氢化非晶硅带隙态密度光诱导变化的研究

报导了与Ｓｔａｅｂｌｅｒ－Ｗｒｏｎｓｋｉ效应相关的氢化非晶硅（α－Ｓｉ：Ｈ）带隙态密度的光诱导变化，结果表明光照将使α－Ｓｉ：Ｈ带隙上半部分态密度的分布发生变化，采用ＡＭ１太阳光谱＊光照两小时使得导带迁移率边以下０．７ｅＶ处的带隙态密度从４×１０１６ｃｍ－３ｅＶ－１，增大到１×１０１７ｃｍ－３ｅＶ－１。     

空间电荷限制电流法对a—Si：H隙态密度的测量

本文介绍了用于测量ａ－Ｓｉ：Ｈ隙态密度的空间电荷限制电流（ＳＣＬＣ）法，并报道了采用此方法对ＰＥＣＶＤ方法制备的ａ—Ｓｉ：Ｈ材料隙态密度的测量结果。对ｎ＋ａ—Ｓｉ：Ｈ／ａ—Ｓｉ１Ｈ／ｎ＋ａ—Ｓｉ：Ｈ结构的样品，测量得到费米能级上０．１６ｅＶ间的欧态密度分布为１０１５～１０１８（ｃｍ－３ｅＶ－１）。     

氢化非晶硅局域态电荷密度的解析统一模型

本文发展了一种简明的氢化非晶硅局域态电荷密度统一模型。从ａ－Ｓｉ材料的带隙态密度适配参数分布函数出发，采用Ｓｈｏｃｋｌｅｙ－Ｒｅａｄ－Ｈａｌｌ统计描述，推导出局域态电荷密度统一的解析表达式，该模型同时考虑了带尾局域态和缺陷局域态的作用。     

用改进的调制光电流相移分析技术研究氢化非晶硅的隙态分布

本文提出了一种严格校准调制光电流相移的方法，在此基础上，采用调制光电流相移分析技术研究了不掺杂氢化非晶硅（a-Si：H）薄膜费米能级以上隙态密度及其分布的光致变化效应．实验发现，光电流相移的校准对确定隙态密度及其分布是至关重要的．除了核准测试系统的相移频率特性外，还需考虑样品本身电阻、电容等参数的影响，否则会使隙态密度偏低1～2个数量级；经严格校准的光电流相移测试，a－Si：H的隙态分布在导带边以下约0．43eV处观察到一个峰，可能是双占据悬挂键D-中心引起的．光照引起浅态减少，深态增加，引起了隙态重新分布．     

非晶硅隙态密度的场效应测量分析方法

本文通过引入一个“电场函数”使非晶硅隙态密度的场效应测量的分析大大简化,并确立了从实验测得的电流-电压曲线极小值来确定电子电导与空穴电导的比值的方法,使对场效应测量结果的分析更加方便和可靠.还从Goodman等所采用的四条隙态密度分布曲线出发,计算出各有关参量,证明了不同态密度分布并不能与同一条电流-电压曲线拟合.这说明,如果采用合理的分析方法,是可以根据场效应测量结果来确定隙态密度分布的.     

非晶硅中的缺陷态光吸收谱

<正> 非晶硅薄膜的光学及电学性质与共电子局域态分布紧密相关。为了改进非晶硅薄膜器件的性质,如太阳能电池、薄膜晶体管等,需要低局域态密度的材料,因而测量并了解局域态的性质十分重要。局域态包括带尾态、缺陷态及亚稳缺陷态。本文着重讨论缺陷态及亚稳缺陷态。     

n~+-i-n~+结构的电极附近结区电场对SCLC法确定薄a—Si:H膜隙态密度的影响──计算机模拟分析

将描述电极性质的结区电场选作n~+-i-n~+或(n~+-n-n~+)结构a—Si:H器件电流流动微分方程组的另一对边界条件,应用Runge-Kutta法由初值问题技术解微分方程组得到该器件J-V特性数值解。在此基础上,空间电荷限制电流(SCLC)法推导出不同厚度薄a—Si:H样品隙态密度,证实了其费米能级附近隙态密度G(E_F)随厚度减少而增加是电极附近结区电场引起的。     

非晶硅薄膜光谱响应研究

利用Matlab软件计算了基于本征吸收的非晶硅薄膜的光谱响应,仿真出由多个不同带隙的薄膜组成的非晶硅薄膜的光谱响应,仿真了薄膜厚度、光学禁带宽度参数对非晶硅薄膜光谱响应的影响,设计出一种渐变带隙的非晶硅薄膜。结果表明渐变带隙的非晶硅薄膜能有效拓宽薄膜的光谱响应范围,也能提高光谱中对各个波长的响应值。     

碳纳米管的电子能带结构和态密度研究

为了研究单壁碳纳米管的电子能带特性及其态密度,本文采用紧束缚法和态密度函数,对无限长碳纳米管进行了理论计算和模拟。结果表明:碳纳米管的电子能带结构与其几何结构密切相关,一般认为扶手型管呈现出金属性;而锯齿管则不同,当n=3k(k为整数)时,其能级存在一个较小的禁带宽度,具有半金属性质;而其它锯齿型管均存在较大的禁带宽度,且禁带宽度随管径的增大而减小,具有半导体性质,这为碳纳米管的电子结构的研究提供了必要且有价值的理论依据。     

