BDAPPP型聚酰亚胺薄膜的制备及性能研究

以双酚A、2,4-二硝基氯苯、马来酸酐(MA)、4,4′-二氨基二苯醚(ODA)、3,3′,4,4′-四甲酸二苯醚二酐(ODPA)为主要原料,经三步法合成得到BDAPPP型聚酰亚胺(ODPA/44ODA/MA/BDAPPP-PI)薄膜。采用红外光谱分析、热失重分析、力学性能分析和介电分析对该薄膜进行表征。结果表明:BDAPPP型聚酰亚胺薄膜具有良好的耐热性能、优良的力学性能和绝缘性能。     

聚酰亚胺薄膜

美国杜邦公司利用均苯四甲酸二酐与二氨基二苯醚在极性溶剂中进行缩聚,然后通过流延制得聚酰亚胺薄膜,商品名称为Kapton。Kapton 可以分为三种类型:H型、V 型和 F 型。H 型是原型膜。V 型是 H型在200℃处理一小时,使其热收缩率从 H型的0.1～0.25下降到0.05%以下,尺寸稳定性好。F 型是在 H 型的单面或双面涂上Teflon FEP 涂层,不仅具有热融粘合性,而且改进了吸湿性和耐化学性。     

Kapton聚酰亚胺薄膜简介

美国杜邦公司生产的Kapton聚酰亚胺薄膜是由均苯四甲酸二酐和劳族二胶的缩聚产物加工而成的,具有全芳环结构。     

联苯型聚酰亚胺的制备

聚酰亚胺是六十年代初期由美国杜邦公司率先投入工业应用的一类高分子材料。由于它耐热等级高,又具有优异的性能,因而二十多年来在品种、产量及应用范围等方面都得到了迅速发展。然而,主要用于制造薄膜的线型聚酰亚胺的原料却没有很大变化。杜邦公司生产的以 Kapton 为代表的聚酰亚     

“Kapton”薄膜用于瑞士钟表生产中

瑞士钟表行业在钟表元件自动焊接工艺中采用了“Kapton”聚酰亚胺薄膜传动带。该传动带将半导体基片装在软印制电路上。以往,在基片和引线架(Lead frame)之间是单个焊接细电线的。而采用“Kapton”带自动焊接工艺后,所有的内部引线可同时与基片上的焊点接触。由于在形成焊接接头     

几种聚酰亚胺薄膜的新品种

杜邦公司新开发了导热型、导电型、耐电晕型等几种新的聚酰亚胺薄膜。导热型,是在薄膜中添加氧化铅(薄膜牌号 XA-A3)或氮化硼(XA-B3)填料所得。其导热性为非添加型纯聚酰亚胺薄膜的两倍以上,耐热性几乎不变,但机械强度、电气性能有些下降。主要用途为集成电路或功率晶体管的层间绝缘;导热性良好的线路基板,或车辆马达用绝缘等。价格比纯聚酰亚胺薄膜约高30%。导电型(XA-C3),是在薄膜中添加炭黑,表面电阻10~(10)欧姆/□,机械强度有些下降。主要用于半导体方面防静电用。价格     

几种共聚型聚酰亚胺薄膜的摩擦学性能研究

多年来,对共聚型聚酰亚胺薄膜的摩擦学研究报道较少,为了对其摩擦学应用提供试验依据,以均苯四甲酸酐、邻苯二胺、间苯二胺和对苯二胺为原料,利用具有不同组成的2种二胺的混合溶液与以均苯四甲酸酐进行反应,通过2步法在玻璃表面制备了共聚型聚酰亚胺薄膜.采用热分析仪考察了聚酰亚胺薄膜的热稳定性,用DF-PM型动静摩擦因数精密测定装置考察了其摩擦学性能.结果表明,由邻苯二胺以及邻苯二胺含量较高的混合溶液与以均苯四甲酸酐反应得到的聚酰亚胺薄膜的摩擦学性能明显优于由其他物质制成的聚酰亚胺的性能.     

