常温下高氯酸－冰醋酸混合液制取渗金属薄膜样品

使用０４６ｍｏｌ／ＬＨＣｌＯ４１６７ｍｏｌ／ＬＨＡｃ电解抛光溶液进行实验，确定了常温下制取渗金属薄膜样品的电解抛光参数，为Ｂｏｌｍａｎｎ法制取电镜用薄膜样品提供了电解参数选择方法。     

常温电解抛光液研制及参数选择研究

在上海交通大学ＭＴＰ－１电解双喷制样仪上，通过对高氯酸与冰醋酸所组成的电解液、高氯酸与甲醇所组成的电解液以及有机溶液组成的电解抛光液的实验，对工艺参数（温度、浓度、电流、电压等）对制取透射电镜薄膜样品抛光效果以及不同电解液的性能进行了综合比较研究，得出了以高氯酸、冰醋酸等的电解抛光液的组成，并提出在ＭＴＰ－１抛光仪上制作透射电镜薄膜样品过程中的最佳抛光工艺条件。     

常温电解抛光液研制及参数选择研究

在上海交通大学ＭＴＰ－１电解双喷制样仪上，通过对高氯酸与冰醋酸所组成的电解液、高氯酸与甲醇所组成的电解液以及有同溶液组成的电解抛光液的实验，对工艺参数（温度、浓度、电流、电压等）对制取透射电镜薄膜样品抛光效果以及不同电解液的性能进行了综合比较研究，得出了以高氯酸、冰醋酸等的电解抛光液的组成，并提出在ＭＴＰ－１抛光仪上制作透射电镜薄膜样品过程中的最佳抛光工艺条件。     

合金表面强化层电镜薄膜样品的制备

本文介绍利用PTFE夹具圆片抛光法,以5％高氯酸+95％无水乙醇为电解抛光液,来研制以W、Mo为主要合金元素的堆焊材料表面强化层的透射电镜薄膜样品的制备方法。     

薄膜抛光实验平台设计开发的研究

薄膜抛光技术是超精密磨削领域中一种新兴的磨削技术。文中以MCS51系列单片机为核心,结合研磨抛光薄膜以及自制便携式抛光机的特点,设计开发了薄膜抛光实验的测力平台。该平台主要用于薄膜抛光过程中磨削力的实时监测,分析磨削力对抛光精度的影响,有助于研究抛光膜损伤机理与磨削力、工艺参数之间的关系。     

直柄麻花钻电解抛光表面处理新工艺

电解抛光的应用较早,而在直柄麻花钻方面的应用却较少。1989年我厂根据市场需求进行了电解抛光直柄麻花钻的工艺试验,现将试验成功的两种电解抛光工艺简介如下,以供同行参考。 1.电解抛光机理 电解抛光时,以直柄麻花钻为阳极、不锈钢为阴极,产生阳极溶解,使阳极附近金属盐浓度不断增加,产生一种粘性薄膜,这种薄膜导电性不良,引起     

模具钢电解机械复合抛光工艺研究

介绍了电解机械复合抛光实验装置、工作原理及工艺特点，应用电解机械复合抛光工艺对几种模具钢材进行抛光实验，分析了各加工工艺参数对表面粗糙度的影响关系，找出了加工电压、工具转速、废料粒度等对电解机械复合抛光的影响规律。实验表明，只要选配适当的工艺参数，采用此法可以获得及Ra＜0．1μm的表面粗糙度，同时该技术能提高模具制造质量，降低工人劳动强度，缩短模具制造周期。     

直柄麻花钻表面的电解抛光

<正> 电解抛光的应用较早,但在直柄麻花钻方面的应用目前国内尚未见报道。1989年我厂根据市场需求;进行了电解抛光直柄麻花钻的工艺试验,现将试验成功的两种电解抛光工艺简介如下,以供同行参考。一、电解抛光机理电解抛光时,以直柄麻花钻为阳极,不锈钢为阴极。通电后产生电极溶解,使阳极附近金属盐浓度不断增加,生成一种粘性薄膜,这种薄膜导电性不良,引起阳极极化作用,使阳极电位升高;而在工件凸凹不平表面上薄膜厚度分布是不均匀的,凸起部位的薄膜厚度较小,因而电阻较小、电力线集中,电流密度较低凹部位大,所以凸起部位金属溶解速度大于低凹部位溶解速     

电解抛光在不锈钢表面处理中的工程应用

结合电解抛光的机理及特点,介绍了电解抛光在不锈钢表面处理中的应用。内容包括电解抛光装置的组成、电解抛光化学剂的选择、工艺流程及工艺参数的调整以及电解抛光生产过程中的注意事项。实践表明,电解抛光在不锈钢表面光亮处理中的效果显著。     

巴氏合金模具的机械电解复合抛光研究

针对具有复杂曲面的巴氏合金模具的难抛光，低效率等问题，在数控机床上将电解加工和机械抛光相复合，对模具型腔进行高效抛光，获得了良好的表面质量，由于采用CAD／CAM技术，保证了加工精度，提高了加工效率，文中探讨了数控机床机械电解复抛光的机理，并分析了抛光结果。     

