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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
高纯氢氧生产装置平井清司安井信一等在电子工业中,氢和氧作为热处理气氛气和过程气而广泛使用。这些气体的纯度对产品的好坏影响很大,需要高纯氢和氧。一般情况下,氢气是通过一次纯化食盐电解和石油精制副产气,然后高压充入钢瓶等而供给的。氧气是在液化空气状态下,...  相似文献   

2.
日本大阪的高压气体工业公司开发了采用氢贮藏合金发生高纯氢的装置“MHP-100L”。该装置与以往的高压氢气瓶相比,既轻便又安全,而且不用Prism膜等精制装置也能达到99.9999%的超高纯度,该公司已开始正式销售这种设备。氢贮藏合金具有在降温加压时吸收氢,  相似文献   

3.
日本宇部兴产公司最近将一套高纯氢生产装置交付给宇部氨工业公司的宇部工厂,且该装置已运转。该装置用气体分离膜可制取高纯氢(99.999%),此乃世界首创。该气体分离膜采用的是聚酰亚胺中空膜,从而使本公司可生产出如此高纯度的气体。至今,用膜分离法还不能生产出高纯  相似文献   

4.
空气产品与化学制品公司开发了一种将氢和一氧化碳分别分离为高纯产品的新型非低温吸附装置,并实现了工业化。除低温分离装置的分离工序和脱除二氧化碳的  相似文献   

5.
高纯氢和超高纯氢已在电子工业中获得日益广泛的应用。本文根据低温变温吸附法制取高纯氢的原理和特点力图说明其特别适合于制取超高纯氢,并认为运用于电子工业在一定条件下是可能的和经济的。文章分析了提高氢气纯度的条件,还介绍了若干操作经验。  相似文献   

6.
随着电子工业的发展和大规模集成电路的研制与生产,高纯气体已成为电子工业不可缺少的材料。虽然各半导体生产工艺对所用气体的纯度和洁净度要求不同,但同一种杂质给半导体生产带来的危害是一样的,总是使半导体产品质量劣化,成品率下降。例如,高纯氮、氢和氩气中有氧和水份时,会使半导体产品表面生成氧化膜;有碳化物时,会使半导体产品发生漏电;若有金属微粒子时,会使半导体产品出现漏电、耐压不良、晶格缺陷和断线等现象;如有其它尘埃粒子,同样会使半导体产品出现晶格缺陷和断线现象。  相似文献   

7.
一种以煤为原料造气的氢气产品生产工艺概述   总被引:2,自引:1,他引:1  
介绍了用煤生产的合成氨原料气,经膜分离、变压吸附和低温吸附分离提纯技术生产工业氢、纯氢或高纯氢,并对该工艺技术进行评述。  相似文献   

8.
(1983年上半年至1985年上半年)产品及生产能力厂址投资空气产品及化学品公司高纯氧实验装置不详100万美元1,86年初建成,采用MOI了r0X 制氧新工艺高纯氮5,16oMfta/a加利福尼亚州圣克拉拉l邹6年建成,供半导体工厂用液氧、氮、氢 35t/d路易斯安那州液氧、液氮 20ot/d英国格温特郡5。。万英镑供钢铁、电子、食品工业用高纯氢5 t/d西欧其欧洲子公司于1985年建,198了年完成,是西欧最大的高纯氢装置,供法、联邦德国用半导体用气包括装瓶、过通去除。.02林。颖粒的装置北卡罗来纳州达勒姆 一955年下半年建一。56年8月完成 联合碳化物公司林德分公…  相似文献   

9.
以固态电解质电解去离子水产在高纯氢气。产量为10Nm^3/h的实验装置,运行已经超过6000h。设计制造的一种高压型水电解槽生产高压、高纯氢而无压缩机。此高压型水电解槽已运行6000h以上。上述二种水电解槽的氢气纯度均高于99.999%(体积)。  相似文献   

10.
本文介绍用合成氨原料气,经膜分离、变压吸附和低温吸附分离提纯技术生产工业氢、纯氢或高纯氢,并对该工艺技术进行评述。  相似文献   

11.
许沅 《工厂动力》2005,(4):38-41
本文介绍了在高纯氢、纯氢充填过程中配置的产品分析检测和安全监测仪器,以及在使用中的经验和体会。  相似文献   

12.
本文介绍国家标准《工业氢》、《纯氢、高纯氢和超纯氢》的修订内容,并着重对标准中的技术指标、检验方法等的修订情况进行说明。  相似文献   

13.
利用含氢工业尾气或过程气生产高纯氢气   总被引:1,自引:1,他引:0  
利用含氢工业尾气或过程气生产高纯氢气会取得可观的经济效益和社会效益,这里介绍了作者自主设计的高纯氢生产流程。  相似文献   

14.
简介了当前国内外生产超纯氢的三种方法及优缺点。提出了以高纯氢为原料,采用Pu-8新型吸附剂,高压低气速纯化直接灌充钢瓶下生产超纯氢的新方法。  相似文献   

15.
最近,东京气体公司与日挥公司合作,共同研制了半导体制造等所需的小型高纯氢生产装置,除能生产99.999%以上的高纯氢外,还可高效地向半导体工厂提供氢气。  相似文献   

16.
1991年度高纯气体国优产品评比现已揭晓。在参加评比的4家企业中,抚顺市氧气厂一举夺魁。本次评比是对高纯氢、高纯氮、高纯氧、高纯氩和高纯氦5种气体,由厂家任选4种  相似文献   

17.
《低温与特气》1985,(3):18-20
电子工业的迅速发展是现代科学的重要标志,大规模集成电路的生产技术更体现一个国家工业发展的水平。高纯氧、氮、氢、氩等气体,是半导体电子器件、集成电路生产工艺中必不可少的原料。这些气体纯度的高低,是直接影响电子器件质量和成品率的重要因素之一。世界工业发达国家的半导体集成电路生产工艺,不仅普遍应用高纯气体,而且有90%以上是采用高纯度液态气体直接汽化的输送气体。  相似文献   

18.
1 前 言在高纯气体制备过程中,氢气以产品、副产品、原料气、还原气等角色出现在诸多工艺环节,对最终产品中残余量的控制,也成为高纯气体产品面临的普遍问题。由于H2组分仅是高纯气体众多控制杂质之一,国内外标准均采用气相色谱法对产品中痕量氢气进行测定,使用的色谱鉴定器有:热传导检测器、氦离子化鉴定器、氩离子化鉴定器、质谱鉴定器、气体密度鉴定器、氧化锆浓差电池鉴定器、氢敏元件鉴定器等。除氧化锆及氢敏鉴定器外,其它均为通用型色谱鉴定器,可以完成10-5~10-8数量级的痕量氢气的测定。以氢敏元件为检测器的…  相似文献   

19.
根据化学工业部化工优质产品评比计划,1991年度将对高纯氧、高纯氮、高纯氩、高纯氦及高纯氢5种产品评国优,其优质品技术条件如下。  相似文献   

20.
最近,日本大阪瓦斯公司制成了一种以城市煤气为原料制取氢气的OG式氢气发生装置,并且开始向空气液化分离装置供应氢气。该装置通过把城市煤气送入转化炉和精制装置内,以生产纯度为99.99%以上的高纯氢。  相似文献   

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