垂直磁记录的研究进展

一、引言垂直磁记录(Perpendiculor magnetic recording)是近几年才研究发展起来的一种新型磁记录方式,它得名于所记录的磁信号是垂直于磁记录介质表面。或者说,被记录信号所磁化的“小磁体”是处在磁介质厚度方向上。它跟目前常用     

垂直磁记录开发动向

以垂直磁记方式的实用化为目标。各家公司进行了使用各种垂直记录介质和垂直头的浮动磁盘及硬盘装置的试制研究。作为垂直介质。Co-Cr溅射膜已达到批量生产阶段;除溅射以外,也采用蒸镀、     

垂直磁记录介质的新进展

介绍了垂直磁记录介质近几年的一些新进展.由于磁记录技术的迅速发展,不断出现新的设计和革新,这里着重介绍了传统的垂直磁记录介质、倾斜垂直磁记录介质和热辅助垂直磁记录介质.对于传统的垂直磁记录介质,大致总结了在矫顽力、成核场、晶粒大小及其分布、尺寸分布、退耦合相互作用等方面的研究工作.其他两种介质的出现主要是为了解决超高密度磁记录所面临的非常尖锐的写磁头能力限制问题.对于倾斜介质,着重介绍了交换耦合复合介质的发展、进展和它的一些优点.对于热辅助垂直磁记录介质,主要介绍了它的工作原理.     

垂直磁记录介质的新进展

一.导言垂直磁记录作为高密度记录发展的一个方向,为人们所关注。1974年,日本东北大学的岩崎俊一等人,首先发现Co—Cr膜具有垂直各向异性。在这个基础上,1975年,他们指出介质垂直磁化的可能性,并试验用Co—Cr垂直各向异性膜和环形磁头进行记录和再生。1977年,他们正式提出垂直记录模式,引起各国有关学者的极大兴趣。从此,垂直磁记录成为热门的研究课题。     

垂直磁记录介质材料研究的新进展

一、引言日本学者岩崎俊一(S.Iwasaki)等人在1977年的国际应用磁学会议(Inter MAG)上首次发表了题为“高密度磁记录磁化模式的分析”文章,用具体实验数据说明这种新型磁记录方式,在线密度上远远地超过目前常用的纵向磁记录方式,展示出它有很大的发展前景。文献对81年前的研究概况及主要成果已作了综合性     

垂直磁记录再生特性的分析

通过对单极形磁头再生过程的理论分析，推导出再生电压波长响应的解析表达式，这个表达式适用于间隙量为零的普遍情况，实验结果证实了这个表达的正确性。探讨了提高记录密度和再生灵敏度的途径。     

垂直磁记录介质技术进展的新动态

一、前言自从1898年丹麦人V.Powlsem发明磁记录方式以来,经历了一个漫长的岁月。磁记录技术已发展成为世界领先的科学技术之一。记录波长由最初的100μm发展到蒸镀带的0.3～0.4μm。无论是磁记录装置或是磁记录介质都得到了迅速的发展。     

用电镀技术制备钴垂直磁记录膜

美国XeroX公司采用电镀技术,试制了纯钴的垂直磁记录介质。因钴磁化强度高,作成薄膜时,由于退磁场的影响,很难使磁化的方向原封不动地保持在与膜面垂直的方向上。因此,在钴里掺杂(合金化),削弱其磁化强度,利用溅射、电镀等工艺,试制垂直记录介质。Xerox公司采用PH值为6.4～6.6的钴硫酸盐电     

用涂复技术制备钡铁氧体垂直磁记录膜

东京芝浦电气综合研究所用钡铁氧体作磁性微粒子材料,采用涂复方式制备了垂直记录介质。六角钡铁氧体微粒子呈片状,片状微粒的直径比厚度大得多,并且易磁化轴垂直于片面。因此,如果把钡铁氧体粒子(用CoTi离子置换部分Fe离子)的片状磁     

磁记录物理

本文介绍目前应用广泛、产值很高的磁记录材料有关的物理问题。首先既述磁记录的应用和发展简况,接着讨论磁记录的一般原理,各种磁记录的特点及对材料性能及要求然后分别叙述磁记录介质材料及磁头材料,较为详细地讨论这方面的铁氧体材料的若干物理问题。     

