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相似文献
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1.
弧矢聚焦双晶单色器聚焦误差分析   总被引:3,自引:2,他引:1  
简单介绍了弧矢聚焦单色仪的分光原理及结构原理,分析了同步辐射弧矢聚焦双晶单色器实际转轴偏离理想转轴ΔS及晶面偏离与导轨的理想夹角Δα对出射光高度的影响,并对弧矢聚焦晶体压弯半径的压弯精度Δh对实验站聚焦光斑展宽的作用进行了理论推导.当ΔS≤31μm、Δα≤1′,就可以确保出射光线高度误差Δh≤25μm;当对称压弯第二晶体所需微位移器的行程≥1mm、精度≤1.25μm时,可满足聚焦光斑的展宽≤0.5mm要求,且当压弯半径R的弯曲精度在ΔR≤0.75%R的范围内不需对晶体压弯.  相似文献   

2.
随着网络、多媒体技术的发展,计算机彩色图像再现系统中交互界面上颜色的高保真再现变得日益重要.本文结合敦煌壁画的计算机存储与管理工作,研究了从彩色扫描仪到计算机CRT显示器的颜色矫正问题,克服人为因素的影响,提出了一种新的CRT显示器色度预测方法和一种多约束因子颜色矫正还原模型.采用CIE1976(L·a·b·)匀色空间的色差函数ΔΕ进行矫正效果评价.结果表明,本文提出的颜色矫正还原模型能对扫描、显示等环节中各种因素所造成的颜色失真实现客观、定量、一次性的总体矫正,可以广泛应用到计算机彩色图像再现系统中.  相似文献   

3.
对两中心模型光折变晶体两波耦合增益系数Γ,总的有效陷阱密度Neff和强度特性因子η(I)的强度特性进行了理论研究。结果显示在两中心模型的光折变晶体中,Γ,Neff和η(I)有着复杂的特性。当SDγT/STγD小时,对于A类和B类两中心晶体,Neff随强度的增加而增加最终趋于饱和,当SDγT/STγD大时,对于A类晶体Neff增加到一个最大值后稍有减少,而对于B类晶体,Neff增加到最大值后然而有较大的减少。不同类型晶体增益系数Γ有着不同的强度特性是由于晶体中有着不同的能级结构。  相似文献   

4.
合成孔径雷达光学处理器(OSARP)与普通成像系统不同,它处理合成孔径雷达(SAR),数据片.因此,我们不仅要检测OSARP的成像质量还要检测它的功能.本文提供一种检测OSARP的方法.OSARP的功能是通过检测OSARP各组件的调整量来求得的;OSARP的成像质量是用普通检测靶加位移透镜来检测的.我们使用模拟SAR效据片来检验OSARP处理各种雷达相位历程的能力.最后用真实SAR数据片来检验SAR和OSARP的综合成像质量.用这种方法我们实地检测HG-1型OSARP,实测结果表明这种检测方法是可行的.  相似文献   

5.
本文介绍了BaF2晶体的闪烁性能及其与其它闪烁材料的比较结果.给出了BaF2晶体的应用实例.由此我们能够看出BaF2晶体的应用前景.从晶体生长角度研究了BaF2晶体的习性和生长条件.  相似文献   

6.
用Cz法生长尺寸为Φ25×30mm的高质量的PWO晶体,设计了合理的工艺参数,总结了影响PWO晶体完整性的因素.发现晶体开裂有四种形式横向层状似的断裂;纵向长裂纹;沿解理面(101)或(011)面开裂;无规则碎裂.通过结构分析认为,结构应力导致晶体的无规则碎裂,通过选用高纯原料,结构完整的籽晶等方法可减小结构应力.并认为晶体开裂的主要因素是热应力而引起的.经过大量实验表明,热应力引起的开裂除了沿解理面方向外,还由于各方向上热膨胀系数不同,而表现为横向层状的断裂(偏C轴方向生长)和纵向裂纹(偏a轴方向生长)的两种形式.可通过设计合理而稳定的温场,选择最佳工艺参数及退火处理等方法,减少热应力而引起的晶体开裂.  相似文献   

