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铝合金表面微弧氧化处理 总被引:3,自引:1,他引:3
微弧氧化技术可以在铝合金表面上原位生长20-200μm的陶瓷氧化膜,该膜具有HV800~1500的显微硬度,能大大地提高材料表面的耐磨,耐蚀,耐压绝缘和抗高温冲击性能,在纺织、机械等工业部门中具有广阔的应用前景。 相似文献
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为了达到改善铝合金表面硬度低、耐磨耐蚀性差的目的,采用脉冲电源微弧氧化技术在硅酸钠电解液中在铝合金表面原位生长陶瓷膜.讨论氧化时间和电流密度对微弧氧化成膜厚度的影响.用数字式覆层测厚仪测量膜厚,扫描电子显微镜和X射线衍射分析膜层显微结构和相组成.结果表明:氧化时间越长,膜层越厚,但是30min以后不再增厚,电流密度越大,膜层越厚;陶瓷层表面有微孔产生,膜层与基体结合紧密,膜层由致密层、过渡层和疏松层组成,致密层厚且致密;氧化膜由γ-Al2O3、mullite莫来石(3Al2O3·2SiO2)和AlO相组成. 相似文献
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在原位锆溶胶和外加锆溶胶的磷酸盐电解液体系中,采用恒流模式对铝合金进行微弧氧化,通过分析氧化过程中电压和电解液参数的变化、氧化膜生长规律以及膜层表面形貌结构,研究锆溶胶对铝合金微弧氧化成膜过程的影响。结果表明,原位锆溶胶电解液氧化过程中pH值降低及电导率增加幅度较小,起弧电压、电解液温度较低,膜层生长速率较快,其厚度增长速率约为2.9μm/min。原位锆溶胶电解液制备的膜层表面呈多孔网状结构,内外膜层结合紧密,膜层较厚,可达85μm;外加锆溶胶电解液生成膜层表面有火山状沉积物,膜层疏松;微弧氧化膜主要由γ-Al2O3和t-ZrO2相组成。 相似文献
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在六偏磷酸钠电解液体系中添加草酸钛钾,利用微弧氧化技术,在铝合金表面制备有色陶瓷层。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)及光电子能谱仪(XPS)等,对不同草酸钛钾添加量制备的铝合金微弧氧化陶瓷层截面元素分布及物相组成进行测试并分析,进而探讨草酸钛钾在铝合金微弧氧化过程中的着色机制。结果表明:脉数500,脉宽80μs,电流密度5A/dm2,微弧氧化15min,草酸钛钾浓度6g/L时,陶瓷层外观质量较好,呈现蓝色;蓝色陶瓷层主要元素Al、O、Ti均匀分布于陶瓷层中,陶瓷层呈现蓝色主要是由Al2O3和TiO2共同作用的结果。 相似文献
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铝合金微弧氧化过程的特性研究及机理分析 总被引:16,自引:2,他引:16
在硅酸钠和氢氧化钾电解液中利用微弧氧化方法,在2024铝合金上制备了陶瓷膜层.测定了膜层的厚度,考察了微弧氧化过程中放电参数及形成陶瓷膜速率的规律,用X射线衍射仪(XRD)观察分析了其成分及组成,对陶瓷膜的摩擦性能进行了研究,推断了在电极上发生的反应,对陶瓷膜的成膜机理进行了分析.结果表明,随着时间的进行,阴阳极电压逐步升高,开始时膜厚增加较快,以后逐渐变慢,膜层厚度随时间变化不是简单的线性关系.陶瓷膜内含有γ-Al2O3和α-Al2O3相,膜层内外两相含量差异较大,主要是由于冷却速率不同的原因.陶瓷层表面经历了一个熔融、凝固和冷却的过程.陶瓷层由内向外可以分为过渡层、致密层和疏松层,陶瓷膜与基体的结合非常牢固,属于冶金结合.溶液内的Si、K元素和基体内的合金元素Cu在陶瓷膜中都有存在,阴极成分Fe也存在于陶瓷膜中,放电通道中在高的能量密度下生成了Si-Al-O三重复杂化合物. 相似文献
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目的改善铝合金的综合性能,尤其是耐磨性。方法采用微弧氧化技术,在铝合金表面制备具有自润滑效果的微弧氧化陶瓷膜层。通过分析电解参数(电流密度、频级和能级)对微弧氧化陶瓷膜耐磨性的影响,以及添加剂石墨对陶瓷膜厚度、表面形貌、相组成、耐磨性和耐蚀性的影响,探索可以提高铝合金表面微弧氧化陶瓷膜综合性能的电解参数,研究石墨在铝合金微弧氧化中所起的作用。结果确定了最佳电解参数。添加剂石墨不仅降低了铝合金陶瓷膜的摩擦系数,同时也提高了铝合金的耐蚀性。结论在铝合金微弧氧化中,石墨的自润滑特性和超高的导电性促进了铝合金在微弧氧化过程中成膜反应的进行,增加了陶瓷膜层的厚度,同时对试样表面有光滑、整平的作用。 相似文献
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铝合金表面微弧氧化工艺条件的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
