模具气囊抛光工艺规划方法

针对目前模具抛光工艺规划方法研究的不足,提出一种模具气囊抛光总体工艺规划方法.基于抛光实验,研究了不同磨粒粒度水平下工件表面粗糙度的变化规律及可达的最小粗糙度值,提出一种基于不同抛光阶段中磨粒粒度选取的模具气囊抛光工序规划方法,该方法有助于实现抛光工序的智能规划.最后基于此方法进行了抛光实验,抛光效果较好.     

模具型腔复合抛光工艺规律研究

阐述采用脉冲电流电化学抛光的特点、实施方案和工艺效果 ,并通过对某种模具型腔窄深槽抛光的工艺试验 ,讨论并分析实验数据 ,得出加工参数对表面粗糙度的影响规律 ,以及各加工参数影响表面粗糙度的经验公式。为这类孔槽抛光提供了一种有效的工艺方法     

模具型腔镜面加工工艺分析与优化

现代模具制造需要进行整体工艺优化,模具核心部件的精加工过程通常先进行精密的铣削加工,然后在铣后表面进行抛光操作,以达到所需的表面结构。独立研究铣削或抛光无法找到合理工艺。本研究旨在找到抛光工艺和机床加工之间联系,根据工作实际需要,从成本、效率方面寻找最佳工艺策略,并为成本预算、交货期测算提供帮助。     

抛光工艺参数研究

采用单因素实验法,获得较优的抛光工艺参数,以控制抛光工艺参数来达到各种零件表面粗糙度值的要求.论述的抛光工艺参数适用于曲面、特种材料的精密零件抛光.     

抛光工艺参数的试验研究

采用单因素实验法 ,获得较优的抛光工艺参数 ,以控制抛光工艺参数来达到各种零件表面粗糙度值的要求 ,是行之有效的方法。论述的抛光工艺参数适用于曲面、特种材料的精密零件抛光。     

金刚石薄膜磁性研磨抛光研究

表面粗糙度是影响金刚石薄膜广泛应用的主要因素,选择一种合适的抛光方式可以大幅度降低表面粗糙度,以加速其商业化应用的进程。文中针对内孔金刚石薄膜,提出了一种新的抛光方法——磁性研磨抛光。实验结果表明,可有效除去薄膜晶粒外缘的尖角,而且不会造成涂层的损伤,不影响涂层附着力,是一种温和的抛光方法,可以达到比较理想的抛光效果,采用磁性研磨抛光的金刚石涂层铜杆拉丝模,工作寿命比硬质合金模具提高8-10倍,满足了铜杆拉丝对模具内孔表面光洁度的更高要求。     

应用于模具自由曲面的新型气囊抛光技术

为提高模具自由曲面抛光的效率和品质,提出一种基于柔性抛光理念的新型气囊抛光技术。建立相应的机器人抛光系统,研究旋转型膨胀气囊抛光工具及抛光过程中各因素对抛光表面粗糙度的影响。对气囊抛光工具的位置和姿态控制问题以及抛光工具,以一定下陷深度和倾斜角度与被抛工件接触时的接触区域的相关特性进行分析。在机器人抛光系统上进行抛光正交试验和试验数据分析,获取表面粗糙度的不同影响因数的最优参数组合,试验中被抛光曲面平均表面粗糙度达到了0.007 μm。研究结果表明,气囊抛光技术可实现抛光工具与被抛光工件的大面积柔性接触,通过气囊内部气压的调节和机器人抛光系统对抛光工具的运动轨迹和姿态的精确控制,可有效地提升自由曲面抛光的品质和效率。     

模具钢电解机械复合抛光工艺研究

介绍了电解机械复合抛光实验装置、工作原理及工艺特点，应用电解机械复合抛光工艺对几种模具钢材进行抛光实验，分析了各加工工艺参数对表面粗糙度的影响关系，找出了加工电压、工具转速、废料粒度等对电解机械复合抛光的影响规律。实验表明，只要选配适当的工艺参数，采用此法可以获得及Ra＜0．1μm的表面粗糙度，同时该技术能提高模具制造质量，降低工人劳动强度，缩短模具制造周期。     

模具45钢的窄脉冲电化学抛光

介绍了模具45钢采用微秒级脉冲电流进行电化学抛光的工艺规律,分析了各抛光参数与表面粗糙度的关系.     

手机天线塑料护套模具的加工

手机天线塑料护套模具是典型的小深孔型腔模具。由于模具型腔较小而又深,给抛光加工带来困难,该模具材料为NAK80,其型腔表面粗糙度值R_a=0．8μm,塑料制件为PC透明体。为了能便于加工和延长模具的使用寿命,模具型腔设计成镶拼结构(见附图)。如采用一般机械加工手段又难以加工出该塑件表面粗糙度和精度的模具型腔。目前,由于加工设备的不断更新,加     

模具型面快速数控抛光研究

针对模具型面的特点,提出一种快速数控抛光工艺方法.通过对抛光轮和抛光装置的柔性设计,使得与普通数控机床相联的抛光工具能够随着模具表面形貌的变化,作出一定范围内的姿态调节,从而保持了抛光过程的一致性,能够获得均匀的抛光效果.通过抛光实验,初步验证了抛光工具对曲面的加工能力,并从实验数据中总结出抛光加工的去除模型.     

