涂层的研究

用磁控溅射镀膜技术镀制太阳能集热管的涂层研究结果表明，用单一的铝靶极及氮气、乙炔气体等材料，经直流反应和非反应溅射，在玻璃管上镀制α－C：H／Al-N/Al选择性吸收涂层，其太阳吸收比αs=0.93-0.94，半球向发射比εh=0.07-0.08，与Al-N/Al选择性吸收涂层相比，反应溅射阶段镀膜时间缩短了59％。     

反应溅射太阳能选择性涂层试验研究中的几个问题

本文简述了用真空集热管磁控溅射镀膜机铁制不锈钢－碳／铜选择性吸收涂层的结果。讨论了镀膜机的吸收管布置问距，涂层光学性质的均匀性等问题，并提出了改进的途径。     

磁控溅射镀氮化钛工艺分析

本文从工厂应用的角度着重讨论磁控溅射镀膜机镀氮化钛装饰膜的工艺问题。     

太阳能集热管涂层关键技术进展

本文针对氧化物-金属陶瓷太阳能选择性涂层,研究开发了大功率射频磁控溅射技术,太阳能选择性涂层模拟计算模型,真空太阳能选择性涂层高温光谱仪和真空太阳能集热管热效率真空测试装置,为发展高温太阳能集热管产业化奠定基础。     

JZH-900型钛金镀膜机研制成功

锦州真空设备厂研制的JZH-900型钛金镀膜机,及其磁控溅射氮化钛陶瓷仿金镀膜工艺,于1984年12月18日至19日通过了技术鉴定。 JZH—900型钛金镀膜机是国内第一台活性反应同轴磁控溅射氮化钛生产型设备,首次应用在陶瓷表面仿金涂层的批量生产获得成功,填补了国内空白。 该设备适用于镀制瓷质的雕塑品、艺术品、酒具、茶具等表面仿金装饰膜层,同时具有普通磁控溅射镀膜设备的所有功能。 该设备各项技术指标均已达到或优于设计指标,其性能稳定、操作方便、装容量大、工作周期短。 磁控溅射氨化钛陶瓷仿金镀膜工艺比较成熟,在国内首次成功地解…     

太阳能集热管的镀膜设备──DJT—800型磁控溅射镀膜机的研制

前言 本机用于镀制真空玻璃太阳能集热管选择性吸收薄膜。是生产太阳能集热管不可缺少的新型设备。 太阳能是取之不尽用之不竭的巨大天然能源。直接利用太阳能是开发新能源的主要途径之一;是一项节省可燃性能源、发展工农业生产、改善人民生活具有深远意义的重要措施。近年来,太阳能的利用引起了各国的高度重视,并开展了广泛的研究。一些先进国家,如美、澳、日、德等国研究颇有成效,现已转入应用之中。 我国对太阳能利用的研究,虽起步较晚,但现已取得初步成效。其中,真空玻璃太阳能集热管是研究单位较多的重点项目。因这种集热管不仅在炎热…     

太阳能集热板镀膜及其设备

介绍了采用真空磁控溅射的方法在太阳能集热板上镀选择性吸收膜，从而使平板太阳能热水器的热效率得到提高；集热板的αs=0．91～0．96；ε≤0．1。并介绍了镀膜设备的性能。     

直流磁控溅射Cr/Cr2O3金属陶瓷选择吸收薄膜的研究

光谱选择吸收薄膜的制备是太阳能集热器高效吸收太阳能的关键技术。本文首先研究了磁控溅射Cr／Cr2O3金属陶瓷选择吸收膜中，氧气流量、溅射靶电流等基本参数对靶电压的影响，然后对不同氧气流量和靶电流条件下制备的Cr／Cr2O3金属陶瓷选择吸收膜的光学常数采用椭偏仪进行了研究，得到了不同工艺条件下的Cr／Cr2O3金属陶瓷薄膜的光学常数，最后经过膜系设计和试验镀制，制备出了室温下吸收率α≥95％、发射率ε≤5％的高性能太阳能选择吸收膜。     

微结构对太阳能选择性吸收薄膜性能的影响

介绍了制备光热太阳能选择性吸收薄膜的条件及薄膜的制备方法。采用二次阳极氧化方法在铝基底上制备了多孔微结构,再利用磁控溅射制备SS-AlN多层膜。用SEM、Optsol Absorber Control等测试手段表征了膜系的表面形貌、光谱吸收性能等,考察了微结构对太阳能选择性吸收薄膜性能的影响。结果表明基底表面微结构能有效提高其光谱吸收率。     

