共查询到20条相似文献,搜索用时 0 毫秒
1.
《半导体行业》2006,(1):76-77
全球10大最重要商业里程碑;06年晶圆供应紧张;借助CADENCE ENCOUNTER VERISILICON公司实现倒装片设计的成功出带;安华高网站增加在线知识库系统工具;安捷伦宣布与CEA-Leti在下一代无线系统设计流程方面的全面合作;意法半导体与飞思卡尔合作汽车半导体业务;安桥采用欧胜芯片获得超级的音频透晰度;STS推出VPX直立式传输平台;飞兆半导体的15MBd高速CMOS光耦合器工业应用提高额定CMR达250%;罗门哈斯电子材料荣膺Chartered授予的供应商质量改进大奖;科利登端对端6.4Gbps高速总线解决方案提供业界领先的性能和成本优势;Actel免费提供百万门器件的设计工具;ZiLOG公司与Hauppauge公司合作推动PC-TV革命。[编者按] 相似文献
2.
3.
4.
5.
6.
7.
8.
《电子工业专用设备》2008,37(3):66-71
<正>AMD将超紫外光刻技术用于制造测试芯片此前采用EUV技术制造工作芯片组件的项目涵盖区域较"窄",只限于芯片中的一小部分。在日前举行的业内首届光刻技术大会上,AMD公司的Bruno La Fontaine博士介绍AMD、IBM和奥尔巴尼大学纳米学院(UAlbany Nano College)奥尔巴尼纳米技术研究中心(Albany NanoTech Complex)的合作伙伴的工作成果。他提交给大会的论文中介绍了如何成功地将"全区域"EUV光刻技术集成到22mm×33mm的AMD45nm节点测试芯片上,用于制造工艺。 相似文献
9.
10.
11.
从征 《激光与光电子学进展》1999,36(1):16-17
出席1998年3月9~10日在日本京都举行的第一届国际半导体技术讨论会的人员得出结论,光刻的未来前景是光明的,至少近几年如此。这次讨论会的目的是讨论2000~2010年间全世界半导体产业的需求,特别是对光刻和干刻的要求。讨论会由日本日电公司(NEC)... 相似文献
12.
13.
14.
15.
16.
17.
18.
19.
20.
无掩模光刻技术的最新进展 总被引:3,自引:1,他引:2
莫大康 《电子工业专用设备》2005,34(2):1-2
据VLSI的报道,尽管浸入式光刻技术似乎为全球半导体工艺路线图又打开一扇明亮的窗. 相似文献