硅的离子束抛光技术研究

介绍了用离子束抛光法获得硅的超光滑表面的方法，并给出了不同抛光条件下表面粗糙的原子力显微镜（ＡＦＭ）测量结果，其中最好的表面粗糙度达０．１２ｎｍ（有效值）《     

离子束倾斜入射抛光对表面粗糙度的影响

基于光学元件离子束高精度确定性抛光技术,在自行研制的离子束抛光机床上,本文研究了离子束倾斜入射抛光对光学材料熔石英表面粗糙度的影响.为了在离子束抛光中改善表面粗糙度,采用了0°～80°之间不同入射角度的离子束倾斜抛光和倾斜45°入射均匀去除两种实验方案进行研究,其中不同入射角度抛光实验研究结果表明:离子束垂直入射抛光较难改善表面粗糙度,倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,入射角为30°～60°之间时抛光效果最佳,表面粗糙度得到明显改善;倾斜45°入射均匀去除抛光实验结果表明表面粗糙度的RMS值由抛光前(0.92±0.06)nm下降到(0.48±0.04)nm,提高了光学零件的表面质量,验证了离子束倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,实现了离子束倾斜抛光超光滑表面的生成.     

磁流变抛光（MRF）技术的发展

对磁流变抛光技术20多年来的发展作了简要的回顾，介绍了磁流变液的组成、抛光机理及磁流变抛光技术的产生、发展和最新研究情况，并对其发展未来进行了展望。     

纳米颗粒胶体动压空化射流抛光技术初探(英文)

为了高效加工优质的超光滑表面,提出了一种超光滑表面加工的新方法:纳米颗粒胶体动压空化射流抛光(HCJP).此法利用纳米颗粒与工件表面之间的界面化学反应实现工件表面的原子级去除,并且利用空化射流中的水力空化现象强化加工过程中的机械与化学作用以提高加工效率.设计了HCJP原型装置,并在此基础上对HCJP技术进行了初步实验.结果表明,较低的系统压力有利于得到优质的表面,使用该方法能在K9玻璃上得到粗糙度值在1 nm左右的超光滑表面,证明此技术可以广泛应用于超光滑表面的加工.     

铝硅合金压铸件电解抛光新工艺

简述了电解抛光原理，提出了一种铝硅合金压铸件的电解抛光新工艺。     

用于超光滑表面加工的常压低温等离子体抛光系统设计

介绍了一种新型超光滑表面加工方法及其系统的设计．该方法主要基于低温等离子体化学作用,通过活性反应原子与工件表面原子间的化学反应实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤．该常压低温等离子体抛光系统首次引入了电容耦合式射频等离子体炬,并根据装置的实际特性进行了良好的阻抗匹配．原子发射光谱分析结果表明,该系统实现了稳定的大气压等离子体放电,并有效地激发出高密度的活性反应原子．针对单晶硅片的加工试验结果,也证明了该系统可高效稳定地工作,并实现了约1．46mm^3/min的材料去除速率和0．6nm（Ra）的表面粗糙度．     

等离子体加工光学元件装置技术研究

介绍了一种新型的超光滑表面加工技术-等离子体抛光.设计和安装了一套等离子体加工试验平台.加工试验平台由真空系统、等离子体源、射频电源系统、气路系统组成.试验平台具有独立变量气体流量、真空度、射频电源发射功率和反射功率和加工时间.对于石英玻璃材料的实验结果表明等离子体抛光是一种可行的有潜力的抛光技术.     

