蒸发镀膜基片工装改进与镀膜均匀性研究

红外滤光片,尤其是中长波红外窄带滤光片等光谱指标要求较高的红外光学薄膜,膜层厚度能达到几十微米,因而对膜料的需求非常大.当镀膜真空室较大时,一次填料不能满足膜料用量需求,通常采用减小蒸发距离的方式提高膜料的利用率,但同时会使膜厚均匀性变差,光谱性能变差.通过镀膜理论分析,在满足产品镀膜均匀性的前提下,设计了一套可自由调...     

小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究

本文从圆平面靶磁控溅射的原理出发,针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算,目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素。模拟计算的结果表明:基片偏心自转时,靶基距和偏心距对膜厚分布均有影响。偏心距一定时,随着靶基距的增大,薄膜厚度变小,膜厚均匀性有提高的趋势;靶基距一定时,随着偏心距的增大,膜厚均匀性先变好后变差。当基片自转复合公转时,随着转速比的增大,膜厚均匀性逐渐变好,转速比增大到一定程度后,它对膜厚均匀性的影响逐渐变小。圆形平面靶的刻蚀环范围的变化对薄膜的均匀性有一定的影响。这些理论为小圆平面磁控溅射系统的设计和实际应用提供了理论依据。     

镀膜玻璃膜层均匀性探讨

本文对镀膜玻璃的膜层均匀性问题作了初步的探讨。侧重于从溅射原子的沉积过程来分析边缘效应对膜层横向均匀性的影响。     

镀膜玻璃膜层均匀性探讨（续）边缘效应对膜层均匀性的影响

本文就边缘效应对膜层的横向均匀性影响提出自己的看法，并通过一定的数学模型进行解析分析，其结果与实测结果有较好的一致性。     

国产晶振膜厚控制仪在镀膜机上实现多层膜半自动化

主要介绍了用国产FCM-II型膜厚控制仪进行多层光学膜的半自动化镀膜使用方法,并用此方法对非1/4λ的多层光学膜进行了速率控制镀膜,得出了比较满意的实验结果.并用此工艺方法做出了批量产品,满足了用户的需要.     

椭球反射镜膜厚均匀性与工艺技术的探讨

讨论了深紫外曝光系统中椭球反射镜镀制装置在薄膜沉积中的镀制条件对膜厚和膜厚均匀性的影响,计算了椭球镜的膜厚均匀性并对如何改善椭球镜膜厚分布作了介绍,实验得到均匀性符合要求的反射镜。     

行星夹具膜厚均匀性分析

利用数学理论模型对平面行星夹具进行膜厚分布分析;然后采用电子束蒸发技术,以常用的Ta2O5和SiO2作为镀膜材料,在该行星夹具上分别沉积一定厚度的Ta2O5和SiO2单层膜,通过对光谱曲线的分析得两种膜料的膜厚的不均匀性都5%,并模拟得出两种膜料大概的蒸发特性n值。为了得到更好的膜厚均匀性,在蒸发源和行星夹具之间加装修正板,同样沉积一定厚度的Ta2O5和SiO2单层膜,此时两种膜料的膜厚的不均匀性减小到1%。     

腔面镀膜分布反馈量子级联激光器

报道了后腔面蒸镀高反射率镀膜工艺及其对分布反馈量子级联激光器性能影响的研究结果.与没有腔面镀膜的器件相比,采用了腔面镀膜工艺的器件,室温下的阈值电流密度降低了20%,前腔面出光峰值功率提高了50%,斜率效率提高了44%.通过对比镀膜和未镀膜器件的闻值电流密度,估算出器件的波导损耗约为7.25cm-1.     

蒸发源位于半球面正下方膜厚分布理论研究

对蒸发源位于非平面基底一半球面正下方时膜厚均匀性进行了理论研究。通过建立无量纲模型计算了此种几何配置下,半球表面在两种常见理想蒸发源下各位置的膜厚公式以及膜厚分布方程。选择基底与蒸发源问较大的距离,可获得更大的可镀膜区域,同时该距离对基底上镀制的膜层厚度分布影响也较大。最后对实用蒸发源的发射系数,对该几何配置下半球面膜厚分布影响进行了理论研究。     

均布载荷作用下变厚度圆锥扁薄壳的非线性稳定性

本文提出含有二参数的变厚度圆锥扁薄壳的厚度函数表达式h=h_0[1+β(r/a)~γ],(γ>0),采用变厚度板壳大挠度理论的修正迭代法,对均布载荷作用下周边固定的变厚度圆锥扁薄壳的非线性稳定问题进行了求解,得到了精度较高的二次近似解析解,所获得的数值结果用图表给出。     

单曲率多面壳体液压胀形壁厚分布研究

本文对单曲率多面壳体胀形过程中壁厚分布规律进行了研究．结果表明单曲率多面壳体胀形成球后壁厚的分布是不均匀的，焊缝附近部分的减薄率较小，甚至取负值，而远离焊缝的部分的减薄率较大。在极带板上最大减薄率发生在中心部位，而在单曲率柱面壳板上最大减薄率发生在经向对称线和纬向对称线的相交部位。     

