碳剥离膜的制备

采用辉光放电裂解然法和碳弧法,为串列为加速器制备了长寿命碳剥离膜,研究了裂解室的阳极尺寸和阳,阴极之间的距离对裂解碳膜均匀性的影响,用分光光度法测量了碳剥离膜的厚度。     

U形靶框-双层结构碳剥离膜制备

本研究涉及用于兰州重离子加速器冷却储存环上的碳剥离膜的制备方法。该剥离膜采用特殊的U形靶框和双层结构，使膜的强度大为加强，以提高高真空条件下剥离膜使用寿命。采用碳弧法制备的剥离膜的有效面积较大，为10cm²，质量厚度约为150μg/cm²。碳剥离膜的X衍射谱测试结果表明，膜上的碳以非晶体石墨形式存在。     

碳膜制备和厚度测量的研究

本文系统地介绍了碳膜的制备技术及其厚度测量方法。碳膜制备技术有碳弧法、电阻加热法、电子轰击法、离心沉淀法和裂解乙烯法。碳膜厚度测量方法包括称重法、背散射法、等效空气法和吸光光度法。     

类金刚石碳剥离膜的制备及其性能研究

采用磁过滤阴极真空弧(FCVA)技术制备了质量厚度为5~7μg/cm2的类金刚石碳(DLC)剥离膜。用XP2U型精密电子天平测试分析了100mm范围内的DLC剥离膜均匀性,结果显示其最大不均匀性小于10%。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、万能摩擦磨损试验机和X光电子谱(XPS)测试分析了DLC剥离膜的表面形貌、耐磨损特性和结构,结果显示采用双90°FCVA技术沉积的DLC剥离膜表面光滑致密、耐磨,几乎没有大颗粒的污染,表征金刚石特性的sp3键含量超过70%。在北京HI-13串列加速器上使用107 Ag-、70 Ge-、48 Ti-、28Si-、197 Au-和127I-六种典型质量的离子束对质量厚度为5~7μg/cm2的DLC剥离膜和碳剥离膜寿命进行测试比较,结果显示DLC剥离膜寿命比碳剥离膜的高2.6~10倍。     

碳剥离膜寿命的研究

碳剥离膜用交流电弧法或者直流电弧法来制备,也可用交直流电弧来做多层膜.对不同制备方法和结构的碳剥离膜寿命进行了测量,所测膜的厚度为19μg/cm2.对影响膜寿命的一些因素进行了讨论,尤其是制备方法和碳膜结构.测量结果表明用直流电弧所做的碳膜寿命比交流电弧所做的长.     

自支撑Mg靶膜的制备

用真空蒸发法成功制备了１７０．０～１９６．１μｇ／ｃｍ＾２的薄自支撑Ｍｇ靶膜和９０～９５μｍ的厚自支撑Ｍｇ靶膜。甜菜碱是制备Ｍｇ靶膜有解离剂,讨论了真空蒸发制靶过程中的主要技术难点。     

自支撑Ca靶膜的制备

用真空蒸发方法成功制备了自支撑Ｃａ靶,在充Ａｒ气手套箱中剥离靶膜,基片的选择,材料的清洗,快速操作和Ａｒ气保护是制靶的关键。     

几种稀土金属自支撑靶膜的制备及其保存

在新核素合成、＾１５３Ｅｒ（ＥＣ＋β＾＋）研究、三裂与核温度测量，中能重离子碰撞中巨共振实验中，需要稀土Ｎｄ，Ｙｂ，Ｌａ，Ｔｂ，Ｇｄ金属自支撑靶膜，要求厚度为０．８ｍｇ／ｃｍ＾２以上，靶孔为Φ１５－３０ｍｍ。采用滚压方法进行这几种靶的制备。     

高剂量N^＋注入碳膜形成氮化碳CNx的研究

研究了利用高剂量的Ｎ＾＋注入碳膜形成氮化碳ＣＮｘ的可能性，对这种新材料进行了城叶变换红外吸收光谱、Ｘ射线光电子能说、Ｘ射线衍射和薄膜的维氏显微硬度等测量。结果表明，在１００ｋｅＶ高剂量Ｎ＾＋注入碳膜过程中形成了含有碳氮共价键成分的ＣＮｘ化合物。     