溅射工艺参数对TiAIN薄膜力学性能及结构成分的影响

采用反应磁控溅射法和钛-铝镶嵌靶制备TiAIN薄膜；运用纳米压入硬度测试仪、划痕仪和能谱仪、X射线衍射仪等对薄膜进行表征；研究了制备工艺参数对薄膜力学性能、薄膜成分及组织结构的影响。结果表明：随着氮气分压增大，薄膜厚度降低，薄膜（111）取向减弱，（220）和（311）取向增强，薄膜中的氮原子含量逐渐增多，而钛、铝原子含量逐渐减少；随着基体偏压增大，薄膜纳米硬度和膜／基界面临界载荷均逐渐增大，纳米硬度最高可达48．73GPa，膜／基界面临界载荷最高可达40N。     

金刚石薄膜与WC—Co硬质合金的随着性研究

以甲烷和氢气为气源，用热丝ＣＶＤ法，在ＷＣ－６％Ｃｏ的硬质合金基体上沉积金刚石薄膜。研究了基体表面经抛光、腐蚀、脱碳及镀中间层等不同的预处理对金刚石薄膜与基体的随着性的影响。试验结果表明：基体表面经抛光、腐蚀再经脱碳或镀ＴｉＮ中间层，可改善和提高随着性，金刚石薄膜的形核率沉积速率有所降低；基体表面只经抛光、腐蚀预处理，金刚石薄膜的形核率和沉积速率较高，结晶性好，但随着性较差；采用分段沉积，可以提高     

金刚石薄膜与 WC-Co 硬质合金的附着性研究

以甲烷和氢气为气源，用热丝ＣＶＤ法，在ＷＣ－６％Ｃｏ的硬质合金基体上沉积金刚石薄膜。研究了基体表面经抛光、腐蚀、脱碳及镀中间层等不同的预处理对金刚石薄膜与基体的附着性的影响。试验结果表明：基体表面经抛光、腐蚀再经脱碳或镀ＴｉＮ中间层，可改善和提高附着性，金刚石薄膜的形核率和沉积速率有所降低；基体表面只经抛光、腐蚀预处理，金刚石薄膜的形核率和沉积速率较高，结晶性好，但附着性较差；采用分段沉积，可以提高金刚石薄膜的附着性。     

不锈钢电解—机械复合抛光新工艺的研究

在电解加工和机械研磨的基础上，把电解阳极溶解与合成纤维无纺布上所粘结磨料的研磨有机地结合起来，试验了一种新的不锈钢电解机械复合抛光法，并总结了较合理的工艺参数，不锈钢表面的短时间的抛光加工后，表面光洁度可接近镜面。     

磁控溅射法制备NiCr/NiSi薄膜热电偶温度传感器

介绍了NiCr／NiSi薄膜热电偶制作方法与过程。与多孤离子镀法相比，采用磁控溅射法镀制的热电偶薄膜成分与靶材接近，膜层致密均匀、平整光滑，临界厚度薄。对研制的NiCr／NiSi薄膜热电偶进行了静态标定与动态标定，薄膜热电偶的灵敏度为40．1μV／℃，线性误差不大于0．75％，时间常数小于0．35ms．最后将薄膜热电偶温度传感器用于化爆材料模拟切削试验。     

轴承钢金属薄膜的双喷电解抛光制备技术

介绍利用双喷电解抛光制备轴承钢金属薄膜的方法。对实验装置、制样过程、电解抛光工艺的选择进行了探讨,并对轴承钢中的马氏体亚结构进行了衍射象的观察和明场、暗场、选区电子衍射的分析。附图7幅。     

CVD-Si3N4薄膜工艺及性能研究

以三氯硅烷和氨气作为硅源和氮源，利用低压化学气相沉积工艺（LPCVD）在烧结氮化硅表面制备氮化硅薄膜。考察了工艺参数对沉积速率的影响，并对薄膜的组成、结构及硬度等性能进行了分析。结果表明，当载气为N2或N2＋H2、沉积温度为800℃、NH3／HSiCl3流量比为4时是较佳的工艺条件，此时薄膜沉积速率可达23．4nm／min，其膜层主要由Si-N组成，并含有部分Si-O，硬度为HV2865。     

金刚石薄膜磁性研磨抛光研究

表面粗糙度是影响金刚石薄膜广泛应用的主要因素,选择一种合适的抛光方式可以大幅度降低表面粗糙度,以加速其商业化应用的进程。文中针对内孔金刚石薄膜,提出了一种新的抛光方法——磁性研磨抛光。实验结果表明,可有效除去薄膜晶粒外缘的尖角,而且不会造成涂层的损伤,不影响涂层附着力,是一种温和的抛光方法,可以达到比较理想的抛光效果,采用磁性研磨抛光的金刚石涂层铜杆拉丝模,工作寿命比硬质合金模具提高8-10倍,满足了铜杆拉丝对模具内孔表面光洁度的更高要求。     

金刚石薄膜的抛光技术

介绍了目前正在研究和应用的金刚石薄膜抛光技术，并对它们的原理、特点和适用范围进行了分析和总结。     

计算机控制抛光成型抛物面

本文介绍用计算机控制一个小抛光模自动成型抛物面的理论，方法，试验装置与试验结果。分析和讨论了试验装置的结构与抛光工艺参数。用计算机模拟抛光法，确定了抛光过程。用双旋转抛光头按同心圆抛光轨迹使一个球面经过３０．８小时连续抛修以后成型为一个Ф３００ｍｍ，ｆ／３．５的抛物面，用一台ＣＱＧ－１型数字球面干涉仪与一块Ф３００ｍｍ标准平面镜形成的立式检验系统对抛光试验的抛物面进行了检测，检测的初步结果为λ／８