Amorphous Silicon Films Prepared by Catalytic Chemical Vapor Deposition Method

ＡｍｏｒｐｈｏｕｓＳｉｌｉｃｏｎＦｉｌｍｓＰｒｅｐａｒｅｄｂｙＣａｔａｌｙｔｉｃＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎＭｅｔｈｏｄ①②ＺＨＯＮＧＢｏｑｉａｎｇ，ＨＵＡＮＧＣｉｘｉａｎｇ，ＰＡＮＨｕｉｙｉｎｇ（ＳｈａｎｇｈａｉＩｎｓｔｉｔｕｔｅ...     

采用DOE方法优化非晶硅溅射工艺

文中通过使用DOE实验设计方法对磁控溅射设备a-Si靶工艺特性进行能力研究,给出了该设备工艺随功率、压力、温度的设定条件下a-Si介质生长速率与均匀性的变化关系。结果表明,功率和压力是主要决定速率和均匀性的关键因素,基片温度从室温到300℃,a-Si淀积速率基本不变。降低工艺压力对改善均匀性最为明显;工艺温度和功率的降低虽也可以起到改善均匀性的作用,但效果不明显,且三者的变动同时会导致速率的变化,为今后的生产、开发应用提供了参考意见。     

非晶硅碳薄膜发光二极管的研究现状及趋势

扼要地介绍了非晶硅碳薄膜可见光发光二极管（α－ＳｉＣｘ：ＨＴＦＬＥＤ）及其研究现状，简单地阐述了当前存在的问题，详细地评述了非晶硅碳薄膜发光二极管的发展方向──提高发光亮度、实现彩色显示、大面积化和低热耗，并预期着其有潜在的应用前景。     

Analytical Model for Calculating Trapped Charge in a—Si：H and Its Relative Error Analysis

Using a Taylor series expansion for the Fermi-Dirac occupation func-tion,an accurate analytical model is developed for calculating the trapped-charge density in a-Si:H considering deep and tail states simultaneously without simplification.This is followed by the investigation of the relative errors of the localized trapped charge density in a-Si:H at all temperatures as a function of the quasi-Fermi levll in the band gap cal-culated from three published analytical models and our above model.The results suggest that the relative errors of all these models increase notably as Efn is very closed to Ec(e.g.,-0.01eV相似文献   

Analytical Model for Calculating Trapped Charge in a－Si：H and Its Relative Error Analysis

ＡｎａｌｙｔｉｃａｌＭｏｄｅｌｆｏｒＣａｌｃｕｌａｔｉｎｇＴｒａｐｐｅｄＣｈａｒｇｅｉｎａ－Ｓｉ：ＨａｎｄＩｔｓＲｅｌａｔｉｖｅＥｒｒｏｒＡｎａｌｙｓｉｓＷＡＮＸｉｎｈｅｎｇ；ＸＵＺｈｏｎｇｙａｎｇ；ＺＯＵＸｕｅｃｈｅｎｇ（ＨｕａｎｚｈｏｎｇＵｎｉｖ...     

Solid-phase Crystallization of Amorphous Silicon Films by Rapid Thermal Annealing

The morphous silicon films prepared by PECVD at substrate temperatures of 30℃ have been crystallized by rapid thermal annealing method, the budget of time-temperature in the annealing process is 600℃ for 120s, 850℃ for 120s, and 950℃ for 120s. The results indicate the crystallization at 850℃ and 950℃ are better as shown in micro-Raman scattering and scanning electronic microscope.     

双面抛光单晶硅片少子扩散长度的测量

本文改进了常规表面光电压测试少子扩散长度法,采用环形下电极消除了薄样品背面光电压信号对测量结果的影响;应用阻尼最小二乘法数据处理原理对实验数据进行“曲线拟合”,求出少子扩散长度和背面表面复合速度。本文讨论了该方法的测量范围。     

准分子激光诱导非晶硅晶化制备多晶硅薄膜晶体管

讨论了用准分子激光诱导非晶硅晶化法制备多晶硅薄膜晶体管的结构与工艺优化问题。用 Xe Cl准分子激光器对 PECVD法生长的非晶硅薄膜进行了诱导晶化处理 ,成功制备了多晶硅薄膜晶体管 ,获得最大场效应迁移率为 1 4.5cm2 /V· s,亚阈值斜率为 1 .9V/dec,开关电流比为 1 .0× 1 0 6的器件性能。     

硅光电池中叠加原理的实验验证

在分析硅光电池的电特性时,一般认为光生电压等效于无光照时PN结的正向偏压,即有叠加原理成立。但未见有人对此作过实验验证,本文报道了对三种不同的硅光电池的测量结果,证明叠加原理基本是正确的,但也存在一些问题需要进一步研究。