洋葱状富勒烯的水中放电制备法

自1992年洋葱状富勒烯（onion-like fullerenes,OLFs）被发现以来,由于其在超导、耐磨和非线性光学等领域显示了巨大的潜在应用价值,引起了科学界的广泛关注。然而到目前为止,制备OLFs通常所采用的传统电孤放电法、电子束辐照法、碳离子注入法等方法中还没有一种能够满足OLFs低成本宏量制备的要求。     

等离子体条件下合成煤基洋葱状富勒烯的研究

洋葱状富勒烯（onion-like fullerenes OLFs）作为富勒烯类新型碳材料中的一员,因其独特的中空笼状及同心壳层结构,有望在耐磨材料、超导材料、光电材料、信息材料和生物医用材料等领域广泛应用。目前在OLFs研究中,最重要、最迫切的仍然是如何进一步开发实用、价廉的可宏量制备的方法。本文利用射频等离子体法以平朔煤为原料制备了大量较纯净的石墨化程度很高的OLFS,     

纳米结构洋葱状富勒烯的CCVD法制备

纳米结构洋葱状富勒烯(NSOFs)是准球体同心壳层形状的碳笼构成的富勒烯分子，由于其独特的结构及性能，具有极富潜力的应用前景。现有的制备洋葱状富勒烯的方法有高能电子束辐照含碳物质、水中电弧放电法、纳米金刚石粉热处理和射频等离子CVD等。但由于上述种种方法的制备条件苛刻，不适合工     

氧化物催化电弧法制备洋葱状富勒烯的研究

纳水洋葱状富勒烯作为富勒烯家族中的新成员，自1992年被发现以来，已在全世界范围内引起了各国学者的广泛关注和极大兴趣。然而，由于缺乏有效宏量制备纳米洋葱状富勒烯的方法，目前的研究仍处于实验室阶段。我们课题组在自制的直流电弧放电设备中，不断改进放电工艺，用多种催化剂(Ti、Fe、Ni、     

聚乙二醇放电介质中洋葱状富勒烯的制备与表面修饰

以分子量为600、400和200的聚乙二醇（PEG）为介质电弧放电法制备了洋葱状富勒烯（OLFs）;利用空气氧化法于450℃条件下对产物进行了提纯,并用含氧射频等离子体对纯化后的OLFs进行了表面氧化修饰;用场发射扫描电镜、高分辨透射电镜、X射线衍射和傅立叶变换红外光谱对所得产物进行了表征和分析。结果表明：在PEG200中放电制得的OLFs粒径均匀,石墨化程度较高;空气氧化法能提高OLFs产物的纯度;当氧气含量为20%时,表面氧化修饰效果明显。     

富勒烯形貌的多样性及超微观结构

目的：通过催化热解法制备了多种形态的富勒烯。对不同工艺参数下形成的富勒烯的形貌和超微观结构进行了SEM、HRTEM、XRD和Raman谱等测试分析。结果表明：形成的富勒烯主要包括单纯洋葱状富勒烯、金属纳米微粒内包洋葱状富勒烯,以及树枝状和线团状等特殊形态的富勒烯。被洋葱状富勒烯包裹的金属为纯Fe纳米微粒。拉曼谱峰分析结果表明石墨化程度很高。     

真空热处理条件下纳米洋葱状富勒烯的结构

纳米洋葱状富勒烯（NanoOnion-like Fullerenes,NOLFs）作为富勒烯家族的一个新成员自1992年被发现以来由于其独特的中空笼状结构和潜在的应用前景引起研究者广泛的关注。目前，制备NOLFs的主要方法有电弧放电法、等离子体法，化学气相沉积法和真空热处理法。本文以金属Ni为催化剂，石墨粉为碳源探讨了真空热处理条件下温度对NOLFs结构形态的影响。     

