CF4／CH4等离子体处理聚丙烯的燃烧性能和热稳定性

CF4／CH4等离子体对聚丙烯进行表面阻燃改性，在整个CF4体积分数范围内可分三个区域．区域1(0％～83．3％)内，随着CF4体积分数的增加，燃烧速率逐渐增加．区域2(83．3％～96．2％)内，随着CF4体积分数的增加，燃烧速率反而下降．区域3(96．2％～100％)内，随着CF4体积分数的增加，燃烧速率又反而升高．先经CH4等离子体预处理，在样品表面先沉积一层高度交联的聚合碳膜作为阻挡层，在一定程度上提高了聚合物薄膜的阻燃性，由实验证实了交联作用对等离子体改性聚合膜的表面所起的阻燃作用．     

等离子体改性聚合物表面动力学的静态接触角法研究

聚合物薄膜经 CF4/ CH4等离子体处理后 ,在浸水过程中接触角降低 ,表明含氟基团从表面转移到体相中去 .在浸水最初阶段 ,lgθ～lgt(或 lgθ～t)呈线性关系 ,由直线的斜率可以计算出表面动力学衰减常数 .并且 ,表面动力学衰减常数随着 CF4质量分数的增加而增大 .     

CF_4- CH_4 等离子体对 PET 的表面改性及反应动力学

利用 Ｘ射线光电子能谱仪和接触角方法研究表征了 Ｃ Ｆ４ Ｃ Ｈ４ 混合气体 Ｒ Ｆ等离子体改性 Ｐ Ｅ Ｔ的表面特征根据沉积速率可将整个浓度范围分为三个区域,各区域内等离子体作用机制不同区域１（０～８３．３％ ）为等离子体聚合区域;区域２（８３．３～９６．２％ ）内聚合起主要作用,刻蚀起次要作用,区域３（９６．２～１００％ ）内刻蚀和氟化接枝起主要作用借鉴表面吸附反应动力学模型,推导出等离子体表面类吸附反应动力学方程式,理论计算的沉积速率与实验值有很好的相关性     

CF4—CH4等离子体对PET的表面改性及反应动力学

利用Ｘ射线光电子能谱仪和接触角方法研究表征了ＣＦ４－ＣＨ４混合气体ＲＦ等离子体改性ＰＥＴ的表面特征。根据沉积速率可将整个浓度范围分为三个区域,各区域内等离子体作用机制不同。区域１（０～８３．３％）为等离子体聚合区域;区域２（８３．３～９６．２％）内聚合起主要作用,刻蚀起次要作用,区域３（９６．２～１００％）内刻蚀和氧化接枝起主要作用。借鉴表面吸附反应动力学模型,推导出等离子体表面类吸附反应动力学方     

等离子体改性聚合表同动力学的静态接触角法研究

聚合物薄膜经CF4／CH4等离子体处理后，在浸水过程中接触角降低，表明含氟基团从表面转移到体相中去，在浸不最初阶段，lgo～lgt（或lgo～t）呈线性关系，由直线的斜率可以计算出表面动力学衰减常数。并且，表面动力学衰减常数随着CF4质量分数的增加而增大。     

MPCVD制备金刚石中的光谱分析

在微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）多晶金刚石的过程中,利用发射光谱法（OES）诊断等离子体中活性基团的分布情况,研究了沉积气压、CH4体积分数以及气体流量对等离子体中基团谱峰强度的影响,讨论了相关基团与金刚石沉积速率和质量之间的关系. 结果表明:在微波功率800 W下,气压从12 kPa增加到16 kPa,等离子体中各基团浓度均显著增加,有利于提高金刚石的沉积速率. 气压16 kPa、功率800 W时,CH4体积分数从2%增加到7%,C2基团峰值强度从12 600 cps 增加到24 800 cps,而氢原子峰值强度从60 000 cps 变为61 000 cps,导致C2基团与氢原子浓度比值从0.21增加到0.40,金刚石的沉积速率虽然提高,但沉积质量下降. 当沉积气压和CH4体积分数分别从16 kPa、4%提高到18 kPa、6%时,C2基团峰值强度从28 000 cps 增加到37 000 cps,同时保持了C2基团与氢原子浓度比值约0.28不变,既保证了金刚石沉积质量又显著提高了金刚石的沉积速率. 等离子体体系中基团浓度基本不受气体流量变化的影响.     

