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《电子工业专用设备》2005,34(11):17-17
芯原股份有限公司(芯原,VeriSilicon),主要基于中国半导体生产工艺的领先芯片设计代工厂和世界一流的集成电路代工厂中芯国际(“SMIC”;NYSE:SMI;HKSE:981),近日共同发布针对中芯国际0.13μm CMOS先进工艺的半导体标准设计平台。这套平台包括存储器编译器有单口和双口静态随机存储器(Single Port/Dual Port SRAM Compiler),扩散可编程只读存储器(Diffusion ROM Compiler),双口寄存器组,标准单元库(Standard Cell Library)和输入/输出单元库(I/O Cell Library)。 相似文献
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《电子科技文摘》2006,(11)
中芯国际和芯原推出0.13um低漏电工艺的标准设计平台芯原股份有限公司和全球领先的代工厂之一中芯国际集成电路制造有限公司日前共同宣布,推出用于中芯国际0.13um低漏电工艺的芯原标准设计平台。该SDP包括用于单端口和双端口静态存储器的存储器编译器、扩散可编程只读存储器、双端口寄存器文件编译器、标准单元库以及I/O单元库。这种新的DSP被特别最优化,适用于低漏电和低电源,并且已经通过中芯国际的0.23umLowLeakageSiliconShuttlePrototypingService在硅中得到证明。此外,这种SDP支持业界领先的EDA工具,包括Cadence、Syno… 相似文献
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正武汉新芯集成电路制造公司(XMC)2006成立,2012年底起独立经营,是国有制企业。为了区别于本土的制造巨头SMIC(中芯国际)和华力微电子(HLMC)等,XMC将立足存储器制造。近日,武汉新芯董事长王继增告诉笔者。 相似文献
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正中芯国际集成电路制造有限公司于3月9日宣布,其0.11微米后段铜制程(Cu-BEoL)超高密度IP库解决方案可为客户平均节省31%芯片面积。中芯国际此次发布的超高密度IP库解决方案,与传统IP库相比,可使客户 相似文献
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《电子工业专用设备》2003,(2)
(2003年3月27日)德国晶片厂商英飞凌进一步向中国市场迈进。英飞凌与中芯国际集成电路制造(上海)有限公司(SMIC)今天正式宣布双方签订协议,进一步合作生产标准存储器芯片(DRAM)。根据协议,英飞凌将向中芯国际转移0.11μm的DRAM沟槽技术和300mm产品的专有技术。该技术将用于专为英飞凌制造产品。这一新的举措将提升英飞凌的整体产能,中芯国际目前正在北京兴建的300mm的生产厂,将为英飞凌提供每月约15000片以上的产能。2002年12月,两家公司签订了有关转移0.14μmDRAM沟槽技术的协议,中芯国际将于上海的200mm厂房使用英飞凌的技术专为英… 相似文献
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近日,英国ARM公司宣布:中芯国际(SMIC)已获ARM922T微控制器内核和EmbeddedTraceMacrocell(ETM9)片上调试外设授权。ARM922T内核是中芯国际从ARM获得的第二个微处理器内核授权,本次合作展现了这家总部设于上海的代工厂发展ARM体系结构的决心和ARM支持中国半导体业的决心。ARM公司是16/32位嵌入式RISC微处理器技术方案供应商。中芯国际是国内的半导体代工厂。ARM继续与中芯国际进行合作@韩昊 相似文献
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正中芯国际集成电路制造有限公司日前在上海举办了第六届年度技术专题研讨会,推广其最新的先进及特色工艺平台。会上,中芯国际公布了28纳米和40纳米等先进工艺取得的最新成就和重要进展,以及基于特殊工艺如eNVM、PMIC、RF、IoT、MTE(成熟技术优化)等项目的新特色产品。中芯国际资深副总裁兼中国区总经理彭进先生,在开幕致辞上发表了主题为"专注产品应用,创建工艺平台组合"的演讲。他特别提到中国集成 相似文献
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《电子工业专用设备》2005,34(3):59-60
中芯国际(SMIC)表示,虽然美国进出口银行此前称,将拒绝中芯国际要求提供的7.69亿美元贷款保证,以阻止中芯国际向美国应用材料(Applied Materials)公司购置芯片制造设备,但公司今年的资本支出计划也不会受到影响,同时还可向美国其它银行或中国内地银行寻求贷款保证。然而这起交易的前景仍不明朗。 相似文献