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离子束辅助沉积技术及其进展 总被引:9,自引:0,他引:9
本文介绍了离子束辅助沉积技术的基本原理,主要工作特点,设备及主要影响因素,综 利用该技术在制备各种新膜层方面研究的新进展,并指出该技术的不足及未来发展方向。 相似文献
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本文介绍了离子束辅助沉积技术的基本原理,主要工作特点,设备及主要影响因素。综述了利用该技术在制备各种新型膜层方面研究的新进展。并指出该技术的不足及未来发展方向。 相似文献
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离子束辅助沉积MoS2复合膜的XPS和ESR特性分析 总被引:2,自引:0,他引:2
通过IBAD技术制备了MoS2 Ag(Cu)复合膜 ,并利用XPS和ESR考察了复合膜的氧化情况。发现在RH为 6 0 %的大气环境下 ,Cu的掺入加速了MoS2 的氧化 ,相反Ag的加入却使MoS2 的氧化受到抑制 ;XPS发现MoS2 Cu复合膜中存在Mo6 ,ESR却并没发现中间态Mo5 ;而XPS没有检测到MoS2 Ag膜中有Mo6 ,ESR却发现Mo5 。这说明Mo5 受化学环境影响较大 相似文献
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离子束辅助沉积制备TaN薄膜的X射线衍射分析 总被引:4,自引:0,他引:4
利用离子束辅助沉积技术制备TaN薄膜,并对其进行X射线衍射分析,掠入射的X射线衍射分析得出:离子束辅助沉积制备的TaN薄膜胆面心立方结构,晶格常数α为0.4405nm。根据X射线衍射分析,用屈服强度表征有TaN薄膜的显微硬度为16-20GPa,与文献上报道的显微硬度值接近。 相似文献
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低能Ar+离子束辅助沉积择优取向Pt(111)膜 总被引:3,自引:0,他引:3
采用低能Ar+离子束辅助沉积方法,在Mo/Si(100)基底上沉积Pt膜,离子/原子到达比分别为0.1、0.2、0.3.若Ar+离子的入射角为0°,XRD谱分析表明,沉积的Pt膜均呈(111)和(200)混合晶向;当Ar+离子的入射角为45°,沉积的Pt膜均呈很强的(111)择优取向.因此若合理控制Ar+离子束的入射角,可在Mo/Si(100)衬底上制备出具有显著择优取向的Pt(111)薄膜.本文采用Monte Carlo方法模拟低能Ar+离子注入 Pt单晶所引起的原子级联碰撞过程,得出Ar+离子入射单晶铂(200)晶面时,Ar+离子的溅射率与入射角的关系,对Pt膜择优取向的机理作了初步的探讨和分析. 相似文献
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离子束辅助沉积金红石型氧化钛薄膜的择优取向控制 总被引:5,自引:0,他引:5
用惰性气体离子束辅助沉积技术,合成了金红石型氧化钛薄膜。薄膜生长过程中,离子束以45°角轰击薄膜。通过增加离子原子到达比γ,实现了金石型氧化钛薄膜从择优取向向择优取向的转变。 相似文献
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用离子束辅助沉积合成了TiN薄膜,背散射、X射线衍射和透射电镜实验的结果表明,在本实验条件下,薄膜Ti/N比接近于TiN的化学计量比,和氮离子束流密度无关。薄膜存在<100>择优取向,在一定条件下,可以形成只有(100)取向的TiN薄膜。 相似文献
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用实验的方法研究了PVD,IBAD和IBAD-PVD复合等不同方法在硅基底上镀制Cu膜的结构特点及真空退火时的结构变化。利用XRD,RBS,SEM等分析手段对比研究它们的结构变化特点,发现IBADCu(20nm)层+PVDCu膜(350nm)的复合薄膜样品在退火前无新相生成,而退火后形成ε相,且不同于通常Cu-Si退火系统中首先生成γ相和η”相,然后再由γ和η”反应生成ε相的相序。分析认为在Cu-Si界面退火反应系统中,ε相的形核是得到稳定相结构的关键。 相似文献
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离子束辅助沉积制备TiO_2-Nb_2O_5氧敏薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
采用离子束辅助沉积方法在Al2O3陶瓷衬底上制备了TiO2Nb2O5氧敏薄膜。考察了薄膜组分比及退火温度对薄膜氧敏特性和结构的影响。电阻氧分压特性测试结果表明,纯Nb2O5薄膜的氧敏特性优于纯TiO2薄膜;掺入少量的Ti可使Nb2O5薄膜的氧敏特性提高,以5mol%TiO2掺杂的Nb2O5薄膜最佳;过量掺杂则使Nb2O5薄膜的氧敏特性明显变差。在5mol%TiO2Nb2O5薄膜中再掺入少量的Pt(03%05%)可使其氧敏特性更好,而且其响应时间大大缩短。X射线衍射谱(XRD)和X射线光电子谱(XPS)分析表明,在退火后的TiO2Nb2O5薄膜中Nb2O5为单斜(Mform)结晶相,而掺杂的Ti以非晶的TiO2形式存在,即使在高达34mol%TiO2Nb2O5薄膜中也不例外。纯TiO2膜为金红石结构。不同退火温度(90011000C)对薄膜的氧敏特性和结构无明显影响。 相似文献
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铜薄膜与Al_2O_3陶瓷界面结合力的IBAD过渡层增强 总被引:1,自引:0,他引:1
利用离子束辅助淀积(IBAD)方法在Al_2O_3陶瓷基片上镀制过渡金属层,然后在此过渡层上进一步用电子束蒸发镀制铜导电薄膜。这种复合方法镀制的铜膜在具有低电阻率的同时,界面附着力有大幅度增加。在本文实验条件下,有IBAD铜或钛过渡层薄膜的附着力比没有过渡层的薄膜附着力分别增加了5倍和8倍。 相似文献
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Ti-Ta-O复合薄膜的制备及抗腐蚀性 总被引:1,自引:0,他引:1
采用离子束增强沉积法在NiTi基体上合成了具有不同组分比的Ti-Ta-O薄膜。研究了组分比对薄膜的相结构、力学性能和抗模拟体液腐蚀性的影响。SEM,AFM和XRD分析表明,所有薄膜均由纳米粒子堆积而成,膜层连续光滑,纯Ti-O膜为金红石结构,而Ti-Ta-O膜为非晶态,划痕实验、显微硬度分析和电化学测试研究表明,加入Ta后,膜与基体间的结合强度、韧性和抗腐蚀性增强,显微硬度下降。Ta含量为36%(原子分数)的膜使NiTi的抗蚀性显著提高。 相似文献