磷化铟的动态磁场集群磁流变抛光工艺实验

为实现磷化铟高质量表面的绿色加工,使用动态磁场集群磁流变抛光对单晶磷化铟进行正交抛光实验,研究各工艺参数（抛光盘转速、工件转速、磁极转速和偏摆速度）对抛光速率及抛光表面粗糙度的影响。利用回归分析法建立反映材料去除率及表面粗糙度与抛光工艺参数关系的回归方程。结果显示：在抛光工艺参数中,工件转速对材料去除率影响最大,偏摆速度影响最小;对表面粗糙度影响最大的是抛光盘转速,磁极转速影响最小;在优化工艺参数（抛光盘转速40 r/min、工件转速500 r/min、磁极转速30 r/min、偏摆速度200 mm/min）下对单晶磷化铟抛光3 h后,表面粗糙度由Ra33 nm降至Ra 0.35 nm,材料去除率为2.5 μm/h,表明采用动态集群磁流变抛光的方法加工单晶磷化铟,可以得到高质量加工表面;建立的材料去除率及表面粗糙度回归模型,拟合优度判定系数分别为0.984 2和0.937,表明利用回归分析法建立的磷化铟磁流变抛光的材料去除率及表面粗糙度回归模型,能够有效地预测磷化铟集群磁流变抛光效果。     

基于快速原型的等离子喷涂制模工艺

用基于快速原型制模技术 (RP)的等离子喷涂制模技术制造不锈钢模具。和传统钢制模具相比 ,该工艺具有模具开发周期短 ,成本低等特点 ,适于新产品的开发和单件小批量急需产品的生产。介绍这种工艺的原理 ,讨论成形的技术关键。运用该工艺完成了不锈钢快速模具试制 ,喷涂层厚度达到 5mm ,表面硬度达到 3 4 4HRC ,抛光后粗糙度达到Ra0 2 μm。     

基于接触特性优化的模具曲面气囊抛光实验研究

为提高模具自由曲面上的气囊抛光加工效果,在六自由度气囊抛光实验平台上对不同曲率半径的二维曲面模具进行了气囊抛光实验研究。首先,研究了模具自由曲面上不同曲率表面对于气囊抛光过程中接触区域的接触面积、接触宽度,接触力和抛光效果的影响规律;在此基础上,提出了在气囊抛光过程中通过调节气囊抛光头的下压量和内部充气压力来改变接触面积、接触宽度和接触力值的方法,使抛光时不同曲率表面接触区域内的平均接触压力相同,且沿运动方向的接触宽度也相同,从而使不同曲率表面在抛光后的抛光质量接近,使整个模具自由曲面的抛光效果达到最佳;最后,运用上述方法对二维曲面模具进行了抛光实验。实验研究结果表明,经过接触特性优化,不同模具曲率表面气囊抛光后接触区域内的抛光质量接近,抛光效果得到提高。     

模具型面数控抛光技术研究

分析了模具型面数控铣削后表面形貌的特点,在此基础上提出相应的研磨抛光工艺,并开发出适用于数控机床的工具系统,以实现研磨抛光作业的自动化,提高工作效率.     

模具曲面抛光工艺知识的获取

针对模具曲面抛光工艺规划专家系统开发中的抛光工艺知识的获取问题进行了研究,在分析了模具曲面抛光工艺过程的基础上,探讨了抛光工艺知识的特征,给出了抛光工艺知识的获取方法,为模具抛光工艺过程的智能化奠定了基础。     

电流变抛光工艺研究

研究了电流变抛光工艺参数对工件表面粗糙度的影响。用SiC和Al2O3磨料分别对硬质合金和光学玻璃进行了抛光试验，考察了抛光时间、工具电极转速、电源电压、磨料浓度等工艺参数影响工件表面粗糙度的规律。试验结果表明，随着抛光时间、工具电极转速、电源电压的增加，工件表面粗糙度逐渐降低。随着磨料浓度增加，工件表面粗糙度先降低后升高。对于表面粗糙度而言，磨料浓度存在一个最佳值。     

磁流体辅助抛光工件表面粗糙度研究

给出了磁流体辅助抛光的机理,以及依据Preston方程建立的磁流体辅助抛光的数学模型。并通过实验详细研究了磁流体辅助抛光后工件的抛光区形状,以及抛光区内表面粗糙度情况。最终加工出了表面粗糙度为0.76 nm(rms值)的光学元件,其高频表面粗糙度达到0.471 nm(rms值),满足了对一定短波段光学研究的要求。结果表明:磁流体辅助抛光可以用于对光学元件进行超光滑加工;在磁流体辅助抛光过程中,较大粒度的磁流体抛光液有利于工件表面粗糙度快速降低,较小粒度的磁流体抛光液可以获得更加光滑的光学表面。     

基于磨料水射流抛光铝合金质量的研究

磨料水射流抛光铝合金表面质量的影响因素较多,本文分析了射流压力、靶距、喷射角度和磨料流量四个工艺参数对抛光质量的影响,利用正交实验和极差分析法,研究了该工艺参数对磨料水射流抛光铝合金工件表面粗糙度的影响主次顺序为靶距、射流压力、磨料流量、喷射角度。并运用多元回归分析法,建立工件表面粗糙度与影响因素间的经验模型,对铝合金汽车轮毂表面处理具有很大的实用价值。     

无磨料超声抛光工艺参数优选试验研究

以45钢轴件为加工对象进行无磨料超声抛光工艺试验,优选工艺参数,探索各工艺参数对表面粗糙度的影响.试验结果表明,工艺参数对加工表面粗糙度影响顺序为进给量、超声波发生器的输出功率、抛光预压力和工具头半径;表面粗糙度值随进给量的增大而增大,而工具头半径、预压力和超声波发生器的输出功率对表面粗糙度的影响曲线为驼峰曲线,过大或过小的工艺参数均影响抛光效果.