聚乙二醇放电介质中洋葱状富勒烯的制备与表面修饰

以分子量为600、400和200的聚乙二醇（PEG）为介质电弧放电法制备了洋葱状富勒烯（OLFs）;利用空气氧化法于450℃条件下对产物进行了提纯,并用含氧射频等离子体对纯化后的OLFs进行了表面氧化修饰;用场发射扫描电镜、高分辨透射电镜、X射线衍射和傅立叶变换红外光谱对所得产物进行了表征和分析。结果表明：在PEG200中放电制得的OLFs粒径均匀,石墨化程度较高;空气氧化法能提高OLFs产物的纯度;当氧气含量为20％时,表面氧化修饰效果明显。     

金属／洋葱状富勒烯的HRTEM与光学性能研究

利用金属/洋葱状富勒烯奇异的分子结构和独特的光电性能，引发世人研究采用多种方法制备富勒烯复合材料，将金属纳米微粒加入到洋葱状富勒烯的笼状中空内，用以制成具有特殊性能的纳米材料，并逐渐成为研究热点。本实验采用催化化学气相沉积法制备出了金属/洋葱状富勤烯，采用SEM和HRTEM进行结构表征，并对其荧光性能进行了分析。     

CVD法制备纳米洋葱状富勒烯的研究

纳米洋葱状富勒烯（NOLFs）的常用制备方法有：直流电弧法、高能电子束辐照法、化学气相沉积法、真空热处理法、机械球磨法和射频等离子法等。由于这些方法目前制备出的NOLFs形状不一，颗粒不均匀，有的不完全是球形，所以我们采用的是将二茂铁溶于环已烷中的CVD法制备NOLFs，     

煤制备洋葱状富勒烯的HREM分析

采用直流电弧放电法以煤为原料制备富勒烯。实验采用工作气体为Ar，催化剂选用纳米Cu颗粒。所得到的阴极产物的HREM观察表明：在适当的工艺条件和催化剂作用下，可宏量制备出碳纳米颗粒—洋葱状富勒烯(nano-structured onion-like-fullerenes；NSOFs)，直径为25～40nm；同时生成一些特殊形状的碳纳米管，其形状为探讨高温条件下碳纳米管向洋葱状富勒烯转变提供了有力的证据；煤的独特结构使其在制备过程中沿两条路径形成富勒烯：非晶态碳原子的石墨化和芳香结构的重排。X射线能谱分析表明煤中舍有Mg、Si、S等微量矿物元素，这些元素的存在意味着可能对洋葱状富勒烯的生成有催化作用，     

微波作用下碳灰颗粒的形貌变化

强辐射激光已被发现可使纳米碳灰颗粒内部发生快速的结构变化,甚至可用来直接制备出洋葱状的巴基葱.研究了作用面更广的辐射场,即微波与碳灰纳米颗粒之间的相互作用.以金属基底作辅助,发现玻璃真空腔中的样品在微波照射下亦出现快速的内部结构变化,并呈现出洋葱状的多缺陷巴基葱.利用高分辨透射电镜和气体发光等手段研究了这一变化过程,发现C2分子仍为这一过程中的最小基本单元,这为该结构的变化机理提供了有效依据.     

正交相SnO2纳米带的电子显微学研究

自从1991年，Iijima发现纳米碳管以来，一维纳米材料（包括纳米线、纳米带、纳米棒等）成为材料科学研究中一个崭新的热点。由于它们独特的结构特性和因此而具有的不同于传统二维三维材料的新颖物理性质，这些一维纳米材料有着很大的基础研究价值和潜在的应用价值，从而受到人们的广泛关注和研究。     