真空镀膜平板太阳能集热器的应用前景

主要介绍了平板集热器的结构、特点以及平板集热器板芯选择性吸收涂层的几种制备方法,真空磁控溅射制备选择性吸收涂层,提高光热效率和涂层的使用寿命,具有膜层均匀、致密、生产环保等特点。适合于连续式工业化生产,作为建筑材料,实现太阳能利用与建筑一体化,是新一代太阳能集热产品。     

TiAlN/SiO2太阳能选择性吸收薄膜的制备与研究

采用直流磁控溅射法在铜基底上制备了TiAlN/SiO2选择性吸收薄膜。通过调整制备过程中的工艺参数,得到优化后的组合薄膜(铜基底),其吸收率可达0.92、发射率为0.06。在此组合膜系中,TiAlN为吸收层,SiO2为减反层。对基底为铜片的样品在550℃退火2h,其性质保持稳定,表明TiAlN/SiO2组合薄膜在高温太阳能选择性吸收领域具有一定的应用前景。     

铜基NiCr系太阳光吸收薄膜制备及性能分析

基于等效媒质理论设计了NiCr四层渐变膜系。以4∶1的NiCr合金靶材,氧气和氮气为反应气体,氩气为工作气体,用磁控反应溅射法制备蓝色NiCr系太阳能光谱选择性吸收薄膜。测试分析薄膜成分、微观结构、厚度、吸收比和发射率对薄膜性能的影响。测试结果表明两层吸收膜的吸收比大于单层吸收膜;单层吸收膜的吸收比随填充因子的增大而增大;当单层吸收膜的填充因子在两层吸收膜的填充因子之间时,两层吸收膜的发射率小于单层吸收膜;两层吸收膜的吸收比随减反射层厚度的增大先增大后减小,发射率则一直增大。为多层铜基NiCr系阳光吸收膜磁控溅射沉积制备工艺提供了理论依据。     

全玻璃SS-AlN金属陶瓷真空太阳集热管

不锈钢-氮化铝(SS-AlN)金属陶瓷太阳选择性吸收涂层于1995年在实验室制备成功,采用真空磁控溅射沉积。太阳吸收复合膜采用干涉吸收型膜层结构,由不同金属含量的两层金属陶瓷层组成吸收层。金属陶瓷吸收层采用在镀膜室中SS和Al金属靶,在溅射气体Ar和反应气体N2中同时溅射运行,SS靶非反应溅射沉积SS金属组分,Al靶反应溅射沉积AlN陶瓷组分。实验室沉积的SS-AlN吸收涂层的太阳吸收比高达94%～96%,室温辐射比3.5%～4.0%。皇明公司2001年开始产业化生产全玻璃SS-AlN真空太阳集热管。我们开发了立式集热管连续镀膜线,第一条镀膜线于2007年调试成功,投入生产。集热管镀膜线真空系统长约41 m,高约3 m。每条线日产约为1.8～2.0万支。     

热反射玻璃镀膜工艺的研究

本文采用直流磁控溅射方法，对氧化不锈钢膜、金属Ｔｉ膜、ＴｉＮ膜和ＴｉＯｘＮｙ膜在不同工艺和不同组合条件下形成的两层膜系热反射镀膜玻璃的光学性能及有关组份进行了测试分析，阐明了该种方法及该种系列工艺条件下镀制热反射玻璃镀膜的性质，提出了此工艺条件镀制两层膜系热反射玻璃镀膜的最佳组合工艺。对有关工业生产中实施工艺技术所存在的问题进行了探讨     

同轴磁控溅射离子镀膜在装铈膜和超硬膜中的应用

同轴式磁控溅射离子镀膜机是磁控溅射和离子镀膜相结合的一种镀膜设备。从不小于1.5×2m 大面积基底上所镀膜层的均匀性和实际应用的可行性来看,是一种较好的成膜手段。1.国内现状目前国内生产蒸发式镀膜设备的厂家不少。这种方法是以高纯铝丝或铁铬镍合金丝等作为膜材,在大面积上镀镜或镀建材玻璃膜。普遍认为蒸发膜存在着如下问题:     

三柱靶磁控溅射镀膜机在工艺品装饰镀中的应用

将三柱靶磁控溅射镀膜机应用于工艺品装饰镀生产中,开发多种镀膜工艺并进行了批量生产,实践证明:三柱靶磁控溅射镀膜技术结合特制的衬底漆和保护面漆涂装工艺,能够在工艺品上获得合格的装饰层.拓展该技术在工艺品行业的应用,可有效减轻传统电镀对环境的污染.