硅基材料芯片的组合离子束合成及分析

用组合技术和离子束技术相结合的方法进行了硅基发光材料的研究。用组合离子束技术在硅基材料上制备了６４个直径为２ｍｍ的单元－材料芯片,并对硅基材料芯片各单元进行了卢辐背散射,质子弹性散射和扫描阴极射线发光特性分析。组合离子束技术的应用将大大提高材料研究的效率。     

生物材料的离子束表面改性

随着表面处理技术的发展,国内我对如何改善现有的生物材料表面的各种性能,如耐蚀性,耐磨性,生物相容性等进行了研究。各种表面处理的方法受到高度重视,其中离子束表面改性技术,由于其对材料本体无负效应,已被证明是最为成功的一种。本文在综述离子束改性技术在生物材料及器械方面应用的同时,提出将梯度功能材料的新概念与离子束改性技术相结合,用以制备表面性能优异的仿生生物材料。     

新型离子束增强沉积技术

离子束增强沉积技术是近年在离子注入技术基础上发展的新型材料表面改性技术，本文简要介绍多功能离子束增强沉积设备和应用技术研究，设备具有金属离子注入、气体离子注入、离子束增强沉积、磁控溅射沉积功能，进行材料表面改性和制备各种材料薄膜科学研究。     

等离子束表面冶金技术冶金过程研究

研究了等离子束表面冶金技术的冶金过程,分析了冶金过程的特点.该过程是一个分阶段、连续过程;并研究了等离子表面冶金铁基合金的物理化学反应过程.最后得出等离子表面冶金过程的一般规律,用于指导该项技术的应用.     

几种无限供应的金属/硅体系离子束混合相变

研究了五种无限供应的 Bilayer 膜金属/硅体系中(Ni/Si,Cu/Si,Nb/Si,Mo/Si,Ti/Si),因离子束注入引起的界面原子交混及相变过程。界面温度和注入离子剂量显著影响薄膜相变,在生成各种金属 Si 化物及固溶体时,反应温度和生长激活能大大降低,相变动力学过程与热退火反应不尽相同,诱导离子和基体取向对成相生长也有影响。讨论了相应微观机理。     

CVD金刚石薄膜抛光技术的研究进展

采用化学气相沉积方法在非金刚石衬底上沉积的金刚石薄膜,本质上为多晶,而且表面粗糙。本文论述了目前国际上出现的抛光ＣＶＤ金刚石薄膜的主要方法,包括机械抛光法、热－化学抛光法、化学－＝机械抛光法、等离子体／离子束抛光法以及激光抛光法等。     

二氧化铈抛光材料应用的研究进展

<正>光电子与信息产业的迅猛发展加速了化学机械抛光技术(CMP)的更新。CMP作为目前最好的实现全局平面化的工艺技术(整体平面化的表面精加工技术),借助超微粒子的切削作用以及材料的化学腐蚀作用可以将硅基材料抛光成光洁平坦表面,已广泛应用在硅基材料、光学元件和电子集成电路等元件的表面平坦化处理。随着抛光精度的逐渐提高,CMP已成为首选抛光技     

论气囊柔性抛光技术在电梯轿厢中的应用

现如今,电梯已经越来愈普遍,对电梯轿厢的装饰也提出了更高的要求,本文介绍了一种新型的加工技术――气囊柔性抛光。它利用气囊所特有的柔性,在加工过程中始终保持与工件表面的紧密吻合,保证去除的同时也减少了工件的亚表面损伤。气囊具有可独立的控制变量:内部的压力、抛光接触区、进动运动、旋转速度。此技术十分适合运用在电梯轿壁以及轿门门板的加工上。     

用于蓝宝石材料加工的新型超精密抛光技术及复合抛光技术研究进展

超精密抛光是一种降低表面粗糙度,获得高表面质量和表面完整性的加工技术。蓝宝石作为典型的难加工硬脆材料,传统抛光方法存在表面会产生崩碎、划痕等损伤,表面质量难以得到保证以及加工效率低等问题。本文综述了应用于蓝宝石材料的磁流变抛光、水合抛光、化学机械抛光和激光抛光等技术的原理与特点及其研究现状,并分析了各抛光技术的优缺点;从表面质量、磨料与磨液、效率与成本等方面对各抛光技术进行比较;介绍了复合抛光技术在蓝宝石材料中的应用;最后重点展望了蓝宝石材料超精密抛光技术的下一步研究。