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阳极氧化条件对多孔硅冷阴极场发射特性的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
研究了多孔硅的制备条件对多孔硅冷阴极场发射特性的影响,实验表明多孔硅的制备条件如电解电流密度、电解时间等多孔硅冷阴极的场发射特性有较大的影响。 相似文献
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多层间隔式结构多孔硅冷阴极电子发射的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
在多孔硅(PS)表面电子发射冷阴极中采用间隔式多层结构。由此,器件电子发射效率显著提高,在32.5V偏压下,发射效率达13.5%,发射电流密度29μA/cm^2;工作电流和发射电流的波动性明显减小;器件稳定性得到提高。 相似文献
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以开发空气环境中低电压离子源和光电器件为目的,采取光照辅助电化学阳极腐蚀法结合水热铁钝化法制备了一种新型多孔硅.研究了此多孔硅在空气环境中的电子发射性能和光电响应特性.发现这种多孔硅在空气环境中有2-3 min 较稳定的电子发射性能;且具有黑暗下即有开路电压(-120 mV)和光照下有反向电压(-30 mV)的光电响应特性.结果表明,这种新型多孔硅具有空气环境下低电压离子源和光电响应器件的开发潜力. 相似文献
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多孔硅表面冷电子发射的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文研究了多孔硅二极管表面发射电子的特性。PS二极管由薄金膜、PS层、n型Si衬底和欧姆接触铝背电极组成。在真空中,当在金属电极和铝背电极间加适当高的正电压且在收集极板和金电极间存在高外电场时,伴随着可见光,电子均匀地穿过金膜出来。电子发射的机理基于PS层外表面附近的强场效应。 相似文献
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目前真空微电子使用的场致发射电子源主要是在硅衬底上采用腐蚀法和生长法得到的场发射阵列。这种方法在制造上难度较大,也很复杂。本文介绍用阳极化的方法制造多孔硅场发射阵列,并通过实验测定,用此法制造的场发射尖端阵列的发射曲此,很好地符合Fowler-Nordheim公式。 相似文献
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对采用阳极氧化法及阴极还原表面处理技术制备的性能稳定的纳米多孔硅,用原子力显微镜(AFM)表征了其微观结构,多孔硅颗粒粒径在30 nm左右.室温条件下测试了多孔硅场电子发射的特性,结果表明,多孔硅具有很好的场致发光性能,在5 V/μm的电场下就可以产生场发射电流.多孔硅的开启电压在1 000 V左右,发射电流随着电压的增大而不断增大,发射电压在2 000 V以上.Abstract: Nanoscale porous silicon (PS) was prepared by anodic oxidation, cathode reduction and surface treatment technique. The porous silicon particles with the average diameter of about 30 nm were obtained by characterizing their microstructure with atomic force microscope (AFM). Electron field emission characteristics of porous silicon were investigated at room temperature. The resuhs demonstrate that porous silicon has favorable electroluminescence properties, and the field emission current can be generated only under the electric field of 5 V/ μm. And the turn - on voltage is about 1 000 V. With the increase of the offered voltage, the emission current is enhanced and the emission voltage is over 2 000 V. 相似文献
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Jung-Hyeon Park Hyung-Il Lee Heung-Sik Tae Jeung-Soo Huh Jung-Hee Lee 《Electron Devices, IEEE Transactions on》1997,44(6):1018-1021
Lateral field emission diodes were fabricated by using separation by implantation of oxygen (SIMOX) wafer and their current-voltage characteristics (I-V) were analyzed. Applying conventional photolithography and local oxidation of silicon (LOGOS) process, we fabricated single-crystalline lateral silicon field emitters with very sharp cathode and anode tips and very short cathode to anode spacing ranging from 0.3 to 0.8 μm as well. Two different types of tips, tapered and wedge-shaped emitters, were typically formed according to oxidation time. The turn-on voltages for both types of diodes were as low as 22~25 V and the emission currents were as high as 6 μA/tip at voltages of 35~38 V. From the Fowler-Nordheim (FN) equation, field emitting area (A) and field enhancement factor (β) for both types of diodes were estimated to explain the low turn-on voltages and the high emission currents 相似文献
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以高温气相氧化法制备的四针状纳米ZnO作为场致发射材料,采用浆料印刷和烧结的方法将其制备成场致发射阴极基板.将阴极板和荧光屏封装成5×25.4 mm二极结构的场致发射显示器,进行了场致发射特性实验,实现了稳定的场致电子发射及简单字符显示.该二极结构ZnO-FED的开启场强为1.5 V/μm,当场强为5.3 V/μm时,发射电流密度可达5.11 μA/cm2.通过实验测定场增强因子约为6 772,表现出了好的场致电子发射性能.实验结果表明了四针状纳米ZnO纳米材料是一种很好的场致发射阴极材料. 相似文献
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新型三极碳纳米管场发射器件的研究 总被引:5,自引:4,他引:5
采用催化剂高温分解方法制备了碳纳米管薄膜阴极。利用优质云母板作为绝缘材料.结合简单的丝网印刷工艺制作了新型的栅极结构。详细地给出了新型三极碳纳米管场发射器件的制作工艺.对场致发射的机理进行了初步的讨论。采用这种新型的栅极结构.不仅极大地降低了总体器件成本.同时避免了碳纳米管薄膜阴极的损伤.提高了器件的制作成功率。所制作的三极结构平板场发射器件具有良好的场致发射特性和栅极控制能力。 相似文献
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本文采用SiO2作锥尖的塑模,再利用塑模制备出场发射金属尖阴极阵列,并给出SEM金属尖照片,分析了工艺因素对金属尖的影响,同时提出了真空微电子二极管和三极管的设想。 相似文献