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本文简要介绍星用红外探测器的一些封装形式,重点阐述了红外探测器杜瓦组件封装的一些关键技术.这些技术的研究和发展,对提高红外探测器杜瓦组件封装技术水平和推进红外探测器尤其是红外焦平面的应用是至关重要的. 相似文献
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本文通过分析,认为采用TO型封装的半导体器件管腿断裂的主要原因是柯伐材料本身存在缺陷、人为附加损伤、表面保护层不良等引起的.用应力腐蚀理论解释了断裂过程,并分析了健合点脱键失效原理.通过实验和分析,找到了高可靠管座的电镀方法,提出了提高TO型管座封装可靠性的改进意见. 相似文献
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InGaAs/InP单行载流子光电二极管(UTC-PD)是近年来研发的一种新型光电器件.UTC-PD是一种由p型中性光吸收层和n型宽带隙集结层构成,并且只用电子作为有源载流子的光电二极管.详细地介绍了UTC-PD的工作原理、结构设计、制作工艺及典型应用. 相似文献
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Effect of Dislocations on VLWIR HgCdTe Photodiodes 总被引:5,自引:0,他引:5
T. Parodos E.A. Fitzgerald A. Caster S. Tobin J. Marciniec J. Welsch A. Hairston P. Lamarre J. Riendeau B. Woodward S. Hu M. Reine P. Lovecchio 《Journal of Electronic Materials》2007,36(8):1068-1076
The effects of dislocations on very-long-wavelength infrared (VLWIR) HgCdTe photodiodes (cutoff wavelength >14 μm at 40 K) have been determined experimentally and analyzed. The photodiodes are in the back-illuminated configuration, fabricated from HgCdTe p-on-n double-layer heterostructure (DLHJ) films grown at BAE Systems by liquid phase epitaxy (LPE) onto lattice-matched (111) CdZnTe substrates. Arrays were hybridized to silicon ROICs to form focal plane arrays (FPAs). After characterization for dark current and response, the arrays were dehybridized and stripped of their metals and passivation layers. Dislocations were revealed using a Hähnert and Schenk (H&;S) etch. Pixel traceability was maintained throughout the analysis, permitting one-to-one correlation between photodiode performance and dislocation density measured within that photodiode. We found that response and dark current were correlated to etch pit density (EPD), which we assumed to be equal to dislocation density. Our results support earlier dislocation studies on larger-bandgap HgCdTe, which showed response was only weakly impacted by EPD, while dark current was strongly affected by EPD. Measured EPD values ranged from low 105 to low 107 cm?2. Potential causes for this range in EPD are discussed. 相似文献
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基于标准CMOS工艺,可实现单结深光电二极管传感器(p+/n-well、n-well/p-sub和n+/p-sub)和双结深光电二极管传感器(p+/n-well/p-sub)。建立了双结深光电二极管传感器的光电响应数学模型,仿真了四种结构的光敏响应。采用上华0.5μm CMOS工艺实现了p+/nwell和p+/n-well/p-sub两种结构,传感面积为100μm×100μm。p+/n-well型结构在400nm波长,60lux光强下光电流为1.55nA,暗电流为13pA,p+/n-well/p-sub型结构在同等条件下光电流为2.15nA,暗电流为11pA。测试表明,设计的双结深光电传感器具有更高的灵敏度,可用于微弱的生物荧光信号检测。 相似文献
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通过数值模拟研究了各层参数对极化调控的背入射异质结分离吸收倍增层型AlGaN基雪崩光电二极管(APDs)性能的影响,并详细分析相关物理机制。计算结果表明:参数的优化有利于降低APDs的雪崩击穿电压,提高倍增因子。特别是对于P-GaN层AlGaN雪崩光电二极管,倍增因子增加可超过300%,这是由于该雪崩光电二极管的GaN/Al0.4Ga0.6N异质界面的强极化电荷调节了倍增层、中间插入层、吸收层的电场分布,增加了载流子的注入和倍增效率,同时还由于参数优化减小了倍增时的暗电流。 相似文献
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提出了一种作为无源射频(RFID)识别标签电源的光电二极管。此方案采用光电转换获取能量的方式替代传统电磁辐射获得能量的方式,克服了传统方案中RFID读写器辐射强且RFID Tag抗干扰能力差的缺点。光电二极管采用标准UMC 0.18μm CMOS工艺制作在RFID Tag上。研究了光电二极管的光伏及伏安特性,并给出了实验结果;使用低压测试电路对制作完毕的PD进行了功率输出性能实验,实验结果证明PD满足设计指标和后续电路的使用要求;对实验数据进行系统建模和参数估计,建立了可以应用于Cadence仿真环境的光电二极管模型;最后,利用仿真模型进行光标签的设计,流片测试结果证明了光标签的可行性。 相似文献
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