国内外部分光亮镀镍添加剂检测报告

光亮镀镍层是防护装饰性镀层系列中的主要镀层，其中光亮镀镍添加剂品质的好坏和价格的高低，直接影响到企业的经济效益。９０年代国内从事表面技术的科研单位、高等院校和工厂瞄准国外先进水平，不断改进，提高质量，开发新一代的镀镍光亮剂。但究竟质量如何，与国外著...     

用CVS等方法研究电沉积镍的溶液中添加剂的整平作用和增光作用

在旋转圆盘电极上,用循环伏安溶出法(cvs)研究光亮镀镍电解液中几种添加剂的整平作用。在圆盘电极转速2500rpm 与静止时,分别测定循环伏安曲线上阳极溶出峰面积 Ar 与 As,作出整平能力与添加剂浓度的关系曲线。用整平扩散控制理论,探讨电沉积镍的阴极过程中某些添加剂的整平机理。还应用其他电化学方法研究添加剂增光作用、测定电沉积镍层的韧性、光亮度、电极表面镀前和镀后的微观不平深度,取得与电化学测量的一致结果。指出在现代光亮镀镍工艺中,使用有整平性能的光亮添加剂是使我国光亮镍的电沉积工艺达到世界先进水平的一种有效途径。现代的防护装饰光亮镀镍工艺,要求镀液有优良的整平作用和很快的出光速度;镀层有高度的光亮性和良好的韧性;各种添加剂性能稳定、消耗量少等特点。镀镍溶液较长时期使用的主要添加剂是1.4—丁炔二醇和香豆素。它们与糖精配合可获得光亮平     

硫酸盐镀镍体系的研究

硫酸盐镀镍是目前国内应用最广的镀镍体系。本文阐述了硫酸盐镀镍的机理，介绍了镀暗镍、光亮镀镍、珍珠镍、黑镍以及镍基合金的工艺配方及添加剂的发展历程。     

K81镀镍添加剂验证报告

广州有色金属研究院经过对公认的光亮、整平性较好的国内外镀镍光亮剂进行剖析,研究成功一种新型的镀镍添加剂——K81镀镍添加剂。为了检验这种添加剂在实际生产中的应用效果,广州红阳电镀厂进行了中、小型试验、测试,并以100公升镀槽作模拟工业生产应用。在近半年的试验中,在加入K81的镀槽中电镀的产品包括有金属家具、自行车零件、灯饰、打火机及钟外壳等零件。实践表明:K_(81)镀镍添加剂具有光亮、整平性好、工艺规范     

全光亮深孔镀镍工艺实践

围绕选择更合理的全光亮深孔镀镍添加剂,摸索出全光亮深孔镀镍工艺参数及镀前镀后处理工艺.实践证明正确选择全光亮深孔镀镍添加剂,可以有效地提高深孔镀镍能力.漂白工艺有助于提高深孔镀层的光亮性.     

光亮镀镍添加剂G84的应用

<正> 在现代电镀工业中,为了摆脱传统的繁重抛光工序和实现电镀工艺的连续自动化,往往采用光亮镀镍作中间镀层,使镀件经历镀铜-镍-铬或半亮镍-光亮镍-铬等几种镀层,达到防护、装饰性电镀光亮层的目的。因此,光亮镀镍层在现代电镍工业中,占有特殊的地位。为了获得满意的光亮整平性镀镍层,大都是采用在镍镀液中加少量添加剂,继而找出最佳的电镀工艺条件来达到听需的光亮镍层。文献或专利报道的那些添加剂,往     

高稳定型快速镀镍光亮剂研制成功

高稳定型快速镀镍光亮剂研制成功“ＹＤ高稳定型快速镀镍光亮剂”是上海仪表电镀厂开发成功的新型光亮镀镍添加剂。该添加剂具有出光速度快（一般３ｍｉｎ）、镀层光泽悦目、沉积速度快、低电流密度区性能佳、套铬方便等特点。其最大优点是镀液稳定，生产应用以来，未经过...     

BH—90光亮镀镍添加剂工艺研究与扩大试验报告

一、前言光亮镀镍是量大面广的镀种.晚近,光亮镀镍添加剂的发展趋势有二:一是高性能,即出光速度快,整平能力好,光亮电流密度宽广,套铬性能优异;二是光亮添加剂的组合化.众所周知,光亮镍添加剂常分为初级光亮剂,次级光亮剂(含主光剂和辅光剂)和润湿剂.若混和配成组合的光亮剂,则使用方便,维护简单.但由于各组分的消耗速度各异,为了长期使用而不致于发生比例失调,须经小试和长期工业扩试,才能探明最佳配比,其难度显而易见的.     

丁炔二醇衍生物在镀镍中的电化学性能的研究

<正> 一、引言随着材料工业的发展,各种镀层已不再是单独作为料料保护层,而是向着基体保护与表面装饰相结合的方向发展。在这方面,由于光亮镀镍工艺具有它一系列优点,各国都很重视镀镍添加剂的研制。镀镍添加剂的种类很多,     

脉冲镀镍

本文阐述一种由叠加电场原理设计的DJK-M脉冲电源用于镀镍的实验室试验结果.结果表明,脉冲电镀的沉积效率较直流电镀的高,采用DJK-M电源的叠加脉冲电镀更显著;添加剂含量相同的光亮镀镍液中,脉冲电镀所得镀层的光亮性好.结果还表明,脉冲电镀时的脉冲参数选择适当,可减少添加剂或光亮剂的用量而不影响镀层的光亮性.