7.
磷酸二氢钾(KDP)晶体是一种经典的电光材料,是目前唯一可用于惯性约束核聚变的非线性光学材料。鉴于籽晶和生长方法对KDP晶体的生长和质量具有重要的影响,本文采用传统法生长法和点籽晶快速生长法生长KDP晶体,通过改变籽晶的种类及切向,不仅减少了晶体的恢复区,同时缩短了晶体的生长周期,生长出高透明度的单晶。对晶体的透过、结晶完整性及损伤等性能进行测试,结果表明,晶体在红外和可见光波段具有较高的透过率;晶体(001)面的衍射强度较强,峰形比较尖锐;相比于1-on-1方式,R-on-1处理使KDP的损伤阈值提高了1.7~2.1倍,晶体的抗损伤均匀性很高。生长的晶体具有优良的光学性能,籽晶对晶体的生长具有重要的影响。  相似文献   

8.
CIE1976(L*a*b*)颜色空间是较理想的匀色空间之一.为了使它获得更广泛合理的应用,人们继续对其进行探讨和改进.本研究利用心理物理评价实验,对该空间的诸变量特性进行了研究.  相似文献   

9.
近年来,由于激光技术的发展,LiF晶体经过辐照处理成为很有前途的近红外波段室温条件下的色心激光材料。我们研制的无散射颗的φ110×80mm大尺寸纯LiF晶体;为改善F_2~+心稳定性而生长了掺杂(Ni_i~(2+)OH~-)IiF晶体,与上海交大等单位协作获得了LiF(F_2,F_2~+,F_2~-)色心激光的输出.  相似文献   

10.
含与不含晶界空穴双晶体晶体滑移与应力场分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
基于晶体滑移理论对双晶体进行研究,考虑平行和垂直于外加应力方向的两种晶界(gain boundary, GB)状况,同时在晶界上引进空穴的影响.采用各向异性有限元程序对双晶体的应力场和滑移系开动规律以及微空穴的生长规律进行计算分析,考虑晶体取向的影响.结果表明,晶界的存在显著改变双晶体应力场,在晶界附近产生应力集中,对此两晶粒的取向有较大的影响;在相同的加载参数下,滑移系的开动主要取决于两个晶粒的取向差别;微空穴的长大与晶界类型和晶粒的晶体取向有强烈的依赖关系,其中垂直晶界更有利于晶体的滑移和微空穴的生长,滑移系开动后微空穴增长速率明显加快.文中分析表明,只有从细观的角度出发,才能准确理解晶界和微空穴对双晶乃至多晶材料的变形损伤规律和失效机理.  相似文献   

11.
本文研究了在B2O3-La2O3-BaO-Nb2O5四元系统中当B2O3含量分别为25、30、35wt%时,该系统的玻璃生成范围和它们的光性、密度等变化规律。结果表明,随着B2O3含量的增加,系统的玻璃生成范围向贫Nb2O5边界扩充,富Nb2O5边表现收缩。工作中得出了该系统分别以SiO2代B2O3、Al2O3代BaO后的析晶、折射率、色散及密度等性质的变化规律。最后应用该系统研制定型了713/538玻璃。  相似文献   

12.
生长了十几种掺杂的Ba2F晶体.研究了共闪烁性能和抗辐照性能, 发现有些杂质对BaF2闪烁体的光输出有很大影响, 另一些杂质影响不大, 还有的杂质不但影响不大, 而且还大大地提高了BaF2晶体严重辐照损伤后的恢复能力.对上述结果作了解释.首次提出[F2]心模型来解释BaF2晶体220nm快成份发光的机制及其现象.  相似文献   

