建立一种氪氙原料气中氪气和氙气含量的分析方法

介绍一种全新的氪氙原料气中氪气和氙气含量的分析方法。该方法能够准确测定生产过程中氪氙原料气中氪气和氙气的组分含量,有效降低生产能耗和提高产品产量。     

利用脉冲放电氦电离色谱检测高纯气体中微量无机杂质

利用脉冲放电氦电离色谱检测高纯气体中的微量无机杂质是近些年刚刚发展起来的一种新方法,它具有灵敏度高和检测限低等优点,可对高纯氮气、氧气、氢气以及稀有气体氦气、氖气、氩气、氪气、氙气中无机杂质进行定量分析.本文以实验室新近购买的脉冲放电氦电离色谱为例,简单介绍原理及其操作,并通过具体实例对高纯气体中无机杂质的定量分析时可能遇到的问题进行讨论.     

电化学液相色谱分析庆大霉素的方法

采用电化学检测器液相色谱测定硫酸庆大霉素组分及杂质,无需采用衍生化反应,可以直接进样,且检测灵敏度高、分离效果好。该方法在所测定的范围内具有良好的线性(相关系数r>0.99),重复测定及耐用性的相对标准偏差组分均小于2%,杂质均小于10%;C2a组分的最小检测浓度为0.002mg/ml。结果表明该方法测定硫酸庆大霉素组分及杂质是一种简便、准确的分析方法。     

氙气泄漏检测设备的性能测试

新型空间电推进技术具有高比冲、小推力、长寿命等优点,将广泛应用于新一代卫星推进系统中。由于氙气具备较低的电离能和较高的原子能量,是电推进主要的推进剂。针对卫星电推进系统氙气供给子系统在加注氙气过程中可能造成的泄漏,研制了氙气泄漏检测设备。通过介绍设备结构、技术指标、检测方法等相关技术内容,给出了设备的性能测试结果。测试结果表明:研制的氙气泄漏检测设备完全能够满足电推进系统加注氙气时泄漏检测的技术要求。     

氪气与氙气中氟化物杂质净除技术的研究与应用

经过近 10年的探索、研究与实践 ,在国内最先发现并确认了采用深冷法分离空气生产的氪气与氙气中存在着三种氟化物杂质。为净除这些有害杂质 ,研制出了一种专用净化材料和成套终端净化装置 ,这种装置可同时有效地将这三种利用其他方法难以净除的氟化物彻底清除干净。该净除方法经实际应用并与国外其他净除方法相比较 ,优点突出     

二维气相色谱法分析高纯硒化氢中的微量杂质

文中采用双通道二维气相色谱技术完成高纯硒化氢气体中微量杂质含量的测定。利用一根填充柱作为预柱,分离主组分和杂质组分,两根并联的填充柱作为分析柱完成杂质组分的分离,并通过阀事件时间程序的优化实现了一次进样完成硒化氢中微量氢、氧(氩)、氮、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等杂质分析,结果表明该方法具有重复性好(<2%),检测限低(0.002～0.01?mol/mol),分析时间短,操作方便等特点。     

惰性气体的分析方法

该译文介绍了惰性气体的检测与检验方法、惰性气体中杂质的测定以及混合物中惰性气体的测定。其中分析方法介绍了气相色谱法、质谱法、红外光谱法、发射光谱等方法。图12、表6。     

高灵敏热导气相色谱法分析氦中微量氧、氮、甲烷等组分方法的研究

给出了采用高灵敏热导检测器分析氦中微量氧、氮、氪、甲烷、一氧化碳、四氟化碳、氙气等组分的方法、进样方式和分析色谱图等。与脉冲放电氦离子化检测器色谱分析的比对结果,证明其方法的可行性。     

利用氧化还原反应检测燃料氢气中的杂质

检测燃料氢气的杂质时,使燃料氢气通过氧化还原反应装置.其余杂质由载气载入色谱分离系统进行有效分离后检测.该方法彻底除去氢和氧,消除了分析中主成分对其他杂质的干扰.测量重复性小于3％,测量范围可达0.055～5000(μL/L),且无需采用中心切割方法.     