射频等离子体聚合沉积六甲基二硅氧烷

为研究新颖环保的材料表面改性技术,通过射频等离子体聚合方法聚合沉积六甲基二硅氧烷(HMDSO)薄膜,并使用发射光谱、红外光谱、扫描电镜、原子力显微镜等测试方法,研究了HMDSO聚合膜的化学结构和物理形貌。实验结果表明,等离子体放电空间内的活性粒子对聚合膜的组成有直接影响。HMDSO等离子体聚合膜中含有Si—O、—CH3、—OH、C O、C—O等官能团,其表面形貌为微米颗粒堆积膜,是一种新颖的聚合物膜。     

射频等离子体聚合沉积六甲基二硅氧烷

为研究新颖环保的材料表面改性技术,通过射频等离子体聚合方法聚合沉积六甲基二硅氧烷(HMDSO)薄膜,并使用发射光谱、红外光谱、扫描电镜、原子力显微镜等测试方法,研究了HMDSO聚合膜的化学结构和物理形貌.实验结果表明,等离子体放电空间内的活性粒子对聚合膜的组成有直接影响.HMDSO等离子体聚合膜中含有Si-O、-CH3、-OH、CO、C-O等官能团,其表面形貌为微米颗粒堆积膜,是一种新颖的聚合物膜.     

Ar/CH_4流量比对a-C∶H薄膜沉积速率及性能的影响

为研究气体流量比对非平衡磁控溅射沉积含氢类金刚石薄膜（Diamond-Like Carbon,DLC）沉积速率及性能的影响,在不同Ar/CH4流量比条件下将a-C∶H沉积在单晶硅基底,采用傅里叶红外光谱、椭偏仪、表面轮廓仪对薄膜的沉积速率、光学特性及表面粗糙度进行研究.实验结果表明：引入甲烷气体后,非平衡磁控溅射沉积a-C∶H薄膜沉积速率大幅度提高;在3～5μm波段硅基底上镀制a-C∶H膜具有良好的红外增透特性,薄膜峰值透射率明显受到Ar/CH4流量比的影响,Ar/CH4流量比1∶3时,制备的a-C∶H峰值透过率可达69.24%;a-C∶H薄膜的折射率和消光系数随着CH4流量的增加而增大;a-C薄膜的粗糙度要优于a-C∶H薄膜,a-C∶H薄膜的粗糙度随厚度的增加而变大.     

PDMAEMA改性PEBA/PSF复合膜的制备及其渗透汽化分离性能

为了改进聚醚嵌段酰胺(PEBA)/聚砜(PSF)膜的透水性,采用共混聚甲基丙烯酸-N,N-二甲氨基乙酯(PDMAEMA)的方法,通过季胺化交联反应在膜内固定水溶性的PDMAEMA,使其在使用中不至于溶出,制备出PDMAEMA-PEBA/PSF复合膜,并用于乙二醇脱水,考察了不同共混含量对膜渗透汽化脱水性能的影响,通过析因设计探究了交联条件(交联剂种类、交联剂浓度、交联时间)对膜渗透选择性能的影响,遴选出能够使共混膜具有良好渗透选择性能的交联条件,并对改性后膜的表面性质进行了研究.结果表明:当聚合物质量浓度为10 g/L、PDMAEMA质量分数为15%~25%时,共混膜与PEBA/PSF膜相比,水通量提高了约80%,水/乙二醇分离因子提高了约40%;共混改性后膜表面亲水性增加,平均粗糙度增加了约120%,纯水接触角下降了约7°.     

