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金刚石薄膜膜基界面结合强度测量技术的研究进展 总被引:3,自引:0,他引:3
膜基界面结合强度的测量与评价是金刚石薄膜制备与应用关键问题,本文介绍了国内外金刚石薄膜膜基界面结合强度的几种典型的测量方法,着重探讨了膜基界面结合强度的精确定量测量技术的研究现状以及发展趋势,提出了用一种新的内涨鼓泡测量法,对复杂形状基体上金刚石薄膜膜基界面结合强度进行精确定量检测,为金刚薄膜的制备工艺优化及其质量的评估提供可靠的依据和标准。 相似文献
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基于内涨鼓泡实验的金刚石膜附着强度精确定量评价 总被引:2,自引:0,他引:2
根据内涨作用下薄膜发生鼓泡变形的原理,开发了1种新的适用于金刚石膜附着强度精确定量评价的测试系统。并在传统的硅平面加工工艺的基础上发展了1种新的在沉积好的基片上制备自支撑窗口试样的方法,该方法可以保证在刻蚀基底形成自支撑窗口的同时不会损坏到薄膜。通过实验,实现了对硅基底金刚石膜结合强度的定量检测,实验得到的薄膜结合强度为4.28726J/m^2。实验所测得的附着强度结果与有限元仿真结果类比的吻合,证实了该模型的有效性,从而为金刚石膜的制备工艺优化及其质量的评估提供了可靠的依据和标准,对促进金刚石膜材料的深度开发和工程应用将具有积极的意义。 相似文献
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金刚石薄膜结合强度的测量 总被引:1,自引:0,他引:1
本文介绍了新型的、可用于硬质薄膜结合强度测量的刮剥式结合强度测量方法及其装置,利用刮剥法测量了在不同基底(硬质合金和陶瓷基底)上生长的金刚石薄膜的结合强度,研究了基底表面状态及薄膜制备工艺对金刚石薄膜结合强度的影响。研究工作发现,如制备工艺适当,无论是采用热丝CVD法还是采用微波离子束法,在基片未经表面处理和经过表面处理两种情况下,金刚石薄膜结合强度强度基本处于同一强度水平。基底的表面处理可以明显 相似文献
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鼓泡法薄膜力学性能测试的研究现状 总被引:6,自引:1,他引:5
对鼓泡法薄膜力学性能测试的现状做了评述,重点分析了该实验方法所用力学模型的最新进展,剖析了所涉及的制样方法和力学模型的特点及所存在的问题;对该方法的未来发展作了展望。 相似文献
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硬质合金基体金刚石涂层工具产业化应用的主要障碍之一在于涂层的膜基界面结合强度较差,易引发涂层早期脱落。提高膜基界面结合强度、保证刀具正常使用寿命,已成为金刚石涂层工具产业化亟待解决的主要问题。我们介绍了近年来在提高硬质合金基体金刚石涂层膜基界面结合强度方面所取得的一系列研究新进展,并提出了进一步改善其膜基界面结合强度的新思路,以促进热丝CVD金刚石涂层工具的产业化应用。 相似文献
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鼓泡法测量高分子和金属薄膜弹性模量的方法探讨 总被引:2,自引:0,他引:2
在自制的鼓泡仪上对高分子薄膜和金属镍膜的弹性模量进行了测量,并研究了孔径对薄膜弹性模量测量的影响。结果表明,高分子薄膜的弹性模量为2.7±0.2GPa,孔径对薄膜弹性模量的测量没有影响;受仪器精度限制,该仪器目前尚难用于金属镍膜的弹性模量的精确测量。 相似文献
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膜基界面结合强度表征和评价 总被引:12,自引:4,他引:8
膜基界面结合强度是直接关系到膜基体系最终使用性能和可靠性的关键因素。对现用的薄膜与基体之间界面结合强度表征方法进行了综合评述,并报道了一些研究新进展。 相似文献
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基于密度泛函理论的第一性原理平面波赝势方法,研究了不同硬质合金基底线缺陷率下的金刚石涂层膜基界面结合强度。通过建立[111]、[110]、[100]3种不同晶向的金刚石涂层膜基界面分子模型,研究了硬质合金基底线缺陷率对涂层膜基界面结合强度的影响以及[111]、[110]、[100]3种不同金刚石涂层晶向下的最优膜基界面结合强度。研究结果表明:硬质合金基底的表面能随着基底线缺陷率的增加而逐步增大;当线缺陷率ρ=12.5%时,基底表面能达到最大值;其后,随着基底线缺陷率继续增大,基底表面能逐渐呈减小趋势。进一步研究显示,不同晶向的金刚石涂层膜基界面的最优界面结合能的最优线缺陷率不同,[111]晶向和[110]晶向的金刚石涂层的最优基底线缺陷率均为6.25%,而[100]晶向金刚石涂层的最优基底线缺陷率则为0%。 相似文献
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人造金刚石抗压强度检测中样本容量的研究 总被引:3,自引:2,他引:1
在人造金刚石抗压强度检测过程中,我国现行标准JB/T7988.1-1999规定取样40粒。本文利用国内具有代表性的4种锯用金刚石,分别按照40粒,60粒,80粒进行了多次取样检测。结果表明增大样本容量能够有效地鉴定金刚石的牌号,随着我国检测仪器自动化程度的提高,建议在金刚石抗压强度检测中每次取样80粒进行。 相似文献
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用球滚接触疲劳法评定硬质薄膜的结合强度 总被引:8,自引:0,他引:8
采用滚动接触疲劳法对气相沉积硬质薄膜的结合强度进行了研究。结果表明,反映膜基结合强度的力学参量为界面最大剪应力幅。采用数值计算的方法,可以定量得到膜基界面处的应力分布。 相似文献
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离子注入Cu薄膜的氧化行为研究 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了用强流金属蒸汽弧离子源(MEVVA源)注入Cr对Cu薄膜的抗氧化性能、导电性能和氧化特征的影响。利用X射线衍射、Rutherford背散射和扫描电镜 离子注入前后氧化物结构和氧化物形态演变。结果表明,在薄膜的表面层注入一定剂量的Cr能有效地改善Cu薄膜的抗氧化性能,而对薄膜的电导性能无显著影响;离子注入显著影响薄膜表面氧化铜的结构和形态。探讨了离子注入对氧化铜结构和形态的影响机理。 相似文献
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本文以金刚石圆柱成形铣刀在SPEED3石材加工中心上加工花岗石台板面边缘曲线为对象进行试验,分析研究刀具宏观几何尺寸参数(直径、质量、圆柱度)的变化量与工件材质及其去除量间的关系,探询刀具磨损规律。通过利用不同构成和工艺参数的刀具加工两种花岗石的对比实验,得出了刀具几何参数与工件材料去除量关系的变化曲线。据此,可分析计算刀具直径的磨损变化规律、预测刀具寿命,并可方便地校正补偿加工中心刀具轴线的运动轨迹。 相似文献