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《电镀与涂饰》2015,(19)
从化学镀钯反应机理入手,分析了影响化学镀钯质量的工艺参数,并运用DOE(试验设计)中的健壮设计实验方法,对这些参数进行了优化,获得了新型ENEPIG(化学镀镍、钯与浸金)印制电路板生产中化学镀钯的最优化工艺参数:氯化钯质量浓度2.2 g/L,次磷酸钠质量浓度13.2 g/L,氨水体积分数165 m L/L,温度55°C,p H 9.6,氯化铵质量浓度33 g/L。验证试验表明,应用优化后的化学镀钯工艺时,钯的沉积速率均值从原来的0.64 mg/(cm2·min)提升到4.83 mg/(cm2·min),分散度也有明显改善。经过大样本量验证,试验具有良好的重复性和再现性。 相似文献
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为了替代传统的含钯敏化活化工艺,实现碳纤维表面无钯化学镀银,选择安全环保的多巴胺溶液来活化碳纤维。利用多巴胺溶液独特的自氧化聚合功能,首先采用浸泡法在碳纤维表面形成聚多巴胺活化层,然后以硝酸银为主盐,葡萄糖为还原剂,直接在碳纤维表面化学镀银。文中研究了硝酸银质量浓度、葡萄糖质量浓度、装载量对银的利用率和导电性的影响,并采用SEM和EDS对镀层表面形貌和成分进行分析。结果表明:多巴胺溶液活化碳纤维后,可以直接在碳纤维表面化学镀银。在固定反应温度50℃,反应时间1 h条件下,硝酸银质量浓度为15 g/L,葡萄糖质量浓度为30 g/L,装载量为4 g/L时溶液中银利用率最高,利用率可高达71.5%。所制备的镀银碳纤维的体积电阻率为0.74 mΩ·cm,银镀层致密均匀、无脱落现象。 相似文献
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胶体钯活化液是美国学者Shipley于1961年首先研究成功的,它的催化活性和由此获得的化学镀层与非金属基体的结合力远优于敏化——活化两步法,取得了极其广泛的应用。胶体钯活化液的组成一般为: 氯化钯氯化亚锡盐酸(37%) 锡酸钠 1g/l 75~80g/l 300ml/l 7g/l Shipley的胶体钯活化液(也叫酸基型胶体钯)含有大量的盐酸,使用时工作条件差又污染了环境,因而提出了用氯化钠代替大部分盐而配制了盐基型胶体钯。这样便大大地改善 相似文献
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采用一种新型无锡活化工艺,即利用乙二醇作还原剂直接使Pd2+被还原成Pd0而沉积在基体上,实现了对γ-Al2O3粉体的活化.将活化后的γ-Al2O3粉体加入到两种钯镀液中,成功实现了γ-Al2O3粉体上的化学镀钯.研究了活化的机理以及化学镀前后γ-Al2O3粉体结构与表面形貌的变化,结果表明通过新型化学镀方法制备出的镀钯粉体1-Pd/Al2O3中钯粒子的粒径在20-30nm,并且粒径大小分布均匀.新型无锡活化工艺与传统的化学镀活化工艺相比,活化过程中无锡离子干扰,并且活化在中性条件下进行,基体不受损坏. 相似文献
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利用二氯化钯(PdCl2)溶液浸渍法,研究了二氧化钛(TiO2)厚膜钯(Pd)原子表层扩散对氧气响应特性的影响.扫描电子显微镜显示:Pd扩散后厚膜表面均匀分布着纳米级Pd晶粒.利用Kroger-Vink方程分析了不同扩散时间下对应的lnR-lnpo2曲线,针对不同斜率的曲线,用缺陷方程分析了Pd元素的分布状态.样品响应特性的伏安法测试结果显示:820℃,2h扩散的敏感膜具有理想灵敏度和响应时间.研究结果表明:Pd元素在敏感膜表面形成了纳米级Pd晶粒,并在TiO2厚膜表层中存在着少量的钯间隙原子(Pdi)及替位钯离子(Pd2 ).合理的扩散温度和扩散时间,可获得表层Pd氧化量最少、扩散浓度合适的敏感膜,进而获得效果理想的厚膜氧敏材料. 相似文献
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氯化钯催化活性的研究 总被引:5,自引:0,他引:5
对氯化钯在塑料表面化学镀铜和镀镍中催化活性进行了研究,着重考察了影响氯化钯催化活性的主要因素,如:催化剂载体、前处理液酸度、PdCl2的浓度、操作温度和处理时间等等,还简要讨论了氯化钯活化作用的机理。 相似文献
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论文采用氢氧化钠(NaOH)溶液对Vecstar型热致液晶高分子(TLCP)膜表面进行刻蚀粗化,然后通过3-氨丙基三乙氧基硅烷(KH550)在膜表面引入氨基,利用氨基络合银离子使膜表面活化,再进行无钯化学镀铜,提升了TLCP膜与金属铜之间的黏附力。借助扫描电子显微镜(SEM)、接触角测量仪、X射线衍射仪(XRD)和剥离测试等对经表面处理及化学镀铜后的TLCP膜进行表征,探讨了NaOH溶液浓度、表面粗化温度和时间、活化溶液组成等对TLCP表面化学镀铜的影响。结果表明,经表面处理后TLCP膜表面产生均匀的孔洞,接触角下降至29.30°,亲水性大幅提高;所镀铜层呈光亮的粉色,带有金属光泽,致密平滑,纯度高,镀层厚度可达2.78μm,与TLCP膜间的附着力等级达到了5B。 相似文献
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