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文章介绍了一种低温漂的BiCMOS带隙基准电压源.基于特许半导体(Chartered)0.35 μm BiCMOS工艺,采用Brokaw带隙基准电压源结构,通过一级温度补偿技术,设计得到了一种在-40℃到 85℃的温度变化范围内温度系数为15.2×10-6/℃,输出电压为2.5 V±0.002 V的带隙基准电压源电路.±20%的电源电压变化情况下,输出电压变化为2.2 mV,电源电压抑制比为60 dB.5 V电源电压下功耗为1.19 mW.具有良好的电源抑制能力. 相似文献
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一种新型指数补偿BICMOS带隙基准源 总被引:1,自引:1,他引:0
在分析了带隙基准的指数曲率补偿原理的基础上,设计了一个低功耗、低温度系数、高电源抑制比的新型BICMOS带隙基准源电路.该电路基于0.6μm BICMOS工艺进行设计、仿真和实现.仿真结果表明,该带隙基准源在5V电源电压下,电源电流为50μA;温度变化范围从-40℃~110℃时,温度系数为2ppm/℃;低频电源抑制比为-105dB;负载从空载到驱动1k电阻时调整率为0.6mV. 相似文献
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基于0.18μm CMOS工艺,设计了一种低电源电压的带隙基准源.该带隙基准源电路采用非线性温度补偿,具有很高的温度稳定性.Hspice仿真结果显示,电源电压最低为1.2V时,在-40~135℃的温度范围内,输出电压在556.03~556.26mV之间变化,平均温度系数约仅为2.36ppm/℃,电源电压抑制比可达到90dB. 相似文献
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在锂电池充电管理集成电路工作过程中需要监测充放电的各种状态运行情况,监测时需要高性能的参考电压作为比较点,为此设计一种高性能的带隙基准源,通过相同材料电阻的比值来抵消带隙基准源的一阶温度系数来达到低温度系数,同时还设计了修调电路进一步提高基准电压的精度。锂电池充电管理集成电路采用0.8μm BiCMOS 9V工艺流片,其中带隙基准源面积为0.035mm???2。测试结果表明:在-40~125℃温度范围内,基准电压的温度系数为11ppm/℃;电源电压在4.5~9.0V范围内变化时,基准电压的变化量为0.4 mV,电源调整率为0.09mV/V;在电源电压6V时,带隙基准源的电源抑制比在低频(小于1kHz)时为-74dB。 相似文献
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一种高温度性能的CMOS带隙基准源 总被引:1,自引:1,他引:0
提出了一种正负温度系数电流产生电路,使用分段线性温度补偿技术用于传统的电流模式基准电路中,改善CMOS带隙基准电路在宽温度范围内的温度漂移.采用0.18μm CMOS混合信号工艺,对该电路进行了设计.在1.8V的电源电压条件下,基准输出电压为0.801 V,温度系数在-40℃-125℃范围内可达到2.7ppm/℃,电源电压从1.5V变化到3.3V的情况下,带隙基准的输入电压调整率为1.2mV/V. 相似文献
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在对传统带隙基准源的误差进行分析的基础上,介绍了一种改进的带隙核结构,该结构能有效抑制电流失配对带隙基准电压带来的影响。根据该结构设计了一种高精度BiCMOS带隙基准源。HSPICE仿真结果表明,该带隙基准源产生1.22V基准电压,在-25℃~ 125℃温度范围内具有3.1×10-6/℃的温度系数。在25℃时和3.6V标准电源电压条件下,电源抑制比达76dB,静态工作电流为6.9μA,在2.7V~6V的电源电压范围内线性调整率为0.142mV/V。 相似文献
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一种改进型BiCMOS带隙基准源的仿真设计 总被引:1,自引:1,他引:0
依据带隙基准原理,设计了一种基于90 nm BiCMOS工艺的改进型带隙基准源电路.该电路设置运算跨导放大器以实现低压工作,用共源-共栅MOS管提高电路的电源抑制比,并加设了新颖的启动电路.HSPICE仿真结果表明,在低于1.1 V的电源电压下,所设计的电路能稳定地工作,输出稳定的基准电压约为610 mV;在电源电压V_(DD)为1.2 v、温度27℃、频率为10 kHz以下时,电源噪声抑制比约为-45 dB;当温度为-40~120℃时,电路的温度系数约为11 × 10~(-6)℃,因此该基准源具有低工作电压、高电源抑制比、低温度系数等性能优势. 相似文献