又一个围长为4的4正则的4色图

1970年,Grunbaum提出如下一个猜想:对于任意整数m>1,n>2均存在一个围长至少是n的m正则的m色图.对于n=3,该猜想是平凡的,而对于n>3,m=2和3,其正确性可以从笼的存在性推出.除此之外,目前仅有两个这样的图是已知的,即Chvatal图和Grunbaum图,在本文中,又构造了一个这样的图.     

p阶围长为4的4正则的4色图

1970年,Gruenbaum 提出如下猜想“对于所有的整数 m>1和 n>2,均存在围长至少为 n 的 m 正则的 m 色图.”迄今为止,对于 n,m≥4,仅知道3个小阶数的这类图.本文证明了,对于任意整数 p≥20,均存在一个 p 阶围长为4的4正则的4色图.     

关于丢番图方程x4-4x2y2+y4=193

证明了丢番图方程ｘ＾４－４ｘ＾２ｙ＾２＋ｙ＾４＝１９３仅有正整数解（ｘ,ｙ）＝（１,４）和（４,１）,进而又推得丢番图方程ｘ＾４－１０ｘ＾２ｙ＾２＋ｙ＾４＝－１５４４仅有正整数解（ｘ,ｙ）＝（３,５）和（５,３）。     

高纯度4-羟基-4'-氯二苯甲酮的合成

对羟基苯甲酸用氯化亚砜酰氯化,再与氯苯进行弗－克反应,并经提纯制备高纯度４－羟基－４’－氯二苯甲酮,该工艺具有操作简便、原料成本低及产品质量优异之特点。产品总收率为６０％－６８％,ＨＰＯＬＣ纯度大于９９％。     

4-羟基-4′-联苯腈的合成

在三氯化铝催化下 ,以 4-羟基联苯为原料 ,与三氯乙酰氯进行酰基化反应合成了 4-羟基 - 4′-三氯乙酰基联苯 ,经氨解反应得到 4-羟基 - 4′-联苯甲酰胺 ,进而用氯化亚砜脱水制得 4-羟基 - 4′-联苯腈 ,总收率达 5 6% ,纯度≥ 99%。     

SrBi4-xLaxTi4O15陶瓷材料铁电、介电性能研究

按x=0.00,0.10,0.25,0.50,0.75和1.00,制备SrBi4-xLaxTi4O15的陶瓷样品.用X射线衍射对其微结构进行分析,并测量了铁电、介电性能.结果表明,La掺杂未改变SrBi4Ti4O15的晶体结构;随掺杂量的增加,样品的矫顽场(Ec)减小,剩余极化(2Pr)先增大,后减小;在x=0.25时,2Pr达到极大值24.2μC@cm-2,这时Ec=60.8 kV@cm-1适量La掺杂可提高SrBi4Ti4O15的铁电性能.SrBi4-xLaxTi4O15的相变温度Tc随x的增加逐渐降低,x=0.25时,Tc=451℃.     

正规模态逻辑S4的表推演系统TS4

讨论正规模态逻辑Ｓ４的自动定理证明理论，给出了一个关于正规模态逻辑Ｓ４的表推演（Ｔａｂｌｅａｕ）系统ＴＳ４，证明了该系统的可靠性与完备性。     

硫酸铵产品着色原因分析

针对硫铵产品外观颜色的不稳定进行了分析,并提出一些生产操作过程中的改进和建议。     

关于丢番图方程x4-py4=z2

利用初等方法给出了丢番图方程x4-py4=z2,（x,y）=1,2｜y当p=Q2＋1,p为奇素数时的全部正整数解,从而拓展了Mordell关于x4-py4=z2的结果。     

4TPS-PS并联四自由度电动平台的受力特性研究

针对稳定跟踪系统需求,建立4TPS-PS并联四自由度平台运动学模型,推导雅克比矩阵,对平台运动情况下的受力进行分析,推导出平台输出力与各作动缸驱动力之间的关系式,与没有从动支链的3-RPS并联机构的力学特性进行比较,分析4TPS-PS并联机构的受力特点,表明4TPS-PS结构是并联型稳定跟踪平台的理想选择.对实验室样机在工作空间内受力情况进行仿真计算,分析从动支链受力与平台结构参数的关系,为优化设计和运动控制提供依据.