NiTi形状记忆合金表面改性绝缘膜的研究

用三级反应溅射离子镀法在ＮｉＴｉ形状记忆合金基片上镀制ＴａＮ膜，并在６００℃干燥空气中氧化１ｈ，形成氧化膜。研究了氧化后的ＴａＮ膜的性能及其成分和结构，结果表明：膜完全氧化成ＴａＯ．Ｔａ，Ｎ，Ｏ等在膜中分布比较均匀，它的韧性良好，与基体结合强度高，绝缘性良好；膜－基体间约有４０ｎｍ的离子束混合区。     

镧薄膜表面的激活化学吸附研究

用俄歇谱及分子束技术就地与非就地研究了蒸发稀土金属镧薄膜的表面特性。一种情况是在镀膜机内制作镧薄膜，从镀膜机中取出，暴露在大气中，然后放入超高真空室内进行研究。另一种情况是La薄膜在超高真空室内制备并就地研究。结果表明，两种情况下获得的两样品的俄歇谱图不同。样品1的俄歇谐相当于表面组分主要为La（OH）3，它是由空气中的氧和水汽与表面作用形成的。样品2的俄歇谱相当于表面主要组分为La。少量的La（OH）3是La和超高真空室内的残余H2O作用的结果。用分子束技术对CH4在两样品表面的激活化学吸附特性进行了研究。实验发现初始粘着几率S0强烈地依赖于入射分子束的平动能，并以En＝Ecos2θi表征。在两种情况下都有初始粘着几率随平动能增大而线性增加。当样品表面温度由500K升至700K时，两样品的阈值能和活化能都不随表面温度变化，在相同气体作用下，阈值能和活化能仅由样品本身的结构和性质决定。     

PI薄膜在炭化和石墨化过程中表面结构的喇曼散射研究

研究了ＰＩ（聚酰亚胺）薄膜在不同的炭化和石墨化温度条件下进行热处理所获得的激光喇曼光谱的特征及其结构变化的规律。结果表明，随着热处理温度的升高，试样中归属于Ａ１ｇ和Ｅ２ｇ模式的１３５８ｃｍ＾－１峰和１５７８ｃｍ＾－１散射峰的伸缩振动依赖于杂环稠合苯环所构成的分子结构。在２１００℃以前，碳体的分子结构发生明显变化，有序性增加，无序区减小。当温度达到２８００℃时，该试样梗转变为属于Ｄ６ｈ空间群的六角平     

聚丙烯酸酯-环氧树脂复合涂膜的研究

合成了具有特定表面张力的阳离子型聚丙烯酸酯和胺改性的环氧树脂，并制备成复合电泳涂料，通过电泳涂装制得复合涂膜，傅立叶红外光谱（ＦＴ－ＩＲ）和Ｘ光电子能谱（ＸＰＳＤ）的分析结果表明，涂膜为复合组成，聚丙烯酸酯主要分布在表层，环氧树脂主要分布在底层，而且两种树脂表面张力相差越大、复合涂膜的分层程度越显著。     

聚酰亚胺基碳膜形成过程中表面结构的XPS研究

用Ｘ射线光电子能谱分析方法考察了聚酰亚胺薄膜样品在不同热解阶段的元素组成，相对含量，表面官能团类型所发生的变化，并用曲线拟合分技术对Ｃ１ｓ谱进行了数学处理。结果表明，碳，氮和氧是该样品的基本元素；样品表面的碳大部分为类石黑碳，Ｃ－Ｃ和Ｃ－Ｈ是其主要的其团；氧元素主要与碳连接形成了Ｃ－Ｏ基和Ｃ＝Ｏ基的两种含氧基团；表面的氮则是以Ｃ－Ｎ基的形式存在。     

表面膜对含硼HAl77—2黄铜腐蚀的影响

测定了成膜前后加硼ＨＡｌ７７－２铝黄铜的静态腐蚀速率、脱锌系数和电化学行为，用离子探针分析了铝黄铜表面膜的深度分布。结果表明，表面膜中富集Ｚｎ、Ａｌ、Ｂ；退火形成的表面膜提高了铝黄铜在中性介质中的耐蚀性，但不能提高它在酸性介质性的耐蚀性能。     

梯度功能涂层的剥落现象分析与梯度分布的优化

梯度功能材料的优化设计, 可以转化为梯度分布函数的设计。采用幂函数来描述梯度分布, 使材料优化问题简化为该幂指数(称为梯度指数) 的优化。对梯度功能涂层-基底结构的剥落现象进行了分析, 推广了文献[ 9 ]的结果, 给出了在梯度功能涂层的基底中平行于界面稳态扩展的裂纹的能量释放率和应力强度因子的解析表达式, 并由此计算了最优的梯度分布指数。同时, 还讨论了梯度功能涂层耐高温抗氧化性能与热应力缓和之间的关系。