酸性光亮镀铜

一、前言随着生产的迅速发展,要求防护装饰性电镀生产尽可能自动,减少抛光工作量,改善劳动条件,提高防护性能。尤其是塑料电镀件及不易进行抛光的另件,要求镀层具有平整、镜面般光亮的外观,提高合格率。在印制板的加工过程中,要求孔金属化,因而要求电镀液具有优良的分散能力,使板面与孔内镀层厚度之比尽可能接近。镀铜层有足够的韧性,不致因印制板受到弯曲、机械冲击和浸焊时热冲击发生断裂;镀层尽可能细致平整。     

酸性光亮镀铜

前言氰化物镀铜在我厂应用已有二十几年的历史了。在生产过程中,采用剧毒的氰化物,不仅直接威胁着我们电镀工人和人民群众的身体健康,而且造成环境污染,影响了农业生产。根据国务院1973年158号文件的要求,必须抓好环境保护工作,这是一项关系到广大人民的健康和工农业生产发展的重要工作,是国民经济中一个不可忽视的组成     

光亮酸性镀铜

1前言 光亮酸性镀铜液是以硫酸铜和硫酸为主要成份,在镀液中加入适当的添加剂后,获得光亮平滑的铜层,因而称为光亮性酸铜.光亮酸性镀铜工艺在目前装饰性电镀中作为中间镀层被广泛采用.     

光亮酸性镀铜故障分析

0前言酸性镀铜是电镀生产中的一道重要工序,对电镀质量影响较大。酸性镀铜较难控制,故障也较多。本文列举出比较全面的故障原因,为解决生产中遇到的问题提供参考。酸性镀铜光亮剂分为非染料和染料两大系列。传统的非染料系列由2-巯基苯并咪唑M、乙撑硫脲N、聚二硫二丙烷磺酸钠SPS、聚乙二醇(分子量6000)组成。该系列的光亮剂出光慢,整平差,低电位光亮整平明显不足。染料系列(如大和210、瑞期     

酸性光亮镀铜溶液中Cl-测定

以往采用目视比浊法和沉淀滴定法测定酸性光亮镀铜溶液中Cl^-含量,测定结果不够精确,或滴定终点不明显使测定误差较大采用电位分析方法在弱硝酸酸性介质中,Cl^-与Ag^ 反应生成AsCl沉淀,以银电极为指示电极,双盐桥型饱和甘汞电极为参比电极,用AgNO3标准溶液进行电位滴定,通过被测试样电位滴定曲线突跃确定终点,可以准确测定酸性光亮镀铜溶液中Cl^-含量。该方法新颖,操作简便,测定结果准确。     

光亮酸性镀铜故障处理

0 前言 光亮酸性镀铜是上世纪60年代由于塑料电镀的推广,重新开发了由主光亮剂、表面活性剂和整平剂三大成分组成的添加剂(如多种有机硫化物、染料及聚合高分子化合物等),使镀铜层具有镜面光泽.从而迅速普及作为钢铁件的防护-装饰性镀层的中间层.同时也用于印制板上镀铜,无需抛光直接制板.     

用锌粉处理酸性光亮镀铜溶液中氯离子简介

酸性光亮镀铜工艺中,Cl~-要求严格控制在20～80mg/L之间。其含量过低或过高将严重影响镀层的质量和光亮度。我们从赫尔槽试验和生产实际得出:Cl~-含量在<5mg/L以下时,镀层的整平性和光亮度都很差,镀层粗糙有针孔,对(?)亮剂的添加很敏感,易产生条纹和烧焦;当Cl~-在20～80mg/L这个范围,电镀液和镀铜层趋于正常;当Cl~-含量>100mg/L时,光亮度整平性又开始下降,低电流密度区发暗不亮,甚至产生疏松镀层,出现同一挂零件亮度不均匀的现象,调整光亮剂效果不明显。镀液很容易浑浊,阳极板上产生灰色粉末,造成阳极导电不良,严重时槽电压升高,电流下降,而无法生产。所以,Cl~-的含量对整个镀铜质量有着重大的影响。     

PCB酸性光亮镀铜添加剂

文章以目前国内外现有的ＰＣＢ酸性光亮镀铜添加剂为例，从分析其结构入手探讨了添加剂的作用，并对添加剂中某些官能团作了归类和比较，旨在探求多组分添加剂实现单一化的可能性及可行性。     

WZ-PSM酸性光亮镀铜添加剂

该产品为单液型酸铜添加剂，适用于印制电路板制作中之全板及图形电镀铜工艺。具有极佳的均镀和深镀能力，品质稳定，可在较高电流密度下操作，耐温性能好，消耗量低。镀层结晶致密、均匀，附着力良好，具备优良的延展性、导电性和热冲击性能。使用单一组分添加，操作简单、经济，维护方便。     

酸性光亮镀铜溶液中氯离子的处理

对硫酸盐光亮镀铜工艺中过量的氯离子处理,目前,国内采用碳酸银沉淀和电解法二种,其化学反应方程式如下: 1.Ag_2CO_3+2HCl=2AgCl↓+CO_2↑+H_2O 2.2HCl电解H_2↑+Cl_2↑因上述二种方法,处理价格昂贵,所以,近来从国外引进了一种新方法;用锌粉处理,其机理则说法不一。八二年中旬,本厂酸性光亮镀铜槽(3600公升),由于误加试剂盐酸,使镀液中的氯离     

