气囊抛光技术及其研究现状

气囊抛光能够获得稳定的材料去除特性和高质量的抛光表面。回顾了气囊抛光的工作原理、特点和发展现状,对气囊抛光的关键技术进行了比较分析,包括抛光工具,进动抛光,脉动抛光,磁流体抛光,驻留时间,边缘控制和过程控制,抛光轨迹规划,磨粒场及气囊抛光应用等。研究结果表明,气囊抛光是一种值得关注的自由曲面高效精密抛光方法。     

光学非球面零件机器人抛光工具的研究

以高硼玻璃零件为研究对象,自主研制设计了一种光学抛光加工的工具,可抛光非球面凹面光学零件;分析了机器人抛光工具的构成以及进动运动方式和抛光加工的原理。根据实际生产情况,抛光工具结合机器人对非球面零件凹面进行抛光加工,得到了较好的实验结果。表明这套抛光工具是一种实用的、经济的,可以用于光学非球面的高精度抛光,为应用机器人做光学非球面零件柔性抛光提供了一种有效的途径。     

新型复合表面抛光技术

随着生产技术的不断进步,为了提高抛光效果,出现了化学一机械抛光(Chemical-MechanicalPolishing,简称CMP)、电解一机械抛光、超声波一电解抛光、磁力一电解抛光等多种复合抛光技术.为适应现代工业对抛光技术进展的需要,对几种复合抛光方法的原理、特点以及应用范围进行了叙述和总结.     

磁流变抛光技术

对磁介质辅助抛光技术20年来的发展作了简要的回顾,进而介绍了磁流变抛光技术的产生和发展背景、抛光机理及微观解释、数学模型,同时提出了这种抛光技术的关键所在,并对其发展未来进行了展望。     

一种柔性抛光打磨头设计

焊接是制造领域中常用的接合金属或其他材料的制造工艺。焊缝是焊接后的结合部分,焊缝的存在使得构件易产生应力集中,恰当的焊缝打磨可以提升表面光洁度,延长焊接件的使用寿命。抛光主要对象为起弧收弧缺陷以及过量的余高,在打磨抛光的同时需要控制打磨抛光的程度,避免过度打磨以及对刀具的损伤。传统打磨抛光的方式为刚性打磨抛光,不能根据实际生产过程对打磨抛光力进行调整,易产生刀具磨损以及工件过度磨损,据此提出设计一款具备柔性打磨作业能力的抛光装置以减小焊接件以及打磨头的损伤,保障作业人员的安全并提升产品质量。     

使用条件对合成抛光革粘弹性行为的影响

粘弹性行为是决定合成抛光革抛光性能的重要因素。在抛光中，抛光革由于温度、抛光度、使用状态等因素将使其粘弹性行为发生变化。本文研究了这种变化对抛光质量和抛光精度的影响     

页轮抛光技术及其应用

页轮是一种新型抛光工具,具有抛光效率高、质量好、抛光方法简便、成本低等优点,适用于各种轴类、大孔径、大平面等复杂型面零件的抛光加工,可解决因工件超长或超负荷而难以在磨床和珩磨机上进行表面精加工的难题。采用页轮代替砂带进行抛光是近年来国外用于改善工件表面粗糙度的一种新工艺,该工艺在我国的应用还处于起步阶段。我公司从１９９１年开始试验和应用这项新技术,取得了较好效果,证明页轮抛光是一种投资少、见效快、效益高的超精加工工艺。１　页轮抛光的原理及特点页轮抛光装置如图１所示。根据选用的电机轴配置左、右联接…     

电解抛光在不锈钢表面处理中的工程应用

结合电解抛光的机理及特点,介绍了电解抛光在不锈钢表面处理中的应用。内容包括电解抛光装置的组成、电解抛光化学剂的选择、工艺流程及工艺参数的调整以及电解抛光生产过程中的注意事项。实践表明,电解抛光在不锈钢表面光亮处理中的效果显著。     

小型非球面数控抛光的计算机控制技术分析

随着经济的快速发展和科技的进步,计算机技术已经广泛应用于社会生产的各个行业,利用计算机控制抛光的方法对小型非球面进行数控抛光控制,通过计算模拟结果,得出研制的小型非球面光学元件有良好的精度,计算机控制技术能有效的提高小型非球面光学元件的生产效率,对企业生产有十分重要的意义。     