磁记录资料索引

l、带育屏蔽的M尺磁头 电子通信学会MR 76一25一27,25一31(l扫阵!科才支』{l峰报所藏)2、记忆装置薄漠磁头的设计、计算与使用问题 3a,、·:,。宋zla只I)a八牡。:,,2 eK:11〕。,l,一x Ka D付n。10.eTP.23一44,1976。3、磁记录头用的晶体铁氧体(2) 电子陶瓷(印8卷秋一号“百玲77年飞、‘磁记录的低噪声芍膜传感器 IBM Tee卜n。Disel.Rull.,V〔)1.2O.No。2.79斗,1{,77.6、MoZ。单晶铁氧体的加工方法及磁场构造 电子通信学会MR76一25一27,灼76、巧一2‘4(中国科技情报所欣)6、烧结后的冷却速度对‘M:Zn铁氧体的影响 J。入丁a ter。ge…     

磁记录的一般概念

一、前言声音、图像、数值、文字及其他一切能转换成电信号的信息,都能记录在磁介质上,然后根据需要进行再现,这就是磁记录的功能。常用的磁记录器件有磁芯、磁盘、磁鼓和磁带。磁芯是外径O.3～O.6毫米的矩磁铁氧体环,按一定排列方式构成存贮器,容量可大于10～6位,存取周期可小于1微秒,取数时间可小于300毫微秒,主要用作计算机的内存贮器。磁盘主要也是记录数值量,用作计算机的外存贮器,一张盘的容量可达10～8位,取数时间是10～1毫秒量级。磁带既可记录数值量又可记录模拟量,记录数值量时主要也作计算机的外存贮器,一卷数值带的容量     

永磁直线同步电动机垂直运输系统的研究现状

介绍了永磁直线同步电动机垂直运输系统的原理及其在国内外的最新研究现状,指出今后应着重研究的内容和应用发展前景。     

连续薄膜型高密度磁记录介质的研究

在高密度(短波长)记录的场合,连续薄膜型磁记录介质的研究和应用愈来愈重要。本文介绍和讨论了薄膜磁记录介质的近期研究概况,着重介绍了溅射Co-γ-Fe_2O_3薄膜磁盘;电镀和化学镀Co-P和Co-Ni-P薄膜磁盘;真空蒸镀的Co-Ni合金薄膜磁带以及高密度记录介质的发展动向。     

磁记录介质的记录位密度

本文从理论上探讨磁记录介质在纵向记录时磁层上的表露磁场、退磁场和退磁因子;从而推导出磁记录介质记录位密度的计算公式;最后对影响记录位密度的因素进行了讨论;并计算了一些国内外磁带记录位密度的理论值。     

磁记录材料介质及器件的现状和发展趋势（一）

磁记录技术的发展方向是不断提高记录密度,改善记录特性。几十年来,人们经过不懈的努力已经取得了极大的进展。以数字磁记录为例,1954年IBM350磁盘机的记录密度为100bpi、20tpi(2000b/in~2),到1987～1988年,IBM3380K 磁盘机的记录密     

磁记录材料介质及器件的现状和发展趋势(二)

四,磁记录材料越来越高的记录密度要求在最短的记录波长下具有高 S/N 的记录介质。磁粉的选择对S/N的要求是一个主要因素。磁粉的矫顽力、磁化强度、粒度对S/N都有较大影响     

磁记录用磁阻头

概述了磁阻头的工作原理、结构性能以及发展状况。     

扫描电子显微镜在磁记录技术中的应用研究

本文研究了扫描电子显微镜在磁记录技术中的应用.根据对磁粉在磁层表面分散性的观察表明,磁粉在磁胶里分散程度的好坏与磁带或软磁盘的矩形比是一一对应的,当分散好时矩形比就高;对磁粉取向表面均匀性的观察表明,取向度高的磁带,其磁粉取向表面均匀性并不一定好;在涂层厚度的测量中,通过对几种测厚方法的比较,认为用扫描电镜测量最为准确。