射频等离子体法在单晶硅衬底上形成的非晶碳膜及其性质

由离子和离子束技术形成的非晶碳膜具有良好的电绝缘性、对红外及可见光透明、硬度大、耐腐蚀等优良性质,可望在半导体器件、激光器件、太阳电池和材料保护等方面得到应用而受到重视。近年来很多作者先后报道了用未经质量分析的低能碳离子束直接沉积、离子束溅射沉积、离子镀、射频辉光放电离化碳氢化合物的等离子体沉积、经质量分析的低能碳离子束沉积等方法在单晶硅、玻璃、不锈钢等不同衬底上形成非晶碳膜的结果。碳膜的物理性质与沉积条件有密切关系,根据物理性质非晶碳膜大致可以分为三类,即导电、不透明的类石墨膜;绝缘、透明、质软的类聚合物膜;透明、绝缘、硬度大的类金刚石膜。     

滚轧法研制自支撑金属靶

文章叙述了用实验室型滚轧机研制了五十多种核靶的工艺过程。靶的厚度范围是0.3—20mg/cm~2,其均匀性用带电粒子能量损失法测量,一般好于96%。背散射测量表明,滚轧过程引入的杂质<0.2μg/cm~2。     

氘化聚乙烯靶的研制

文章介绍氘化聚乙烯靶的二种制备方法，即溶液蒸发和真空蒸发法。前者适用于制备厚的自支撑靶，而后者主要用来制作有衬薄靶。靶的厚度和均匀性分别用称重法和分光光度法测量。     

几种特殊靶的制备方法

文章了几种特殊靶的制备，包括７０ｍｇ．ｃｍ＾－２的自支撑Ｂｉ靶、Ｍｏ封窗膜、１５－５０μｇ．ｃｍ＾－２的自撑Ｓｃ靶（ＣＤ２）ｎ靶和７０μｇ．ｃｍ＾－２的自支撑Ｃｏ靶。     

用分光光度计测量核靶厚度和均匀性

文章叙述了吸光光度法测量核靶厚度和均匀性的一般原理,并给出碳膜和金属膜的具体测量方法,本方法的厚度测量范围为5—200μg/cm~2,测量精度为10%。     

钴靶的几种制备方法

一、引言钴的天然丰度为100%,是核反应研究常用的元素之一。根据核物理实验的需要,我们先后用电镀法、电阻加热法、聚焦重离子溅射法、滚轧法和水冷坩埚电子轰击法制备了各种厚度的钴靶。本文简述了制备钴靶的各种方法的工艺过程及其特点,指出了它们的适     

薄铜靶的制备及其厚度测量

一、引言联邦德国重离子研究所的物理实验需要一系列薄铜靶,其要求是:(1)厚度为2、4、8、15、30、100 μm/cm~2;(2)靶的大小为φ15 mm;(3)靶的均匀性好于9%;(4)厚度测量精度为10%(>30 μg/cm~2的靶)和20%(<30 μg/cm~2的靶)。     

自支撑同位素铬靶的制备方法

一、引言核物理实验需要各种厚度的自支撑同位素铬靶,首先我们用电镀法试制成0.5—2mg/cm~2的自支撑铬靶,为了获得更薄的自支撑铬靶,我们改用真空蒸发法进行试验,制成了厚度为0.2—0.4 mg/cm~2的自支撑铬靶。     

离心沉淀法制备粉末材料靶

一、引言核物理实验一般希望使用的自支撑靶,主要用真空蒸发、电镀和滚轧等技术来制备。但制备希土和硷土金属,高熔点材料以及数量较少而又贵重的同位素材料的自支撑靶就比较困难。一般说来,这些元素的同位素以氧化物,碳酸盐等化合物粉末状存在。对这些粉末材料可配制成溶液或悬浮液,用重力沉淀,电喷涂,电泳等方法来制备有衬底靶。这些     

超薄放射源和沉积膜厚度的测量比对

在SF-3型石英微量天平监测下制备的超薄放射源和沉积膜,分别采用称重法、电子谱线分析法和背散射法对其厚度进行了比对测量,测量结果一致性较好,并与SF-3型石英微量天平给出的值相符。从而在实验上证明了SF-3型石英微量天平是可靠的。