新型二维材料碳化钛纳米片光限幅特性研究

作为一类新型二维纳米材料,金属碳/氮化物纳米片（MXene）具有高的比表面积和电导率,以及组分、层数与厚度灵活可控的优点,在储能、催化、传感和光学等领域具有潜在应用价值。研究了一种MXene材料碳化钛（Ti3C2TX）纳米片分散液的非线性光学效应及其响应机制。发现Ti3C2TX纳米片分散液在532、1 064 nm纳秒脉冲激光作用下表现出优异的光限幅性能,其限幅阈值分别为0.14 J/cm2和0.12 J/cm2;通过测量非线性散射光强度随入射光功率密度的依赖关系,发现该材料光限幅响应机制主要起源于非线性光学散射效应。与传统的光限幅材料C60比较,该材料具有光限幅阈值低、响应波长范围宽等优点。     

用纳米球、纳米线加强高分子复合材料

北卡罗莱纳州立大学制造出一种新型高分子材料，是由富勒烯外壳包裹的过渡金属或其它元素。这种被称作纳米球、纳米线的材料可添加到一些新材料中，从而改善它们的性能。纯度为99．9％的金属富勒烯产品，其成本均低于1美元/g；纯度超过99％的C60Fe的批发价格为0．1美元/g。     

Si/Ge复合纳米结构的制备及表征

以Si和GeO2为原料,通过简单直接的热蒸发法在衬底的不同温度区域上得到了章鱼状、羽毛球状、拖把状等不同形貌的Si/Ge/O复合纳米结构。利用扫描电镜（SEM）研究了不同衬底区域纳米结构的形态,结合透射电镜（TEM）的明场像和扫描透射（STEM）模式下能谱的面扫描,系统地研究了不同形貌纳米结构的成分分布,并对生长过程进行了探讨。     

二维金纳米阵列制备及其光学响应

有序贵金属纳米结构由于其本身所特有的光学响应及灵活调控能力,在微纳光电子材料与器件研究领域得到了广泛应用。在众多相关研究中,如何实现金（Au）纳米周期结构的大面积快速制备是人们关心的重要问题之一。采用纳米球自组装刻蚀方法,在大孔周期结构模板内部成功制备了新型二维Au纳米阵列,并有效避免了杂散Au纳米颗粒的产生。通过进一步的工艺优化和参量控制,实现了Au纳米颗粒尺寸的灵活调控,并探讨了其结构形成的物理机理。光学测试研究结果揭示了二维Au纳米阵列的表面等离子体吸收与散射响应,并证明其在近红外飞秒脉冲激励下具有显著的双光子吸收（饱和）效应。该研究结果在太阳能电池,光开关及材料微纳制备等领域具有潜在应用。     

一种新型半导体材料—纳米晶硅

一种新型半导体材料──纳米晶硅李建军，魏希文，万明芳（大连理工大学半导体研究室１１６０２３）一、引言继非晶硅、多晶硅、微晶硅之后，纳米晶硅是近几年发展起来的又一种新型半导体材料。纳米固体材料是一种既不同于晶态也不同于非晶态的第三类固体材料，由１～１５...     

纳米金棒的开发和应用

纳米金棒 近年来除球形纳米金粒（纳米金球）之外，还合成了各种各样形状的纳米金粒，其中就有棒状的纳米金粒（纳米金棒）。严格来讲纵横尺寸比（纵轴与横轴的长度比）大约为2～20的物体即可称做棒。纳米金棒之所以受到关注，是因为它的两端具有强的增强电场，而在长轴方向与短轴方向显示不同的等离子谱带，对周围介质的电容率十分敏感。电子具有这样的特性，因而很有希望成为纳米光子学和检测（传感）领域中得到重要应用的一种纳米材料。     

富勒烯作为电子束抗蚀剂在纳米光刻中的应用

纳米光刻对于纳米电子学的研究与发展具有非常重要的意义。分子尺寸为０．７纳米且可发生电子束诱导聚合的富勒烯（主要是Ｃ６０）,可以作为电子束抗蚀剂,用于电子束纳米光刻,制作纳米级精细图形。这类抗蚀剂主要有三种类型：纯Ｃ６０、、Ｃ６０衍生物及Ｃ６０与常用抗旬剂形成的纳米复合抗旬剂。介绍了这方面工作的研究现状、存在的问题及发展前景。