13.
本工作为开发具有特殊性能的新型铌硅酸盐光学玻璃系列,扩展玻璃实用配方设计的系统和组成,提供玻璃和熔体的结构特征的理论依据。在铌酸盐,铌硼和镧硼酸盐光学玻璃熔融挥发与均化等研究成果基础上,进一步开展了(x/2)(Nb2O5·K2O)·(1/4)(100-x)(3SiO2·BaO)多元玻璃(x值从4到52)和熔体的结构与性质变化规律的研究。  相似文献   

14.
由FT—IR和Raman光谱的结果得出:该三元系统玻璃在高磷区为偏磷酸盐结构。其结构网络主要由[O=PO3/2四面体组成的链状和少许环状分子构成。随着PbF2含量的增加,链开始断裂。当过渡到中磷区时,又主要以[Al(O,F)4]和[P(O,F)4]四面体及焦磷酸盐结构状态存在。当[Al(O,F)4]和[P(O,F)4]两者的比值为1∶1时,将无法形成玻璃。实验结果还指出,上述系统在中磷区的形成玻璃的范围是很小的。到低磷区时,由磷氧构成的网络几乎不存在,仅以孤立的[P(O,F)4]四面体即氟正磷酸盐结构存在,同时双键氧P=O也消失。  相似文献   

15.
本文研究了在B2O3—La2O—CaO三元系统中,当Ta205的含量分别为5、10、15、20wt%时,该系统的玻璃生成范围.结果表明,随着Ta2O5含量的增加,系统的玻璃生成范围向贫B2O3,富La2O3边界扩充.当Ta2O5的含量为10wt%时,玻璃的生成区域最大.通过差热分析确定了玻璃析晶温度,并用X射线衍射进行了物相鉴定.结果表明,随Ta2O5取代La23其主结晶相的放热峰或吸热峰的位置变化不同,所析出的结晶物质亦不同.  相似文献   

16.
本文系统地研究了R2O-MO-SiO2系统玻璃的α、β、E、G、μ等性质随组成变化的规律.并研究了Na2O-BaO—SiO2, Na2O-ZnO-SiO2, K2O-PbO-SiO2系统玻璃的高温剪切模量.用DSC-7, X-ray衍射方法研究了该系统玻璃的析晶性能.用Raman光谱讨论了该系统玻璃的结构, 并讨论了结构与性质的关系.  相似文献   

17.
本文以角调谐β-BaB2O4晶体用于若单明6G连续波环形染料激光器内腔倍频, 在290—305nm波段范围产生了可调谐紫外辐射.在296nm处, 最大二次谐波功率输出为0.6mW.线宽2MHz.  相似文献   

18.
本文对于不同再结合的半导体带满光学非线性给予了新的解释。报导了自制的半导体掺杂CdSxSe1-x非线性光学玻璃。研究了热处理温度和时间对掺杂玻璃微晶直径和光谱特性的影响,观察了玻璃微晶平均直径在35Å—80Å出现的量子限效应。文中给出了半导体掺杂玻璃微晶尺寸与量子限效应的关系。  相似文献   

19.
用一种特殊配置的光路,实现了在 CO2分子跃迁的三个不同带上的三个支线的同时振荡。而且在各条带上的支线可以任意组合。通过对10P(12)—10P(24),10R(12)—10R(24)和9P(12)—(24)的若干组线间强度起伏测量表明,任意组合的三个支线的强度起伏均小于30%。  相似文献   

20.
本研究通过CH3SiCl3/H2体系,温度在1100℃—1500℃范围内,常压下,在石墨基底上CVD—SiC厚膜实验,观察了总流量、温度及CH3SiCl3浓度对沉积速率的影响。用扫描电镜及X射线衍射分析了沉积层的表面形貌及组织结构。结果发现当温度为1300℃、总流量为81/min、CH3SiCl3浓度为12mmol/min时沉积层为择优取向[111]的致密柱状β-SiC,且沉积速率最高,20分钟,沉积量可达10mg/cm2左右。  相似文献   

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