直流高电场中聚酰亚胺薄膜的电致发光光谱

测量电晕老化前后Kapton 100 HN聚酰亚胺薄膜在均匀直流电场中的电致发光强度和光谱,研究了电致发光强度与外加电场强度的关系．结果表明：聚酰亚胺薄膜的电致发光强度随着外加电场强度的提高而提高．聚酰亚胺薄膜的电致发光谱由荧光区、磷光区和红光及红外三个区域组成,电致发光的阈值场强约为2．8MV／cm．电晕老化处理后,聚酰亚胺薄膜的电致发光阈值场强降低,光子的产率提高并出现新峰．这些结果是电晕老化效应的综合作用所导致的．     

邻苯二酚衍生的二（醚胺）化学改性3，3’，4，4-联苯基四羧酸二酐聚酰亚胺

以前曾指出由3，3’，4，4’-联苯基四羧酸二酐(BPDA)和1，2-双(4-氨基苯氧基)苯(亦称三苯基醚邻苯二酚二胺(TPEC))衍生的聚酰亚胺具有优异的拉伸性能和良好的热性能。本文对由BPDA、TPEC及其它芳香族二胺制备的共聚酰亚胺的性能做了初步评价。由BPDA和各种芳香族二胺制备的均聚酰亚胺通常具有良好的机械性能和热性能。然而，它们不溶于现有的各种有机溶剂中。在某些条件下，用BPDA与等摩尔TPEC和其它芳香族二胺混合物可以制备可有机溶解的BPDA型共聚酰亚胺。这些共聚酰亚胺可以形成坚韧的薄膜，它们具有较高的模量和强度。多数情况下，也具有较高的断裂伸长率。     

利用非溶剂诱导相分离法制备低介电常数聚酰亚胺微孔薄膜EI北大核心CSCD

利用非溶剂诱导相分离法,制备了一种低介电常数聚酰亚胺(PI)微孔薄膜。扫描电镜观察表明,聚酰亚胺微孔薄膜中泡孔均匀,其平均孔径在6~28μm之间。随着聚酰胺酸(PAA)浓度的增大及凝固浴温度的升高,所制得的聚酰亚胺微孔薄膜的孔隙率和平均孔径均增大。介电性能分析表明,聚酰亚胺微孔薄膜的介电常数明显下降,当孔隙率为80%时,聚酰亚胺微孔膜的介电常数(1 MHz)为1.81。拉伸性能测试表明,随着孔隙率增加,聚酰亚胺微孔膜的拉伸强度和拉伸模量均逐渐下降,但断裂伸长率增大。     

利用非溶剂诱导相分离法制备低介电常数聚酰亚胺微孔薄膜

利用非溶剂诱导相分离法,制备了一种低介电常数聚酰亚胺(PI)微孔薄膜。扫描电镜观察表明,聚酰亚胺微孔薄膜中泡孔均匀,其平均孔径在6~28μm之间。随着聚酰胺酸(PAA)浓度的增大及凝固浴温度的升高,所制得的聚酰亚胺微孔薄膜的孔隙率和平均孔径均增大。介电性能分析表明,聚酰亚胺微孔薄膜的介电常数明显下降,当孔隙率为80%时,聚酰亚胺微孔膜的介电常数(1 MHz)为1.81。拉伸性能测试表明,随着孔隙率增加,聚酰亚胺微孔膜的拉伸强度和拉伸模量均逐渐下降,但断裂伸长率增大。     

有机硅微胶囊-有机硅树脂复合涂层对空间 K apton的原子氧防护

将采用水相分离法制备的以明胶为囊壁、有机硅为囊芯的微胶囊与有机硅树脂乳液在一定条件下混合,在聚酰亚胺薄膜(Kapton)基材表面制备出含有机硅树脂的微胶囊-有机硅复合涂层,并将所制备的涂层分别进行原子氧暴露试验。结果表明,原子氧对Kapton侵蚀严重,质量损失严重,由原来光滑平整的表面变为凹凸不平的地毯状,太阳光吸收率变化值Δα为0. 272。微胶囊2有机硅复合涂层对Kapton基体优良的保护作用,使试样的质量损失和剥蚀率明显下降,且Δα仅为 0.071。尤其是微胶囊与有机硅质量比为1∶5的涂层,质量损失为Kapton试样的2.3%。     

四甲基联苯二胺及有机可溶聚酰亚胺的合成与性能

以对二甲苯为原料,通过溴代、偶合、硝化和还原反应成功合成了2,2′,5,5′-四甲基联苯-4,4′-二胺(TMBPDA)。TMBPDA分别与4,4’-双酚A型二醚二酐(BPADA)和4,4′-双酚AF型二醚二酐(FBDA)通过高温一步法缩聚生成聚酰亚胺PI-A和PI-AF。结果表明,两种聚酰亚胺不仅在N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP),N,N-二甲基甲酰胺(DMAc)中展示出良好的有机可溶性,同时拥有优良热性能,由差示扫描量热仪(DSC)测得玻璃化转变温度(Tg)分别为251℃和255℃。此外,两种聚酰亚胺薄膜在可见光范围内具有良好的透明性,在450 nm处的透光率均超过了88%。     

Kapton/Al薄膜的电子辐照损伤

使用空间综合辐照设备对Kapton/Al薄膜进行了电子辐照的地面模拟实验,研究了Kapton薄膜的表面形貌、光学性能变化和辐照损伤机制.结果表明,辐照使Kapton薄膜表面发生了明显的充放电效应;在500-1000 nm波长区间光谱反射系数明显降低,太阳吸收比随着电子辐照剂量的增加而增高;在辐照过程中Kapton薄膜发生酰亚胺基团的破坏、羰基和桥氧键的断裂以及O在N 逸出空位处的替换,并有较复杂的新结构生成.     