应用于模具自由曲面的新型气囊抛光技术

为提高模具自由曲面抛光的效率和品质,提出一种基于柔性抛光理念的新型气囊抛光技术。建立相应的机器人抛光系统,研究旋转型膨胀气囊抛光工具及抛光过程中各因素对抛光表面粗糙度的影响。对气囊抛光工具的位置和姿态控制问题以及抛光工具,以一定下陷深度和倾斜角度与被抛工件接触时的接触区域的相关特性进行分析。在机器人抛光系统上进行抛光正交试验和试验数据分析,获取表面粗糙度的不同影响因数的最优参数组合,试验中被抛光曲面平均表面粗糙度达到了0.007 μm。研究结果表明,气囊抛光技术可实现抛光工具与被抛光工件的大面积柔性接触,通过气囊内部气压的调节和机器人抛光系统对抛光工具的运动轨迹和姿态的精确控制,可有效地提升自由曲面抛光的品质和效率。     

环形气囊抛光技术的研究

气囊式抛光是一种极具发展潜力的抛光方法,在精密光学元件的加工领域具有广阔的应用前景.针对现有气囊式抛光磨头加工方法的不足,提出了一种环形气囊抛光技术,设计了气囊式环形抛光磨头的机械结构.基于环形气囊抛光实验平台,利用气囊式环形抛光磨头进行了工艺试验.实验结果表明,此种抛光技术能够实现光学零件高精度表面质量的加工.     

单晶硅片的低温抛光技术

介绍了一种光学材料抛光新技术--低温抛光技术。首先把抛光液冷冻成低温抛光模层,并对单晶硅片做抛光实验,实验结果表明这是一种很好的光学材料抛光方法。     

大尺度光学玻璃离散粒子抛光技术研究

分析大尺度光学玻璃加工工艺,说明离散粒子抛光是大尺度光学玻璃精密加工的关键工序.介绍各种离散粒子抛光方法内涵、发展过程与趋势,从加工精度、质量、效率角度进行重点评述.介绍目前正在进行研究的可控式磨料流体抛光原理、实现形式及现状.研究表明可控式磨料流体抛光是一种值得关注的离散粒子抛光方法.     

小件精密模具的高质量抛光

本文介绍采用一台精密抛光机床抛光小件模具的几个实例。由于本文的目的是从尽可能广泛的各个方面说明几个加工实例,所以对抛光用铣床本身以及有关抛光工具的说明很少。     

模具气囊抛光工艺规划方法

针对目前模具抛光工艺规划方法研究的不足,提出一种模具气囊抛光总体工艺规划方法.基于抛光实验,研究了不同磨粒粒度水平下工件表面粗糙度的变化规律及可达的最小粗糙度值,提出一种基于不同抛光阶段中磨粒粒度选取的模具气囊抛光工序规划方法,该方法有助于实现抛光工序的智能规划.最后基于此方法进行了抛光实验,抛光效果较好.     

磁流体辅助抛光工件表面粗糙度研究

给出了磁流体辅助抛光的机理,以及依据Preston方程建立的磁流体辅助抛光的数学模型。并通过实验详细研究了磁流体辅助抛光后工件的抛光区形状,以及抛光区内表面粗糙度情况。最终加工出了表面粗糙度为0.76 nm(rms值)的光学元件,其高频表面粗糙度达到0.471 nm(rms值),满足了对一定短波段光学研究的要求。结果表明:磁流体辅助抛光可以用于对光学元件进行超光滑加工;在磁流体辅助抛光过程中,较大粒度的磁流体抛光液有利于工件表面粗糙度快速降低,较小粒度的磁流体抛光液可以获得更加光滑的光学表面。     

抛光的几种工艺对比

对抛光的几种不同工艺进行了阐述、比对,分析指出了新的纳米抛光技术由于它的优点将被广泛应用,并将逐步替代传统的抛光工艺。     

精密磁流变抛光装置的设计与应用

在介绍了磁流变抛光的基本原理基础上,对磁流变抛光的两种不同结构的装置进行了优缺点比较,从影响抛光效率和最终表面精度考虑,确定了最终的装置设计方案,给出了抛光装置的关键部件的设计,并用磁流变抛光加工了直径83mm的BK9光学平面玻璃工件,获得了Ra0.702nm的表面精度.     

电解磨料喷射复合抛光工艺的研究与应用

研究了电解磨料喷射复合抛光新工艺及抛光特点，并应用于模具抛光。     

不锈钢薄板镜面抛光自动化生产线上下料系统的开发设计

机械手是物流自动化的重要装备,它不仅提高劳动生产效率,还能代替人类完成高强度、高危险、重复枯燥的工作,减轻人类劳动强度.在研究分析不锈钢薄板镜面抛光自动化生产线上下料系统的现状和最新技术发展趋势、不锈钢薄板抛光工艺特点和生产要求的基础上,制定了不锈钢薄板镜面抛光自动化生产线上下料系统的整体方案,采用基于PLC控制的上料机械手和自动堆垛机构,提出了其中关键技术的解决方法,抛光设备控制系统与机械手控制系统间通过profibus-DP现场总线形式实现信息交换与连锁对接。