酸性光亮镀铜溶液中氯化物的分析方法

在酸性光亮镀铜溶液中,Cl~-的多少对镀铜层质量有比较重要的作用,准确掌握镀铜溶液中Cl~-的含量,是当前酸性光亮镀铜急需要解决的问题。目前分析酸性光亮镀铜溶液中Cl~-。国内有些单位采用沉淀分离铜,用硝酸银直接滴定Cl~-。由于沉淀对Cl~-有一定的吸附性,测定结果的误差较大。根据这种情况,我们做了大量工作,终于试验出一种较快速的容量分析方法。分析Cl~-的方法如下。     

酸性光亮镀铜液中氯离子的分析和补充

对一种酸性光亮镀铜液中Cl^-的分析方法所存在的问题进行了评述，指出用锌粉置换试样中的Cu^2＋，会使Cl^-分析结果严重偏低。强调补充Cl^-时一般按1000L镀液补充浓盐酸100mL或补充66g氯化钠计算较为合适。     

光亮酸性镀铜生产经验小结

一、前言我厂把光亮酸性镀铜正式应用于生产至今已整整六年了。在这段时间里,我们体会到光亮酸性镀铜的确具有效率高、整平性好、全光亮、镀液无毒等优点;同时,有利于“一步法”的生产。在未把光亮酸性镀铜应用于生产前,我厂的零件全部是镀锌铜合金后进行抛光,再镀装饰铬。这样的生产周期长,零件周转慢;而且,锌铜合金电镀要使用剧毒的氰化钠,车间环     

光亮酸性镀铜故障与排除

1 问题提出我厂电镀分厂镀装饰铬生产线,是采用镀半光亮镍-光亮酸性镀铜-光亮镀镍-铬.过去电镀摩托车钢圈质量一直较为稳定无异常疵病.但最近镀北京吉普车保险杠产品时,酸性镀铜槽却发生了镀件起亮慢亮度不均匀和镀件发花等疵病,而且往往是在同一镀件上同时出现,严重地影响了产品质量.     

宽温度光亮酸性镀铜工艺

光亮酸性镀铜工艺在国内广泛使用,我厂应用光亮酸性镀铜(12000公升)已有近六年时间,但原来工艺的操作温度要求低于32℃,夏天依靠16000大卡/时的冷冻机组还难维持三班制连续生产的要求,给生产带来一定困难。近年来上海长征电镀厂研究的以M(α巯基苯并咪唑)、N(乙撑硫脲)以及以此为基础的CB_1-CB_2混合光亮剂;贵州大学研究的SH-110、H_6(即乙撑硫脲),都能提高镀液的操作温度。我厂经过对比试验,选择出适宜宽温     

光亮酸性镀铜添加剂的作用

本工作研究光亮酸性镀铜添加剂——2-巯基苯骈咪唑(M)、乙撑硫脲(N)、聚二硫二丙磺酸钠(Sp)和聚乙二醇(P)对铜电沉积过程的作用。实验结果表明:M、P对铜的沉积过程的阻化作用大,可能导致产生细晶粒的镀层;N具有整平效应,而Sp的存在淡N的整平效果更好;若上述四种添加剂在镀液中的含量适宜,则在一定的电流密度范围内铜沉积层呈现光亮,光亮区随N的含量而变,当N达到某一数值时获得光亮镀层的电流密度范围最大,整平能力也最佳。     

酸性光亮镀铜工艺的研究

1 前言 酸性光亮镀铜是重要镀种之一,镀铜层作为防护、装饰性镀层的常用底层酸性光亮镀铜具有整平能力强、电流效率高、沉积速率快、成本低等优点.酸性光亮镀铜工艺在家用电器、日用五金等方面得到广泛应用.     

酸性光亮镀铜的预处理工艺

酸性光亮镀铜的预处理工艺尚书定（中原电镀技术实业公司，４７３０８２）１前言在钢铁件、钢管、锌合金件上直接酸性镀铜时，常因存在置换铜而使镀层结合力限差。在生产中经常采取预镀或预浸措施来解决这一问题。下面将几种比较实用的预处理新技术详述如下。２预镀镍工艺...     

光亮酸性镀铜的设备配置

电镀设备设施的完善和改进,往往能比单纯从对工艺镀液的调整、处理获得更好的效果。硫酸盐光亮酸性镀铜,由于工艺的某些特殊性,对此要求更高。本文结合不同体系光亮剂的工艺特点,进行了较为详细的讨论。连续过滤、镀液搅拌、液温过低时的恒温电加热、采用低纹波直流电源,是共同需要的;当液温超过工艺上限时,应根据多种因素来选择不同的降温措施。即使对宣称可不除膜的工艺,在工艺布局设计时,也宜设简单的化学除膜工序,以备不时之需。     

酸性光亮镀铜液中过多氯离子的去除

讨论了现有公开去除硫酸盐光亮酸性镀铜液中过多Cl-的方法(如化学沉淀)的原理及存在问题。对另一些可能的方法(如用其他还原剂替代锌粉以及氧化法)进行了分析或试验。开发了一种二液型无毒高效除氯剂。对工业化生产如何避免Cl-过多积累提出了建议。