放射性同位素XRF技术中一种与“特散比”法等效的新方法

在一定的条件下,待测元素特征X射线和康普顿散射强度比值,与待测元素特征X射线强度和带吸收滤片所测量的强度比值之间有着简单的双曲函数关系。利用这一函数关系,很容易在单道携带式放射性同位素X射线荧光分析仪上实现“特散比”法改善基体效应。用这种方法所得到的分析结果和用“特散比”法得到的分析结果,二者吻合很好,而且不需要增加任何设备,节省了测量时间和成本。已经测量了几种类型的锡矿样品和某些铜矿样品。     

X射线荧光分析的α系数法校正

X射线荧光分析中对厚靶基体的吸收增强效应必需进行校正。α系数法是应用得很广泛的一种校正方法。本文在Lachance-Traill数学模型的基础上增加了待测元素对其自身的特征X射线荧光强度影响的校正项。 假定某样品的基体中含有N种元素,它们的含量及X射线的相对强度分别为C_1,C_2……C_N及R_1,R_2……R_N,其中第i种元素的含量可根据下列半经验公式计算     

地质样品微量稀土元素的同位素源激发X射线分析

在样品厚度足够薄的情况下,X荧光强度与样品中待测元素的重量浓度成正比。若将标准与样品在相同条件下激发测量,则有: G_x=C_s·N_x/N_s式中,O_x、O_s分别为样品和标准中待测元素量;N_x、N_s分别为样品和标准中待测元素特征X射线峰面积,我们由不同浓度单元素标准的测量结果,用最小二乘法求出线性标定方程。同时,我们还利用混合标准样品,     

EDXRF分析装置的角度布置对荧光计数率影响的蒙特卡罗模拟

在EDXRF分析中,X射线荧光计数率与待测元素种类和含量有密切关系.但X射线荧光计数率又与很多因素有关,其中X光管、样品和探测器的几何位置关系是一个重要的影响因素.为了设计较好计数率的能量色散型X荧光分析仪,采用MCNP4C程序,建立与实际相符的几何模型,模拟了不同入射角和出射角时的X荧光计数率,得到了X光管与样品、探...     

《X射线辐射测量方法在金属矿床普查与勘探中的应用》

《X射线辐射测量方法在金属矿床普查与勘探中的应用》一书1985年由苏联列宁格勒出版社出版,约20万字。该方法是通过测量样品被放射性同位素源激发后待测元素辐射出的特征X射线(即X射线荧光)确定其含量的。我国通常称为放射性同位素X射线荧光方法。它的显著特点是仪器轻便、测量效率高、     

能量色散型X荧光分析仪光管、样品、探测器距离的蒙特卡罗优化

在EDXRF分析中,X射线荧光计数率与待测元素有密切关系.由理论可知,在能量色散型X荧光分析仪设计时,优化X光管、样品和探测器的相对几何位置对荧光计数率的改善有很大的帮助.在前期模拟的最佳角度基础上,采用MCNP程序,建立几何模型,模拟了X光管、样品和探测器之间不同距离时的X荧光计数率,得到了这三者之间的最佳距离.     

X射线荧光分析中原级谱分布的计算

X射线荧光分析中,X射线管产生的原级谱的分布对荧光分析的影响很大。尤其是在元素间吸收增强效应的校正过程中,基本参数法要求准确获得X射线原级谱的强度分布。使用MCNP程序模拟不同加速电压、不同靶材料、不同铍窗厚度等条件下电子打靶后的X射线能谱分布,为X射线荧光分析仪研制过程优化X光管靶材、管压等提供依据,实现高精度的X射线荧光分析。     

准单能直流硬X射线装置的研制

以直流X射线光机为基础,利用元素具有特征X射线和吸收边的原理,通过设置荧光靶、滤光片,滤除不同元素K层特征线中的K_β线,研制了准单能直流硬X射线装置。该装置由直流X光机、荧光靶和滤光片组成,可产生十多种准单能X射线,X射线谱纯度大于80%,能峰宽小于3 ke V。各能点转换便利,强度可调,束流稳定性小于0.5%。该装置可部分代替放射源,用于测厚、探测器灵敏度标定、透过率标定等。     

用于便携式X射线荧光仪的基体效应散射校正模型

本文论证了样品对入射射线的质量吸收系数(μ_O)与康普顿散射强度之倒数呈线性关系,提出并验证了样品对待测元素特征线的质量吸收系数(μ_K)与质量吸收系数(μ_O)以及待测元素含量之间呈线性多项式关系。并且给出了这些关系存在的条件。提出了一种适用于低能量分辨率的携带式X荧光仪的散射校正模型。并成功用于锡矿和某些铜矿分析中。     

X射线荧光分析原级能谱分布的MCNP模拟

X射线荧光分析中,入射激发能谱是影响元素特征荧光强度大小的直接因素。本文使用MCNP程序模拟不同条件下电子打靶后的X射线能谱分布,计算结果能够反映不同条件下特征谱线和连续谱线的特点。模拟能谱数据可用于X射线荧光分析的数据处理。