杜邦公司扩大聚酰亚胺薄膜生产能力

杜邦公司宣布,计划扩大其与日本东丽工业公司的合资公司杜邦—东丽公司的Kapton聚酰亚胺薄膜生产能力。扩建工作即将开始,预计1990年初完成。     

电极间距对防原子氧聚硅氧烷薄膜性能的影响

与传统制备防护薄膜的方法相比，等离子体聚合法是一种更高效、干燥和简易的制备方法，可以在各种基底上制备数百纳米厚的致密薄膜涂层。采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)法在大面积柔性聚酰亚胺Kapton基底上制备了聚硅氧烷防原子氧薄膜。用SEM、AFM、FTIR和XPS等表征分析了电极间距对聚硅氧烷薄膜性能的影响。结果表明，减小电极间距加速了单体的解离和碳基成分的氧化。随着电极距离的减小，薄膜的沉积速度增大，薄膜从有机无机聚硅氧烷薄膜(SiO_xC_yH_z)向无机薄膜(SiO₂)转化。薄膜中高解离能Si-O键的增多，降低了原子氧的侵蚀率。研究结果为用PECVD方法制备其他有机硅功能薄膜奠定了技术基础。     

含有氢键的聚酰亚胺薄膜的制备和性能表征

以对硝基苯甲酸为原料,通过酰氯化、酰化、还原反应成功合成了4,4’-二氨基苯酰替苯胺(DBN),DBN分别和3,3’,4,4’-联苯四酸二酐(BPDA)、均苯四甲酸二酐(PMDA)通过两步法缩聚制备出聚酰亚胺薄膜,用红外(FT-IR),差示扫描量热仪(DSC)和热重分析(TGA),拉伸测试表征其结构和性能,结果表明,成功合成了含有酰胺键的聚酰亚胺薄膜,并且酰胺键的N-H分别和酰亚胺环中的C-N和C=O形成了氢键。将其与4,4’-二氨基二苯醚(ODA)聚酰亚胺薄膜相比,对应二酐(BPDA和PMDA)分别和DBN制备的聚酰亚胺薄膜表现出了优异的热性能和耐溶剂性,尤其是拉伸强度有了显著的提高。     

空间辐射与原子氧环境对导电型热控薄膜性能影响

对研制的导电型柔性(Kapton基)热控薄膜光、电、热性能及在空间环境辐照与原子氧环境作用下的稳定性作了探讨.研究表明,低面电阻值TO膜的稳定性明显优于高面电阻值TO膜,Ge/Kapton膜的面电阻与高面电阻值TO膜相当(107～109Ω/□),但稳定性明显优于高面电阻值TO膜,环境作用对导电型热控薄膜的太阳吸收率αs、热发射率ε的影响不大.     

共聚共混改性聚酰亚胺薄膜的结构与性能

为了考察共聚共混改性对聚酰亚胺(PI)薄膜性能的影响,文中以4,4’-二胺基二苯醚(ODA),芳香杂环二胺(DA-MI)和均苯四甲酸酐(PMDA)为单体,通过常温聚合合成了一系列聚酰亚胺薄膜。采用傅立叶红外光谱仪(FT-IR)、静态热机械分析仪(TMA)、万能试验机以及热失重仪(TGA)分析了薄膜的结构和性能。结果表明,经过共聚共混改性后,PI原分子链中引入柔性基团,使得其玻璃化转变温度(Tg)和热分解温度(Td)下降了将近10%,力学性能也略有下降,但是其溶解性能得到了改善。     

新的地铁信号电缆

为改善地铁系统的安全,伦敦运输公司正安装一种新的轨道侧部(trackside)信号电缆,在电缆包覆层中使用了杜邦公司的Kapton 聚酰亚胺薄膜。这种电缆是为防止火焰蔓延和减少在隧道中生烟而设计的。在大的火灾中,24%是由电气设备引起的,其中有一小部分可直接归因于电缆的破