ICP光谱法在钢材金属元素检测中的应用

钢中各杂质元素的含量直接影响着钢的质量,尤其对于各种工具钢,检测钢中各种杂质元素的含量是钢铁生产中,以及作为原料的生产厂家生产过程中的重要一环本文介绍了钢材金属元素检验的常见方法。论述了ICP光谱法的检测原理以及分析特性。对近年利用ICP检测钢材种金属元素的研究进行了总结。     

甲烷中微量氧、氮、乙烷气体标准物质的研制

介绍了甲烷中微量氧、氮、乙烷气体标准物质的制备过程,建立了杂质组分的分析方法,对该标准物质性能进行了分析与考察,分析和评定了标准物质的不确定度.     

氦中氪氙气体标准物质研制

论述了静态体积法制备氦中氪、氙气体标准物质的方法、稳定性参考值,不确定度计算方法。该研制方法可行,数值准确可靠。     

电子级八氟环丁烷中杂质含量的测定

介绍了一种利用氦离子化检测器(DID)分析高纯八氟环丁烷中微量O2、N2、CO、CO2、C3 F6的方法.该方法对杂质的检测限能够达到0.01×10-6,结果表明,该方法能达到较高的灵敏度和较低的检测限.     

ICP-MS检测多晶硅表金属杂质的研究

应用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS),对多晶硅料块表面金属杂质Fe,Cr,Ni,Cu,Zn,Na,元素进行检测。本文研究了样品的处理方法,确定了适宜的实验条件,使用该方法能准确、快速的检测多晶硅表面的金属杂质含量,适用于商用实验室中的检测,符合企业中工业化的检测需求。其检测方法对多晶硅中的金属杂质Fe,Cr,Ni,Cu,Zn,Na,元素的检出限达到0. 01ng/g左右,精密度较好,Fe的加标溶液的回收率为90!109%,满足痕量杂质检测的要求。     

非色散原子荧光激发光源杂质检测方法与装置研究

研究了一种非色散原子荧光激发光源杂质检测的方法,并研制了检测用标准装置,开发了杂质判别软件。该装置的检测波长范围为190～350nm,波长最大允许误差±0.3nm,实现了激发光源是否含杂质及杂质元素判定的快速检测功能。通过实验验证了检测方法、研制的标准装置及测试软件的正确性。     

一种新型碳分子筛填充柱在高纯气体分析中的应用

建立了一种新型碳分子筛(CST)微填充柱分析高纯氦中杂质组分的方法,该方法利用一根色谱柱完成高纯氦中所有杂质组分的分离,简化了分析气路流程,结果表明该方法具有重复性好(2%),操作简便等特点。探讨应用CST柱作为预柱在不同气体分析中的可行性,通过CST与PQ柱作为预柱的对比实验表明CST柱解决了PQ柱对低浓度氧气不可逆吸附的问题,对NH3、SF6、Si H4等气体分析应用表明CST柱作预柱在基流稳定性和氧气分析方面较PQ柱有一定优势,但是也存在可能会与某些特定基底气反应及无法预分离等问题。     

PDHID分析超高纯甲烷中微量杂质成分

应用PDHID气相色谱法,采用切割、放空等技术,一次性测定了高纯甲烷深度纯化后杂质含量。以外标法定值各微量杂质组分含量。重点讨论微量C_2H_6、C_3H_8的分离及检测问题。     

氙气质量流量校准装置

为了开展多工况条件下的氙气质量流量精确校准,研制了氙气质量流量校准装置。本文介绍了校准装置的组成、校准原理,测试了极限真空度、漏放气率,进行了真空容器容积在线测量、校准过程中氙气温度变化及物态变化等研究,对校准结果进行了验证。该装置校准范围为(3×10~(-1)~2.6×10~3)m L/min(标准状态),相对合成标准不确定度为1.6%。     

气相色谱法分析六氟丁二烯中的6种气相杂质

通过对反吹系统和仪器工作条件的设计和优化,建立了一种利用气相色谱法分析六氟丁二烯中6种气相杂质的方法,并进行了验证实验。实验结果表明,该方法能够实现六氟丁二烯中H₂、O₂+Ar、N₂、CO、CO₂、CH₄杂质的检测分析,检测限分别可达0.02×10^-6、0.01×10^-6、0.02×10^-6、0.01×10^-6、0.04×10^-6、0.02×10^-6。各组分峰面积的相对标准偏差均<5%,相对平均偏差均<2%,线性相关系数均>0.99。     

氪气和氙气的制备与应用

详细介绍了氪气、氙气的性质与应用,阐述了其制备的方法与特点,介绍了武钢氧气公司氪气、氙气生产的技术和产量等情况。