为了研究了起弧电压、电流密度和氧化时间等参数对铝合金陶瓷膜性能的影响.以LY12铝合金为试验材料,采用MAO240/750微弧氧化设备、TT260测厚仪和AMARY-1000B扫描电子显微镜.结果表明:起弧电压随着Na2SiO3浓度的增加而降低;在相同氧化时间内,随着电流密度的增加,陶瓷膜的厚度也显著地增加,陶瓷膜的致密层的显微硬度也在逐渐地增加,但不是呈线性增加的;在相同电流密度条件下,随着时间的增加,膜层厚度和致密层硬度非线性增加,但致密层所占比例却减小.得出结论:电流密度应该选择在5~20A/dm2的范围内,微弧氧化时间控制在3h以内时比较适宜. 相似文献
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为了探索工艺参数对铝合金微弧氧化陶瓷层表面光泽度的影响规律,加速微弧氧化产品在光学领域的应用,采用MA0240/750电源设备对6061铝合金试样进行微弧氧化处理和用电导率仪测量溶液的电导率,分别利用WGG60-E4光泽度计量仪和JM6460扫描电子显微镜进行光泽度测量和表面形貌组织观察,研究了电流密度大小、溶液温度和试样尺寸等因素对铝合金微弧氧化陶瓷层光泽度的影响,研究结果表明:在微弧氧化前期阶段,陶瓷层的光泽度随着氧化时间的延长呈指数规律下降,并且电流密度和溶液温度都对陶瓷层的光泽度变化具有重要的影响,电流密度越大和溶液温度越高,光泽度随氧化时间延长而下降的速度越快,到了中后期,它们对光泽度大小无影响,光泽度大小都变为2.5且不随氧化时间而变化;试样尺寸大小对陶瓷层光泽度大小无影响,不同尺寸试样的光泽度随时间的延长按照η=519.8e^-1的指数规律下降。 相似文献
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2A12航空铝合金微弧氧化陶瓷层生长过程 总被引:2,自引:0,他引:2
研究2A12铝合金微弧氧化陶瓷层的生长规律,分析不同氧化时间陶瓷层的表面和截面形貌、成分和相组成。研究表明,陶瓷层总厚度接近于线性增长,向外生长速度比向基体内生长的速率稍大,而致密层占总膜层的比例先快速增加,其后略微下降。SEM结果显示,陶瓷层表面有大量呈火山口状的等离子放电痕迹,随氧化时间延长,厚度在整个表面上趋于相等,界面处氧化膜变得比较平坦。陶瓷层主要由α-Al2O3和γ-Al2O3相组成,随着氧化时间的延长,γ-Al2O3相在陶瓷层中的含量先增加后减小,而α-Al2O3相的含量随氧化时间的延长逐渐提高。 相似文献
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压铸铝合金中性溶液微弧氧化工艺研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用自行研制的MAO-100kW型微弧氧化设备,对ZL108压铸铝合金在中性溶液(pH=6.5~8.0)中的微弧氧化处理工艺进行研究。探讨了中性溶液对该合金微弧氧化过程的影响;处理电压对该合金微弧氧化陶瓷层生长特性以及陶瓷层表面粗糙度的影响规律。结果表明:采用中性溶液能够在ZL108压铸铝合金表面制备出致密光滑、硬度高的做弧氧化陶瓷层;在一定范围内,中性溶液中柠檬酸钠的浓度越高,其表面产生微区等离子体放电的起始电压越低:陶瓷层的厚度和表面粗糙度随着电压值的上升而增加。 相似文献
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Na2ZrF6-KoH中微弧氧化2024铝合金陶瓷膜 总被引:1,自引:0,他引:1
为了提高2024铝合金的表面硬度和耐磨损性能,采用微弧氧化法在Na2zrF6-KOH溶液中使2024铝合金表面形成氧化物陶瓷膜.分别用扫描电镜、电子探针及X射线衍射研究了陶瓷膜的组织形貌、元素分布和相组成.结果表明随氧化时间的增加,阴阳极电压逐渐增加,且阴极电压低于阳极电压;厚约20μm的膜可分为致密层与琉松层;相对致密均匀的膜层主要由α-Al2O3,γ-Al2O3和少量的非晶相物质组成电解液所含元素zr,进入到膜层中,表明电解液组元剧烈参与微弧氧化反应;陶瓷膜的平均硬度约为16 GPa,分布在距界面10μm附近. 相似文献
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LY12铝合金微弧氧化的尺寸变化规律 总被引:43,自引:1,他引:43
研究了LY12铝合金微弧氧化过程中工件尺寸变化规律,并初步分析了氧化膜生长机理。氧化膜经过一段时间的线性增长后,生长速度逐渐降低。氧化初始阶段向外生长为主,氧化膜达到一定厚度后,工件外部尺寸不再增加,而逐渐转向基体内部生长。氧化膜分为疏松层和致密层两层结构,致密层最终可占到总膜厚的75%以上,打磨掉表面疏松层后,工件基本上能保持原始尺寸。 相似文献