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压电微悬臂有原子力显微镜中的应用 总被引:2,自引:0,他引:2
微悬臂是原子力显微镜中最重要的部件之一。用压电微悬臂代替常用的Si、SiO2或Si3N微悬臂后的原子力显微镜有一定独特的优点。由于压电微悬臂中的压电薄膜具有压电效应,因此它既可致动微悬臂,又可探测微悬臂的位移量,使得原子力显微镜的结构简单、响应速度快、扫描速度加快.文中简要介绍了压电微悬臂的制作过程,分析了压电微悬臂在原子力显微镜中的各种应用及相应的原子力显微镜的工作原理和有关结果,并与普通原子力 相似文献
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本文介绍了一种新型的压电振动微机械陀螺,与其它大多数压电陀螺不同,它不需要弹性元件,由压电材料本身构成振子完成陀螺功能,由PZT薄膜材料做成的平板沿厚度方向极化并受电激励产生厚度伸缩振动,当一输入角速度作用于振子,根据哥氏效应,则在极化轴和输入角速度轴组成的闰面垂直方向上产生一正比于输入的速度大小的感应电压,它是一种双轴陀螺,本文给出了它的物理模型,并用PZT陶瓷晶体做了宏观模拟实验,实验结果与理 相似文献
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压电智能挠性板的主动振动控制研究 总被引:3,自引:0,他引:3
对挠性悬臂矩形板的主动振动控制进行了研究。给出了悬臂板的压电敏感器和致动器的布置准则,并推导了悬臂板的(包括弯曲和扭转振动模态)基于分布式压电致动器的压电致动方程,可以根据该方程设计悬臂板压电主动振动抑制的控制器。该文在控制方法上采用应变律反馈控制和线性二次型(LQR)控制,计算机数字仿真结果表明:设计的控制律对于悬臂板的弯曲和扭转振动是有效的。 相似文献
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分析了阵列悬臂探针并行扫描的工作方式,以非接触磁力模拟样品与悬臂梁间的范德华力,研究了1×2阵列压电悬臂梁的并行扫描和驱动控制方法。每一压电梁均集成了微位移致动器和力传感器,在320Hz一阶共振频率下振动。实验表明:在0.2~1.0mm力作用区内,压电梁自由端每接近模拟样品0.1mm,表征悬臂梁振幅的锁相放大器输出电压减小1.7mV,但微力传感在扫描的升回程存在迟滞;致动器的控制电压每增加10V使锁相放大器输出减小约3mV,表明集成的致动器可调节压电梁与样品间的间距。两压电梁的电荷-位移响应曲线、间距调节灵敏度均不完全一致,讨论了阵列悬臂梁一致性问题和阵列规模大小问题。 相似文献
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微悬臂梁谐振技术检测溶液粘度的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
提出了一种测量溶液粘度的微悬臂梁谐振技术。推导了溶液粘度与微悬臂梁的谐振频率的理论关系式,并利用原子力显微镜的微悬臂梁测量了不同质量分数的甘油溶液和蔗糖溶液的粘度。与落球法测量结果的比较表明,利用微悬臂梁谐振频率技术测量液体粘度的误差小于4%。这种方法不仅可以作为液体粘度的一般性测量方法,也可以通过检测溶液粘度变化来监测溶液中的化学反应。 相似文献
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提出了一种用于针尖扫描原子力显微镜(AFM)的光点跟踪设计方案,结构简单,容易实现。设计方案对扫描器的负载能力要求不高,而且能使原子力显微镜实现较大范围的针尖扫描。实验结果表明,采用此光点跟踪设计方案的针尖扫描原子力显微镜能实现最大100μm×100μm范围的扫描,z方向上的误差最大1 nm,能很好地满足大样品扫描的需要。 相似文献
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脂质体的液晶态结构和稳定性研究 总被引:3,自引:2,他引:3
用原子力显微镜(AFM)观察了液晶态LB膜和脂质体形貌的结构和稳定性。实验结果表明,在扫描区域内,对于DOPE脂质体,可观察到一些由DOPE超分子聚集体形成的大小不同的球形颗粒;对于DOPE和DOPC混合脂质体,则不仅观察到类似脂质体的球形颗粒,而且也观察到了双层膜结构,其厚度约为5~6nm。随着NaCl浓度的增加,它们的双层膜更稳定。葡萄糖和蔗糖对脂双层膜结构有稳定作用。 相似文献
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研制了一种新型液相/电化学原子力显微镜(EC-AFM)系统。该EC-AFM系统的探头部分以激光作为光源, 设计了独特的液相光路, 采用了一块透明的玻璃作为视窗, 同时作为探针座, 将微探针和样品完全浸没在液体中进行扫描检测。设计了完全开放式的电解池, 可方便地改变样品的液体环境, 对电化学反应进行操作和控制。此外, 采取了探针扫描的方式, 使得较大和较重样品的扫描检测得以实现。利用该EC-AFM系统, 以铁片为阴极, 铜片为阳极在硫酸铜溶液中进行了化学镀铜实验, 并对实验过程进行了实时观察, 获得了不同阶段的样品表面图像。实验结果表明, 自主研制的EC-AFM在溶液中可扫描获得理想的AFM图像, 分辨率达到纳米量级, 证实该系统可以直接观察电解液中固液界面的化学反应。 相似文献
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介绍了一种压电型微悬臂梁的制作工艺流程,重点研究了其中硅的反应离子刻蚀(RIE)工艺,分析了工艺参数对刻蚀速率、均匀性和选择比的影响,提出通过适当调整气体流量、射频功率和工作气压,以加快刻蚀速率,改善均匀性,提高选择比。研究表明,在SF6流量为20 mL/min,射频功率为20 W,工作气压为8.00 Pa的工艺条件下,硅刻蚀速率可以提高到401 nm/min,75 mm(3 in.)基片范围内的均匀性为±3.85%,硅和光刻胶的刻蚀选择比达到7.80。为制备压电悬臂梁或其它含功能薄膜的微结构提供了良好的参考。 相似文献
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本文利用原子力显微镜表征硅气相外延生长的白雾片和正常片。实验证明,白雾片是由许多高低起伏很大的颗粒构成的。而正常片的高低起伏很小,一定范围内无颗粒状结构。该实验清楚表明,形成白雾的原因是高低起伏的颗粒的光漫反射。 相似文献